专利名称：半穿透半反射式液晶显示面板及其制造方法
技术领域：
本发明是关于一种半穿透半反射式液晶显示面板及其制造方法。
背景技术：
液晶显示装置因其具有轻薄、省电、无辐射等优点，已广泛应 用在各种信息、通讯、消费性产品之中，随着相关技术的成熟与创 新，其种类日益繁多。根据液晶显示装置所利用光源的不同，液晶 显示装置可分为穿透式液晶显示装置与反射式液晶显示装置。穿透 式液晶显示装置须在液晶显示面板背面设置 一 背光源以实现图像显 示，然而，背光源的耗能约占整个穿透式液晶显示装置耗能的一半， 所以穿透式液晶显示装置的耗能较大。反射式液晶显示装置能解决 穿透式液晶显示装置耗能大的问题，但是在光线微弱的环境下很难. 实现图像显示。半穿透半反射式液晶显示装置能解决以上的问题。半穿透半反射式液晶显示装置的主要组成部分为半穿透半反射 式液晶显示面板，所以该半穿透半反射式液晶显示面板的性能直接 影响该半穿透半反射式液晶显示装置的显示效果。请参考图1,其是一种现有技术半穿透半反射式液晶显示面板的 结构示意图。该半穿透半反射式液晶显示面板1包括相对设置的一第一基板ll、 一第二基板12和一夹于该第一、第二基板ll、 12之间的液晶层13。该第一基板ii包括一玻璃基底no及依次层叠设置在该玻璃基底110上的一绝缘层111、 一钝化层112、 一透明电极 层113、 一有机层114和一金属层116。其中，该有机层114上具有 多个突起1141。该金属层116是反射电极，该有机层114与该金属 层116对应反射区域，该透明电极层113上未被该有机层114覆盖 的部分对应穿透区域。 请参考图2 ，其是图1的半穿透半反射式液晶显示面板制造方法 的流程图，其包括以下步骤步骤S10:提供一第一基板11，该第一基板11包括一玻璃基底110;步骤Sll:依序沉积一绝缘层111、 一钝化层112、 一透明电极 层113、 一有机层114和一光阻层在该玻璃基底IIO上；步骤S12:曝光并显影该光阻层，提供一光罩，该光罩具有孔状 图案，通过该光罩对该光阻层进行曝光、显影，从而形成一光阻图 案；步骤S13:蚀刻该有4几层114和形成多个突起1141，使该有机 层114与光阻图案一致，且在该有机层114表面形成多个突起1141; 步骤S14:去除光阻图案；步骤S15: —并沉积一金属层116和一光阻层在该有机层114 及钝化层112上；步骤S16:曝光并显影该光阻层，提供一光罩，通过该光罩对该 光阻层进行曝光、显影，从而形成一光阻图案；步骤S17:蚀刻该金属层116，使其与光阻图案一致，该金属层 116覆盖在该有机层114上形成反射电极，该有机层114与该金属 层116对应反射区域，该透明电极层113上未被该有机层114覆盖 的部分对应穿透区域；步骤S18:去除光阻图案； 步骤S19:滴注液晶；步骤S110:提供一第二基板12，压合该第一、第二基板ll、 12 以形成半穿透半反射式液晶显示面板1。该半穿透半反射式液晶显示面板1为形成反射电极区域，先在 该透明电极层113上沉积一有机层114，再在该有机层114上设置 一金属层116,该过程需两道光罩制程，其制程复杂，成本高。发明内容为了克服现有技术中平面显示器框架对不同尺寸显示面板的兼 容性低的问题，本发明提供一种可收容不同尺寸显示面板、尺寸可 调整的平面显示器框架。有鉴于此，有必要提供一种制程简单、成本低的半穿透半反射 式液晶显示面板。以及提供 一 种该半穿透半反射式液晶显示面板的制造方法。 一种半穿透半反射式液晶显示面板，其包括相对设置的一第一 基板、 一第二基板和一夹于该第一、第二基板之间的液晶层，该第 一基板包括一玻璃基底和依次层叠设置在该玻璃基底上的一第 一钝 化层及一电极层。其中，该电极层具有一微粗糙表面，在该电极层 上设置一第二钝化层，该第二钝化层表面因该微粗糙表面形成有多 个突起，该第二钝化层具有反射特性。一种半穿透半反射式液晶显示面板制造方法，其包括以下步骤 提供一第一基板，该第一基板包括一透明基底；依序设置一绝缘层、 一第 一钝化层和一电极层在该透明基底上；形成一微粗糙表面在该 电极层表面；沉积一第二钝化层在该电极层上，该第二钝化层具有 反射特性，因该电极层的微粗糙表面，所以该第二钝化层相对于该 微粗糙表面形成有多个突起，该第二钝化层具有反射特性；设置一 光阻在该第二钝化层上，并提供一光罩，通过该光罩对该光阻层进 行曝光、显影，从而形成一光阻图案；透过该光阻图案蚀刻该第二 钝化层；去除该光阻图案；注入液晶；提供一第二基板并压合该第 一、第二基板。相较于现有技术，因为该钝化层本身具有一定的反射特性，该 多个突起也增加其反射率及散射率，所以通过该钝化层可实现对光 束的反射。该半穿透半反射式液晶显示面板仅在该电极层上形成具 多个突起的第二钝化层，为形成反射区域与穿透区域，在第一基板 上只需一道光罩制程，所以制程简单、成本低。
