专利名称：滤色片基板及其制造方法
技术领域：
本发明涉及一种显示装置，并尤其涉及一种用于防止液晶显示(LCD)装置边缘出现亮度故障的滤色片基板及其制造方法。
背景技术：
由于现代社会正转变为面向信息的社会，LCD显示装置正成为人们注意的中心。到目前为止被广泛使用的阴极射线管(CRTs)在性能和价格方面都具有优势，但其在小型化和便携性方面也存在诸多不足之处。相反，LCD装置具有小型化，低重量，外形轻薄以及低功耗的优点，并作为克服CRTs缺陷的替代品而引起人们注意。
图1所示为现有技术中LCD装置局部示意图。在图1中，LCD装置包括滤色片基板22，薄膜晶体管(TFT)基板21以及液晶层17。滤色片基板22包括第一绝缘基板20，在第一绝缘基板20上由铬(Cr)或树脂构成的黑矩阵13，以及在黑矩阵13网格中间形成的具有红(R)、绿(G)和兰蓝(B)滤色片元件的滤色片层15。另外，在包括黑矩阵13和滤色片层15的第一绝缘基板20的整个表面上设置由透明导电金属构成的公共电极11。并且，面向滤色片基板22的TFT基板21包括用于限定单元像素区域的多条栅线1和与多条栅线1交叉的多条数据线3，作为开关元件的薄膜晶体管(TFT)5以及在第二绝缘基板10上的像素电极9。
具有上述结构的LCD装置通过像素电极9和公共电极11间所产生的电场来旋转液晶层17的液晶分子以控制透光率。该光经过R、G和B滤色片层15后显示彩色图像。
图2是根据现有技术中LCD装置的滤色片基板的平面图，图3是沿图2的I-I’线方向的截面图。在图2中，滤色片基板包括在基板30上具有网格结构的黑矩阵31。在黑矩阵31的网格之间设置R、G和B彩色树脂以形成红(R)，绿(G)和蓝(B)滤色片层35a，35b和35c。黑矩阵31为网格的形状，并且红(R)，绿(G)和蓝(B)滤色片层35a，35b和35c被放置在黑矩阵31的网格之间。R，G和B滤色片层35a，35b和35c具有相同的厚度。
然而，具有上述结构的滤色片基板在边缘区域出现亮度故障。例如，边缘区域会比其他区域更加明亮。由于一个或多个下面所给出的不同原因可能导致亮度故障是。首先，对应滤色片层边缘区域的TFT基板的像素电极与诸如中央区域的像素电极的其他区域的像素电极相比较具有较少的相邻像素电极。这样，位于边缘区域的像素电极所产生的电场便与位于非边缘区域的像素电极所产生的电场不同，从而导致亮度故障。该亮度故障可发生在面板的四个边缘区域，如上边缘、下边缘、右边缘以及左边缘。
另外，由位于TFT基板上或滤色片基板上的定向层的定向故障也可能引起亮度故障。例如，研磨处理确定了定向层意欲排列的方向。然而由于边缘部分的高度差异，导致研磨处理不能在定向层的边缘部分确定意欲排列的方向。这样，在边缘区域的液晶分子与在其他区域的液晶分子不能以相同的方式进行排列。因此，在显示器的四边会产生不一致的亮度，如上边缘、下边缘、右边缘以及左边缘。
此外，在栅存储(storage-on-gate)型LCD装置中，伪栅线与沿TFT基板的第一栅线像素电极重叠，并且将栅低电压Vgl的预定值施加到伪栅线上以在对应于第一栅线的像素电极中形成存储电容。然而，对于对应于除第一条栅线以外的像素电极，在施加脉冲电压的第(N-1)条栅线和对应于第N栅线的像素电极之间产生存储电容。因此，对应于第一栅线的像素电极的存储电容与其他像素电极的存储电容是不同的，从而导致在上边缘区域亮度不均。
再者，与其他数据线不同的是，第一数据线与最后数据线具有没有相邻像素电极的不对称结构。具体地，在第一数据线和对应于第一数据线的像素电极间产生的Cdp值和最后数据线和对应于最后数据线的像素电极间产生的Cdp值与其他数据线和对应于其他数据线的像素电极间产生的Cdp值不同。由于Cdp值影响着每个像素电极的存储电容，由此在侧面边缘部分产生亮度故障，例如在第一数据线与最后数据线的区域。
