专利名称：配向膜平台、配向膜制程及配向膜制程设备的制作方法
技术领域：
本发明有关一种配向膜平台以及配向膜制程，特别是有关一种具有承载部的配向膜平台。
背景技术：
通过电压控制液晶的状态，可使背光组件的光以所需的偏振方向穿透液晶层，藉以于液晶屏幕的画面呈现出不同色泽与图样。而当灌注液晶时，各液晶可藉由配向膜的配向作用，而使各个液晶分子呈现出规律的排列方式，并配合电路的分布以操作电压显示出所需的画面。所以配向膜的状态好坏，是决定一液晶屏幕的画面显示品质好坏与否的重要因素之一。
当欲使一配向膜具有对液晶进行配向的功能时，需将配向膜设置于一基板上，再利用一配向杆的摩擦作用，使配向膜受到固定方向的延伸力，而使液晶分子在灌注于配向膜表面时呈现整齐排列的状态。
一配向膜(未图示)被设置于一配向膜基板11的表面，如图1所示，此配向膜基板11被放置于一配向膜平台13之上，并藉由配向杆15滚过配向膜基板11表面上的配向膜，即可使配向膜依固定方向延伸，而产生使液晶分子配向的能力。
配向杆15具有一杆体151与一配向结构153，配向结构153的材质通常为布毛，亦即其可由一摩擦布所组成。在进行摩擦动作时，由于配向膜基板11的厚度a1很薄，故当配向结构153进行作用的厚度b1较配向膜基板11的厚度a1为厚时，除了容易因配向结构153受配向膜基板11表面边缘的摩擦而产生毛屑17(或其他污染物)脱落的情形外，更可能因配向结构153接触到配向膜平台13的边缘与表面而产生毛屑17(或其他污染物)。故除了配向结构153容易因过度的摩擦而减短使用寿命、增加制程上多余的成本外，更可能因毛屑17或存在于制程空间中的落尘不慎地落到配向膜基板11之上而污染了配向膜，降低制程上的良率。
故为减轻上述问题的影响，可如图2所示那样，藉由于配向膜基板11与配向膜平台13之间设置一具有厚度c1的软垫19，以垫高配向膜基板11(即使(a1+c1)＞b1)，并防止配向结构153因接触到配向膜平台13而减少配向杆15的使用寿命、降低配向膜制程的良率。
然而，却因软垫19在使用一段时间后即需进行更换，而易导致成本的增加。且若于更换软垫19时不慎因毛屑17(或其他污染物)未清除干净，而使毛屑17存在于软垫19与配向膜平台13之间，造成软垫19表面不平坦的情形时，则可能在进行配向膜制程时影响到配向杆15滚动的状态，继而影响良率。再如上即使能减少毛屑17(或其他污染物)的产生，却由于配向杆15仍会摩擦到配向膜基板11的表面，故仍无法妥善解决毛屑17(或其他污染物)污染配向膜，而降低良率的情形。
如上所述，需发展出一种配向膜平台以及一种配向膜制程，以增加配向膜制程的良率以及延长配向杆的使用寿命。
发明内容
本发明的一目的为提供一配向膜平台以应用于配向膜制程中，以克服已有技术所具的缺点。
本发明的另一目的为提供一配向膜平台以及一配向膜制程，藉由配向膜平台整体结构的改变，减少软垫的使用，进而降低成本。
本发明的又一目的为提供一配向膜平台以及一配向膜制程，藉由不同态样或不同尺寸大小的集污结构减少污染配向膜的机率，增加配向膜制程的良率。
本发明提供一种配向膜平台与配向膜制程，配向膜平台具有一座体与一承载部；承载部设置于座体之上，且承载部的面积小于座体的面积。配向膜可放置于承载部之上，以进行配向膜制程。且配向膜平台还包含有一设置于座体的集污结构，以连接一抽气设备。
为进一步说明本发明之上述目的、结构特点和效果，以下将结合附图对本发明进行详细的描述。
图1是已有的配向膜平台的示意图；图2是已有的搭配有一软垫的配向膜平台示意图；图3是本发明的第一实施例的示意图；图4是本发明的第二实施例的示意图；以及图5是本发明的配向膜制程的流程图。
具体实施例方式
本发明提供一配向膜平台以及应用配向膜平台的配向膜制程，将于以下详述。本发明实施例是以解决先前技术所述的问题为主，但本发明所具的专利范围，并不以下述的附图与实施例的描述为限，而应以所申请的专利范围与精神为准。
本发明的第一实施例如图3所示，配向膜制程设备具有配向结构253与配向膜平台。将设置于配向膜基板21上的配向膜211放置于配向膜平台23之上，以进行配向膜的制程；配向膜平台23具有一座体231与一承载部233，于此实施例中，承载部233与座体231为一体成型，而承载部233的面积小于座体231的面积。
于此实施例中，配向杆25具有包覆杆体251的配向结构253；当在以配向结构253作用于配向膜211，亦即对配向膜基板21进行摩擦动作时，由于承载部233的面积小于配向膜基板21，且藉由控制配向膜基板21的厚度a2、配向杆25的作用厚度b2(亦即配向结构253的作用厚度)以及承载部233的厚度c2间的关系，亦即配向杆25接触到配向膜基板21时满足(a2+c2)＞b2的条件，使作用厚度b2小于配向膜基板21的顶端到座体231表面2311的距离；如此，便可在充份利用配向结构253的条件下，减少配向结构253接触到座体231表面2311的机会，进而减少配向结构253因与座体231的表面2311摩擦而增加毛屑。