图1是一现有技术半穿透半反射式液晶显示面板的结构示意图。
图2是图1的半穿透半反射式液晶显示面板制造方法的流程图。 图3是本发明半穿透半反射式液晶显示面板第一实施方式的结 构示意图。图4是图3的半穿透半反射式液晶显示面板制造方法的流程图。 图5是本发明半穿透半反射式液晶显示面板第二实施方式的结 构示意图。图6是本发明半穿透半反射式液晶显示面板第三实施方式的结 构示意图。图7是本发明半穿透半反射式液晶显示面板第四实施方式的结 构示意图。
具体实施方式
请参考图3，其是本发明半穿透半反射式液晶显示面板第一实 施方式的结构示意图。该半穿透半反射式液晶显示面板2包括相对 设置的一第一基板21、 一第二基板22和一夹于该第一、第二基板 21、 22间的液晶层23。该第 一基板21包括一玻璃基底210和依次 层叠设置在该玻璃基底210上的一绝缘层211、 一第一钝化层212、 一电极层213及一第二钝化层216。其中，该电极层213是氧化铟锡透明电极，该第二钝化层216 是非晶氮化硅，该第二钝化层216所对应的区域为反射区域，该电 极层213上未被该第二钝化层216覆盖的部分所对应的区域为穿透 区域。该电4及层213具一微粗糙表面2131,该;微粗糙表面2131的 起伏范围介于0~100埃，其是由氢电浆轰击而成。该第二钝化层 216背离于该电极层213的微粗糙表面2131形成有多个突起2161, 该多个突起2161大小相异，呈不规则排列。该多个突起2161具有 反射性，其反射率为30%，且该多个突起2161的反射性能与其大 小对应。请参考图4,其是图3的半穿透半反射式液晶显示面板制造方 法的流程图，其包括以下步骤步骤S20:提供一第一基板21,该第一基板21包括一玻璃基
图2A至2B绘示根据本发明另一实施例的一种定位结构上有光电介质
液滴的制造方法的剖面筒图。
图2C绘示根据图2A中的实施例的一种第二基板上具有定位结构的制
造方法的剖面简图。
图3A至3B绘示4艮据本发明又一实施例的一种定位结构上具有光电介
质液滴的制造方法的剖面简图。
图3A，绘示根据本发明又一实施例的一种定位结构的剖面简图。 图4A绘示根据本发明一个实施例的可挠式光电薄膜的剖面简图。 图4B绘示根据本发明另一实施例的可挠式光电薄膜的剖面简图。 图5绘示根据本发明一个实施例的具有双层光电介质结构的可挠式光电
薄膜的剖面筒图。
图6A绘示根据本发明又一实施例的具有双层光电介质结构的可挠式光 电薄膜的剖面简图。
图6B绘示根据本发明再一实施例的具有双层光电介质结构的可挠式光
电薄膜的剖面简图。
附图标记说明
100、 200、 300、 400、 500、 600、700、800、900:基板
102、 202、 302、 402、 502、 602、702、802、902:导电层
104、 204、 304、 404、 504、 604、704、804、904:定位结构
104a、 204a、 306a、 604a、 704a:材料层
104b、 204b、 804b:间隙
106、 310、 510、 606、 706、 806、906:光电介质液滴108:反应;容液
110、 512、 608、 708、 808、 908:膜壁
150、 250、 350、 450、 550、 650、750、850、1050、 1150:目标区
152、 252、 352、 452、 552、 652、752、852、1052、 1152:周边区
206:高分子层
306、 406、 508、 508a:材料层
308、 408:间隔图案层
506:壁式图案层
采用其它注入方式。请参考图5,其是本发明半穿透半反射式液晶显示面板第二实施 方式的结构示意图。该半穿透半反射式液晶显示面板3与第一实施 方式的半穿透半反射式液晶显示面板2的区别在于在第二钝化层 316上进一步设置有一有机层317,该有机层317使液晶层33形成 有不同的厚度。其中，穿透区域液晶层33的厚度大于反射区域液晶 层33的厚度，为反射区域液晶层33的厚度的两倍。请参考图6，其是本发明半穿透半反射液晶显示面板第三实施方 式的结构示意图。该半穿透半反射式液晶显示面板4采用边缘电场 开关(Fringe Field Switching, FFS)广视角技术，其包括相对设置的一 第一基板41、 一第二基板42和一夹于该第一、第二基板41、 42之 间的液晶层43。