发明内容
因此，本发明提供一种滤色片基板及其制造方法，其可以基本上克服由于现有技术的限制和不足所造成的一个或多个问题。
本发明的目的在于提供一种用于改善边缘区域亮度均匀性的滤色片基板及其制造方法。
发明的附加特征和优点将在以下的描述中得以阐明，一部分通过说明书对于熟悉本领域的技术人员显而易见，或者通过实践本发明来认识它们。本发明的目的和其他优点可通过书面描述及其权利要求以及附图中具体指出的结构来实现和得到。
正如本发明所描述的，为了实现上述优点并根据本发明的目的，基板包括在基板上的第一滤色片层，以及在该基板上的第二滤色片层，所述第一滤色片层具有与所述第二滤色片层不同的厚度。
根据本发明的另一个方面，基板包括在基板上的滤色片元件，该基板包括第一传输区域，第二传输区域以及第三传输区域，所述第一传输区域的透光率低于所述第二传输区域，并且所述第三传输区域在基本上用于阻挡光线。
根据本发明的另一个方面，一种制造基板的方法包括在基板上形成第一滤色片层和第二滤色片层，所述第一滤色片层具有与所述第二滤色片层不同的厚度。
应该理解，上面的概括性描述和下面的详细描述都是示意性和解释性的，意欲对本发明的权利要求提供进一步的解释。
包含用来提供本发明进一步理解并结合进来组成本申请一部分的附图，其示出了本发明的实施方式，并和说明书一起用于解释本发明的原理。其中图1所示为根据现有技术所述的LCD装置的局部示意图；图2所示伪根据现有技术中LCD装置的滤色片基板的平面图；图3是图2沿I-I’方向的截面图；图4是根据本发明实施方式的LCD装置的滤色片基板的平面图；图5A是图4沿II-II’方向的截面图；图5B是图4沿III-III’方向的截面图；
图5C是图4沿IV-IV’方向的截面图；图5D是图4沿V-V’方向的截面图；图6A至6D表示根据本发明不同实施方式的单元滤色片层的结构示意图；图7是根据本发明其他实施方式的LCD装置的滤色片基板的平面图；图8A是图7沿VI-VI’方向的截面图；图8B是图7沿VII-VII’方向的截面图；图8C是图7沿VIII-VIII’方向的截面图；图8D是图7沿IX-IX’方向的截面图。
具体实施例方式
下面参照附图中所给出的实施例，详细描述本发明的优选实施方式。
图4是根据本发明实施方式中的滤色片基板的平面图。图5A是图4沿II-II’方向的截面图，图5B是图4沿III-III’方向的截面图，图5C是图4沿IV-IV’方向的截面图，图5D是图4沿V-V’方向的截面图。
在图4中，滤色片基板包括在基板130上以网格形状形成的黑矩阵(BM)131，以及交替地置于黑矩阵131间的红色(R)，绿色(G)和蓝色(B)滤色片层。基板130可由诸如玻璃的透明绝缘材料形成。虚线表示的区域为现有技术中相应发生亮度故障的边缘区域。
如图5A所示，在基板130上形成第一和第二蓝色滤色片层137a和137b。第一蓝色滤色片层137a比第二蓝色滤色片层137b更靠近基板130的周边，并且比第二蓝色滤色片层137b更厚。具体地，第一蓝色滤色片层137a置于图4所示的在现有技术中对应于发生亮度故障的边缘区域的虚线范围内。为了在图5A中表示出厚度的不同，以和该第一蓝色滤色片层137a重叠的虚线表示第二蓝色滤色片层137b的厚度。