又因承载部233与座体231为一体成型，所以不需如已有的技术那样必须注意到软垫19的使用状态，或是因更换软垫19而增加制程上的成本。
另外，还可于座体231设置集污结构29，以清理或吸附毛屑、落尘或其他污染物，故藉由清理或吸附毛屑与落尘，防止掉落于配向膜平台23上的毛屑与落尘掉落于配向膜基板21之上，继而使制程具有稳定甚或更好的良率。
于此实施例中，集污结构29为一凹入于座体231的集污槽，且为穿孔的态样，贯穿于座体231；其可藉由各种方法达到清理毛屑的效果，其中一种方式即为藉由连接清洁设备，如一抽气设备31以进行清理作用，以通过抽气设备31的吸附力，吸附进入抽气设备31的吸附力可及的处的毛屑或落尘，而达到清洁的效果。而于此实施例中，抽气设备31系为一真空吸尘器。
于第一实施例中，集污结构29形成于座体231之上，然而，集污结构29所形成之处并不仅限于座体231，其可视配向膜平台23的整体设计改变集污结构29的形成位置或数量的多寡，甚至搭配其他方式以更为改进配向膜平台23的清洁程度。本发明的第二实施例如图4所示，可依照毛屑或落尘掉落的位置而设计不同尺寸大小的复数个集污结构29，其形状为圆形，使最容易有毛屑或落尘掉落处的集污结构29的尺寸较大，以具有较强的吸附力以及较大范围的集污结构；另外亦可增设尺寸较小的集污结构29以防尺寸较小的毛屑或落尘飘落至其他地方，而更妥善地维持配向膜平台23的清洁。另外，亦可配合配向膜平台23的整体设计，而依需求设计具有不同尺寸大小的不同形状集污结构291，其中，集污结构291的形状为方形。
本发明的配向膜制程可如图5所示，如步骤33，提供一配向杆。再如步骤35，于本发明的配向膜平台上放置一配向膜基板。随后，则如步骤39所示，启动一清洁动作，以清洁毛屑或落尘；而启动清洁动作的方式，则可如步骤391所示，启动连接于集污结构的抽气设备，以从集污结构吸附毛屑或落尘，进而达到清洁的效果。之后，再如步骤41，以配向杆的配向结构作用于配向膜，而以完成配向膜制程。
本发明的配向膜平台可减少已有技术中软垫的使用，而降低因软垫而花费于制程上的成本，且可藉由不同态样或不同尺寸的集污结构的作用，有效减少毛屑或落尘污染配向膜的机率，进而稳定甚或增进配向膜的良率。而通过本发明的配向膜制程，则可有效提升配向膜的良率。
虽然本发明已参照当前的具体实施例来描述，但是本技术领域中的普通技术人员应当认识到，以上的实施例仅是用来说明本发明，在没有脱离本发明精神的情况下还可作出各种等效的变化或替换，因此，只要在本发明的实质精神范围内对上述实施例的变化、变型都将落在本申请的权利要求书的范围内。
权利要求
1.一种配向膜平台，其特征在于包含一座体，其上具有一承载部，且该承载部的面积小于该座体的面积；以及一集污结构，位于该座体上的该承载部外缘。
2.如权利要求1所述的配向膜平台，其特征在于该集污结构为一凹入于该座体的一集污槽。
3.如权利要求2所述的配向膜平台，其特征在于该集污槽呈穿孔的态样，贯穿于该座体。
4.如权利要求2或3所述的配向膜平台，其特征在于该集污槽具有大小不同的样式，且可散布配置于该座体上。
5.如权利要求2或3所述的配向膜平台，其特征在于该集污结构还包含一抽气设备，该抽气设备与该集污槽的末端相连结。
6.一种配向膜制程，其特征在于包括以下步骤提供一配向杆；于一配向膜平台上放置一配向膜基板；启动一清洁动作，以清洁毛屑或落尘，其启动清洁动作的方式，为连接于集污结构的抽气设备，以从集污结构吸附毛屑或落尘，进而达到清洁的效果；以及以配向杆的配向结构作用于配向膜，以完成配向膜制作。
7.一种配向膜制程设备，其特征在于包含一配向结构，用以作用于一配向膜；以及一配向膜平台，其具有一座体，其上具有一承载部，且该承载部的面积小于该座体的面积；以及一集污结构，位于该座体上的该承载部外缘；其中，于进行该配向膜的制程时，该配向膜是放置于该承载部上。
8.如权利要求7所述的配向膜制程设备，其特征在于该配向结构是由一摩擦布组成。
全文摘要
一种配向膜平台与配向膜制程，其中，配向膜平台具有一承载部设置于一座体上。一配向膜放置于承载部之上，承载部的面积小于座体的面积。且于座体的承载部外缘，则设置有集污结构。
文档编号G02F1/1337GK1584711SQ20041004890
公开日2005年2月23日 申请日期2004年6月9日 优先权日2004年6月9日
发明者何岳暾, 张景雄 申请人:友达光电股份有限公司