该第一基板41包括一玻璃基底410和依次层叠设 置在该玻璃基底410上的一第一电极层413、 一第一钝化层414、 一 第二电极层415及一第二钝化层416。该第一、第二电极层413、415 的电性相反。该第二电极层415与该第二钝化层416对应层叠设置， 并在该第一钝化层414上形成多个间隔设置的区域。其中，该第一电极层413是氧化铟锡透明电极，该第二钝化层 416是非晶氮化硅，该第二钝化层416所对应的区域为反射区域， 该第一电极层413上未被该第二电极层415及该第二钝化层416覆 盖的部分所对应的区域为穿透区域。该第二电极层415与该第二钝 化层416接触的表面是一微粗糙表面4151，该微粗糙表面4151的 起伏范围介于0~ 100埃，其是由电浆轰击而成。该第二钝化层416 背离于该第二电极层415的微粗糙表面4151形成有多个突起4161， 该多个突起4161大小相异，呈不规则排列。该多个突起4161具有 反射性，其反射率为30%,且该多个突起4161的反射性能与其大 小对应。请参考图7，其是本发明半穿透半反射液晶显示面板第四实施方 式的结构示意图。该半穿透半反射式液晶显示面板5与第三实施方 式的半穿透半反射式液晶显示面板4的区别在于在第二钝化层5 16 上进一步设置有一有机层517，该有机层517使液晶层53形成有不同的厚度。其中，穿透区域液晶层53的厚度大于反射区域液晶层53的厚度，为反射区域液晶层53的厚度的两倍。
权利要求
1.一种半穿透半反射式液晶显示面板，其包括相对设置的一第一基板、一第二基板和一夹于该第一、第二基板之间的液晶层，该第一基板包括一玻璃基底和依次层叠设置在该玻璃基底上的一第一钝化层及一电极层，其特征在于该电极层具有一微粗糙表面，在该电极层上设置一第二钝化层，该第二钝化层表面因该微粗糙表面形成有多个突起，该第二钝化层具有反射特性。
2. 如权利要求1所述的半穿透半反射式液晶显示面板，其特 征在于该微粗糙表面的起伏范围介于0~ 100埃，该多个突起大 小相异且呈不规则排列，该多个突起的反射率与其大小对应。
3. 如权利要求2所述的半穿透半反射式液晶显示面板，其特 征在于该第二钝化层对应反射区域，该电极层上未被该第二钝 化层覆盖的部分对应穿透区域。
4. 如权利要求3所述的半穿透半反射式液晶显示面板，其特 征在于该穿透区域的液晶层厚度等于该反射区域的液晶层厚度。
5. 如权利要求3所述的半穿透半反射式液晶显示面板，其特 征在于进一步包括一有机层对应设置在该第二钝化层上，该穿 透区域的液晶层厚度大于该反射区域的液晶层厚度。
6. 如权利要求3所述的半穿透半反射式液晶显示面板，其特 征在于进一步包括另一电极层设置在该第一钝化层与该第一基 板之间，该二电极层分别是第一、第二电极层，该第一、第二电 极层的电性相反。
7. 如权利要求6所述的半穿透半反射式液晶显示面板，其特 征在于该穿透区域的液晶层厚度等于该反射区域的液晶层厚度。
8. 如权利要求6所述的半穿透半反射式液晶显示面板，其特 征在于进一步包括一有机层对应设置在该第二钝化层上，该穿 透区域的液晶层厚度大于该反射区域的液晶层厚度。
9. 一种半穿透半反射式液晶显示面板制造方法，其包括以下 步骤 提供一第一基板，该第一基板包括一透明基底； 依序设置一绝缘层、 一第一钝化层和一电极层在该透明基底上；形成一微粗糙表面在该电极层表面；沉积一第二钝化层在该电极层上，该第二钝化层具有反射特 性，因该电极层的微粗糙表面，所以该第二钝化层相对于该微粗 糙表面形成有多个突起，该第二钝化层具有反射特性；设置一光阻在该第二钝化层上，并提供一光罩，通过该光罩 对该光阻层进行曝光、显影，从而形成一光阻图案；透过该光阻图案蚀刻该第二钝化层；去除该光阻图案；注入液晶；提供一第二基板并压合该第一、第二基板。
10.如权利要求9所述的半穿透半反射式液晶显示面板制造方 法，其特征在于该微粗糙表面是通过电浆轰击该电极层所致， 该第二钝化层是由化学气相沉积所得。
全文摘要
本发明提供一种半穿透半反射式液晶显示面板及其制造方法。该半穿透半反射式液晶显示面板包括相对设置的一第一基板、一第二基板和一夹于该第一、第二基板之间的液晶层，该第一基板包括一玻璃基底和依次层叠设置在该玻璃基底上的一第一钝化层及一电极层。其中，该电极层具有一微粗糙表面，在该电极层上设置一第二钝化层，该第二钝化层表面因该微粗糙表面形成有多个突起，该第二钝化层具有反射特性。
文档编号G02F1/1343GK101109861SQ200610061750
公开日2008年1月23日 申请日期2006年7月21日 优先权日2006年7月21日
发明者林育正, 王峻禹, 陈鹊如 申请人:群康科技(深圳)有限公司;群创光电股份有限公司