尽管未示出，第一和第二蓝色滤色片层137a和137b同时形成于基板130上的黑矩阵131的网格间。例如，可通过在具有黑矩阵131的基板130上涂敷蓝色树脂来形成第一和第二蓝色滤色片层137a和137b。所涂敷的蓝色树脂的厚度可能等于或大于第一蓝色滤色片层137a所希望的厚度。此后，通过在边缘区域(图4所示的虚线区域)和其他区域中使用不同光量的半色调掩膜来曝光蓝色树脂，从而构图第一蓝色滤色片层137a的厚度大于第二蓝色滤色片层137b。
在清除未曝光的部分时，彩色树脂通常为负型，例如在曝光操作保留曝光的部分。因此，由于彩色树脂具有负属性，在曝光操作过程中，设置半色调掩膜的全透光区对应于厚滤色片层的区域，设置半色调掩膜的部分透光区对应于与进行亮度故障改善无关的滤色片层的区域，以及设置如图4中所示的BM范围的不透明区对应于不形成滤色片层的区域。可选择地是，如果彩色树脂为正型，曝光操作以和负型彩色树脂相反的方式进行操作，这样可在同样的区域获得具有不同厚度的滤色片层。
半色调掩膜包括衍射掩膜、狭缝掩膜、硅化钼相移掩膜以及氧化铬相移掩膜中的一种。利用光的衍射现象狭缝掩模可对光量进行调整。硅化钼相移掩膜以及氧化铬相移掩膜分别具有单层结构的透射率调整层或者双层结构的透射率调整层以及一用于调整透射率的相移层。
在完成使用半色调掩膜进行曝光操作以后，顺序执行显影操作和固化操作以形成第一蓝色滤色片层137a和与第一蓝色滤色片层137a具有不同厚度的第二蓝色滤色片层137b。
这样，由于彩色树脂为负型，位于图4所示虚线区域(亮度故障改善区域)中的第一蓝色滤色片层137a对应于半色调掩膜的全透光区，由此第一蓝色滤色片层137a的厚度与第一次涂敷在基板130上的彩色树脂厚度相同。位于图4所示虚线区域以外的第二滤色片层137b对应于半色调掩膜的部分透光区，由此部分去除第二滤色片层137b并且其厚度低于第一蓝色滤色片层137a的厚度。最后，在曝光操作后的显影期间，完全去除在对应于半色调掩膜的不透明区涂敷的彩色树脂。
因此，在边缘区域的形成的滤色片层要比其他区域的滤色片层更厚，从而可减少通过边缘区域的光量并改善亮度的均匀性。
如图5B所示，在图4中所示的亮度故障改善区域(虚线区域)形成第一红色(R)，绿色(G)和蓝色(B)滤色片层135a，136a和137a，使其厚度大于第二红色，绿色和蓝色滤色片层135b，136b和137b的厚度。为了在图5B中说明其具有不同的厚度，第二红色，绿色和蓝色滤色片层135b，136b和137b的厚度以虚线的方式重叠在第一红色，绿色和蓝色滤色片层135a，136a和137a上。由此，在未发生亮度故障的区域(图4中的非虚线区域)分别形成比第一R，G和B滤色片层135a，136a和137a薄的第二R，G和B滤色片层135b，136b和137b。
由于位于沿图4的III-III’线设置的区域对应于滤色片基板的上边缘(如对应于第一栅线的像素区域)，所以其对应于发生亮度故障的区域。因此，位于沿图4的III-III’方向的滤色片层比位于其他未发生亮度故障的区域的滤色片层要厚。
尽管未示出，但是在基板130的整个表面上涂敷红色彩色树脂之前，还要在基板130上形成黑矩阵131。在基板130的整个表面上以可以改善亮度故障的厚度涂敷红色彩色树脂，并随后使用半色调掩膜将其构图以在发生亮度故障的区域和未发生亮度故障的区域形成具有不同厚度的滤色片层。具体地，第一较厚红色滤色片层135a与第二较薄红色滤色片层135b可同时形成。然后，对绿色滤色片层和蓝色滤色片层依次重复进行彩色树脂涂敷，构图，显影和固化处理，并且可改变涂敷红色、绿色和蓝色树脂的顺序。较厚的第一绿色滤色片层136a和第一蓝色滤色片层137a被形成于发生亮度故障的区域，而较薄的第二绿色滤色片层136b和第二蓝色滤色片层137b被形成于未发生亮度故障的区域。
在图5C和5D中，使用半色调掩膜处理以在发生亮度故障的区域形成较厚的第一蓝色滤色片层137a和第一红色滤色片层135a。在非虚线区域形成比第一红色滤色片层135a和第一蓝色滤色片层137a厚度薄的第二红色滤色片层135b，第二绿色滤色片层136b以及第二蓝色滤色片层137b。
由此，照射于滤色片基板的边缘区域的光需穿过较厚的滤色片层。因此，光的亮度会比经过非边缘区域的光的亮度暗，从而不会发生亮度故障。这样，通过在发生亮度故障的区域形成较厚的滤色片层来减少光通量以改善图像质量。
图6A至6D表示根据本发明不同实施方式的单元滤色片层的结构示意图。在图6A中，单元滤色片层具有均匀的厚度h1，其厚于其他滤色片层的厚度h2。参考图5A至5D，位于发生亮度故障区域的R，G和B滤色片层具有较厚的厚度(厚度为h1)，以及位于未发生亮度故障区域的R，G和B滤色片层具有较薄的厚度(厚度为h2)。
如图6B所示，单元滤色片层在其单元像素区域可具有不均匀的厚度。由此，为了在同一单元像素区域形成具有不均匀厚度的滤色片层，需要使用全透光区和部分透光区的半色调掩膜来形成单元滤色片层。例如，将滤色片层厚度为h1的部分对应于半色调掩膜的全透光区并将滤色片层厚度为h2的部分对应于半色调掩膜的部分透光区。
这样，当设计一具有不均匀厚度的单元滤色片层时，经过层厚度为h1区域的光量不同于经过层厚度为h2区域的光量。然而，由于一个滤色片层所具有的面积非常小，因此经过一个单元滤色片层的光往往被作为一个整体。
换句话说，在单元区域中具有不统一厚度的滤色片层要比在单元区域中厚度为h2(薄)的滤色片层亮度低，且比在单元区域中厚度为h1(厚)的滤色片层亮度高，从而来调节透光率。
可选择的是，如图6B所示，滤色片层的厚度被设置为在单元区域的水平参考线以上部分厚度为h1，在单元区域的水平参考线以下部分厚度为h2。
如图6C所示，在单元滤色片元件中，水平参考线左边的部分厚度设置为h1并且水平参考线右边的部分厚度设置为h2。另外，如图6D所示，在单元滤色片元件中，水平参考线左边的部分厚度设置为h2并且水平参考线右边的部分厚度设置为h1。
图中未示出还有，由于使用在同一单元区域中具有不均匀厚度的滤色片层来调节亮度，因此可使用同样原则设置滤色片层，使得在中央区域较厚或较薄以及在中央区域外的边缘区域较薄或较厚。
另外图中未示出还有，可在滤色片于TFT(COT)基板或TFT于滤色片(TOC)基板中实现具有不同厚度的滤色片层。例如，可在开关元件，如薄膜晶体管上面或下面来形成具有不同厚度的滤色片层。另外，可将具有不同厚度的滤色片层用于其他形式的显示装置，如等离子显示装置(PDP)和电致发光显示装置(ELD)。
同样，通过使用根据位置来改变滤色片层厚度的方法，滤色片层的所有单元区域都具用于调节亮度的不均匀的厚度结构。为了在单元区域内形成具有不同厚度的滤色片层，需要使用对应于所有滤色片层单元区域的具有多个全透光区和多个部分透光区的半色调掩膜。
图7是根据本发明另一实施方式的LCD装置的滤色片基板的平面图，图8A是沿图7的VI-VI’方向的截面图。在图7中，滤色片基板包括在基板230上形状为网格的黑矩阵(BM)，以及可选择地设置于黑矩阵231网格间的红色(R)，绿色(G)和蓝色(B)滤色片层。基板230可由透明绝缘材料形成，如玻璃。
以虚线所表示的区域对应于被扩展的边缘区域，其包括现有技术中发生亮度故障的区域。尤其是，虚线扩展边缘区域至少包括对应于沿滤色片基板边缘的至少两个数据线和栅线的滤色片。因此避免了在对应于从第一栅线到至少两个栅线区域的像素区域，从第一数据线到至少两个数据线区域的像素区域，以及从最后一行数据线到倒数第二行线区域的像素区域发生亮度不均匀的现象。
换句话说，对应于沿滤色片基板边缘的两个数据线和两个栅线的滤色片层较厚，而其他剩余滤色片层为通常厚度。这样，即使在大范围内不用扩展黑矩阵区域也能避免发生亮度故障。因此，不用降低孔径比的情况下也可以改善亮度故障。
如图8A所示，在具有两个相邻设置的第一蓝色滤色片层237a的基板230上形成第一和第二蓝色滤色片层237a和237b。两个第一蓝色滤色片层237a比第二蓝色滤色片层237b更靠近基板230的周边，且厚于第二蓝色滤色片层237b。特别是，两个第一蓝色滤色片层237a位于图7所示的虚线区域内。为了在图8A中说明其厚度的不同，第二蓝色滤色片层237b的厚度以虚线重叠在第一蓝色滤色片层237a上。
图中未示出还有，第一和第二蓝色滤色片层237a和237b可同时形成于基板230上的黑矩阵231的网格问。例如，可通过在具有黑矩阵231的基板230涂敷蓝色树脂来形成第一和第二蓝色滤色片层237a和237b。所涂敷的蓝色树脂的厚度可能等于或大于第一蓝色滤色片层237a所希望的厚度。此后，通过在边缘区域(图7所示的虚线区域)和剩余区域中使用不同光量的半色调掩膜来曝光蓝色树脂，以使得第一蓝色滤色片层237a的厚度大于第二蓝色滤色片层237b。
例如，对于负型彩色树脂，第一蓝色滤色片层237a对应于半色调掩膜的全透光区，由此第一蓝色滤色片层237a的厚度与第一次涂敷在基板230上的彩色树脂厚度相同。在图7所示虚线区域以外的第二滤色片层237b对应于半色调掩膜的部分透光区，由此第二滤色片层237b被部分去除并且比第一蓝色滤色片层237a的厚度薄。最后，在曝光操作后，所在对应于半色调掩膜不透明区涂敷的彩色树脂在显影操作中被全部清除。
另外，参考图6A至6D的说明，可以不同的厚度和结构来形成第一蓝色滤色片层237a。这样，可通过调节半色调掩膜的全透光区和部分透光区来实现在一个滤色片层区域内具有不同厚度的滤色片层或者在一个滤色片层区域内比其他滤色片层更厚的滤色片层。
图8B是沿图7的VII-VII’方向的截面图，图8C是沿图7的VIII-VIII’方向的截面图，图8D是图7沿IX-IX’方向的截面图。如图8B，8C和8D中所示，在图7中所示的亮度故障改善区域(虚线区域)形成第一红色(R)，绿色(G)和蓝色(B)滤色片层235a，236a和237a，其中该第一红色(R)，绿色(G)和蓝色(B)滤色片层235a，236a和237a相对来说比第二红色，绿色和蓝色滤色片层235b，236b和237b具有更大厚度。对位于发生亮度故障区域的，采用半色调掩膜工艺形成较厚的第一红色滤色片层235a，第一绿色滤色片层236a以及第一蓝色滤色片层237a。在虚线区域以外的区域形成比第一红色滤色片层235a，第一绿色滤色片层236a以及第一蓝色滤色片层237a厚度薄的第二红色滤色片层235b，第二绿色滤色片层236b以及第二蓝色滤色片层237b。
为了在图8B，图8C和图8D说明不同的厚度，第二红色，绿色和蓝色滤色片层235b，236b和237b具有的厚度以虚线重叠在第一红色，绿色和蓝色滤色片层235a，236a和237a上。由此，分别比第一R，G和B滤色片层235a，236a和237a厚度薄的第二R，G和B滤色片层235b，236b和237b形成于未发生亮度故障的区域(图7中所示的非虚线区域)。
图中未示出还有，在基板230的整个表面上涂敷红色树脂以前，在基板230上形成黑矩阵231。在基板230的整个表面上以可以改善亮度故障的厚度涂敷红色树脂，并随后使用半色调掩膜将其构图为在发生亮度故障的区域和未发生亮度故障的区域具有不同厚度的滤色片层。特别是，第一较厚红色滤色片层235a与第二较薄红色滤色片层235b可同时形成。然后，重复对绿色滤色片层和蓝色滤色片层顺序进行彩色树脂涂敷，构图，显影和固化处理，并且可改变涂敷红色、绿色和蓝色树脂的顺序。较厚的第一绿色滤色片层236a和第一蓝色滤色片层237a被形成于发生亮度故障的区域，而较薄的第二绿色滤色片层236b和第二蓝色滤色片层237b被形成于未发生亮度故障的区域。
如图8C所示，沿图7的VIII-VIII’剖面线顺序设置第二红色滤色片层235b，第一绿色滤色片层236a以及第一蓝色滤色片层237a。同样，如图8D所示，第一红色滤色片层235a，第一绿色滤色片层236a以及第二蓝色滤色片层237b被顺序置于沿图7的IX-IX’剖面线的位置。由此，通过增加较厚滤色片层的行数和列数可改善亮度故障。
图中未示出还有，可在滤色片于TFT(COT)基板或TFT于滤色片(TOC)基板中实现具有不同厚度的滤色片层。例如，可在开关元件，如薄膜晶体管上面或下面来形成具有不同厚度的滤色片层。另外，可将具有不同厚度的滤色片层用于其他形式的显示装置，如等离子显示装置(PDP)和电致发光显示装置(ELD)。
尽管如图8A至8D所示，将面向对应于两个边缘数据线和两个边缘栅线的像素电极的滤色片基板的滤色片层变厚，但也可将该原则用于面向对应于两个或更多边缘数据线和边缘栅线的像素电极的滤色片层。在本发明的实施方式中，通过使用半色调掩膜，将对应于第一栅线、第一数据线和最后数据线的滤色片层，以及对应于第一和第二栅线、第一和第二数据线以及最后一行和倒数第二行数据线的滤色片层变厚，从而改善亮度的均匀性。
由于像素结构或者TFT基板时分结构的特性，与滤色片基板的边缘相同，也会在显示区的中央区域或者特定区域产生亮度故障。因此，虽然未示出，但也可使位于非周边区域的滤色片层厚于其他滤色片层，以避免亮度故障。例如，利用半色调掩膜来使滤色片层具有不同的厚度，从而来调节透光率。因此，与边缘区域的厚度相同，滤色片层中央区域的厚度也是可以调节的。
因而，当由于TFT基板或滤色片基板的结构差异或者由于液晶分子的排列差异而发生亮度故障时，将发生亮度故障的区域的滤色片层和未发生亮度故障的区域的滤色片层设置为不同的厚度，从而避免亮度故障。
如上所述，根据本发明的实施方式，在基板上以不同的厚度形成滤色片层以调节通过滤色片层的光量，从而改善亮度的均匀性。例如，可将厚滤色片层置于基板的边缘区域或非边缘区域。另外，利用半色调掩膜来调整滤色片层的厚度，以及通过一掩膜工序使该滤色片层具有不同的厚度。
此外，可在滤色片于TFT(COT)基板或TFT于滤色片(TOC)基板中实现具有不同厚度的滤色片层。例如，可在开关元件，如薄膜晶体管上面或下面来形成具有不同厚度的滤色片层。另外，可将具有不同厚度的滤色片层用于其他形式的显示装置，如等离子显示装置(PDP)和电致发光显示装置(ELD)。
很明显，本领域技术人员可在不背离本发明精神或范围的基础上对本发明做出修改和变化。因此，本发明意欲覆盖落入本发明权利要求及其等效范围内的各种修改和变化。
权利要求
1.一种基板包括在基板上的第一滤色片层；以及在基板上的第二滤色片层，所述第一滤色片层与所述第二滤色片层厚度不同。
2.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述第一滤色片层比第二滤色片层的透光率低。
3.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述第一滤色片层位于所述基板的至少一个边缘区域。
4.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，所述第一滤色片层在所述基板的上边缘区域，下边缘区域，左边缘区域以及右边缘区域。
5.根据权利要求3所述的基板，其特征在于，至少一个边缘区域对应于显示屏的至少一条线。
6.根据权利要求2所述的基板，其特征在于，所述第一滤色片层包括具有不均匀厚度的单元滤色片元件。
7.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述第一滤色片层厚于所述第二滤色片层，所述第一滤色片层位于所述基板的至少一个边缘区域。
8.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，所述第一滤色片在所述基板的上边缘区域，下边缘区域，左边缘区域以及右边缘区域。
9.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，至少一个边缘区域对应于显示屏的至少一条线。
10.根据权利要求7所述的基板，其特征在于，所述第一滤色片层包括具有不均匀厚度的单元滤色片元件。
11.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，所述第一和第二滤色片层每一个都包括红，绿和蓝单元滤色片元件。
12.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，还包括位于所述基板上的黑矩阵。
13.根据权利要求1所述的基板，其特征在于，还包括位于所述基板上的开关元件和像素电极，其中所述第一和第二滤色片层之一位于像素电极之上或之下。
14.一种基板包括在基板上的滤色片元件，所述基板包括第一透光区域，第二透光区域和第三透光区域，所述第一透光区域比所述第二透光区域的透光率低，以及所述第三透光区域在实质上是阻光的。
15.根据权利要求14所述的基板，其特征在于，位于所述第一透光区域的滤色片元件厚度大于位于所述第二透光区域的滤色片元件。
16.一种制造基板的方法，包括在基板上形成第一滤色片层和第二滤色片层，所述第一滤色片层与所述第二滤色片层厚度不同。
17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述形成第一滤色片层和第二滤色片层的步骤包括形成所述第一滤色片层的厚度大于所述第二滤色片层的厚度，所述第一滤色片层位于所述基板的至少一个边缘区域。
18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述形成第一滤色片层和第二滤色片层的步骤包括在所述基板上涂敷彩色树脂；在所述基板上部放置掩膜；将光经过所述掩膜对所涂敷的树脂进行曝光；以及显影被曝光的树脂以同时形成第一和第二滤色片层。
19.根据权利要求18所述的方法，其特征在于，所述掩膜为半色调掩膜并且所述树脂为负型树脂，所述第一滤色片层对应于所述半色调掩膜的全透光区域，以及所述第二滤色片层对应于所述半色调掩膜的部分透光区域。
20.根据权利要求18所述的方法，其特征在于，所述掩膜为半色调掩膜并且所述树脂为正型树脂，所述第一滤色片层对应于所述半色调掩膜的不透光区域，以及所述第二滤色片层对应于所述半色调掩膜的部分透光区域。
21.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述形成第一滤色片层和第二滤色片层的步骤包括在所述基板的上边缘区域，下边缘区域，左边缘区域以及右边缘区域形成所述第一滤色片层。
22.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述形成第一滤色片层和第二滤色片层的步骤包括在对应于显示屏的至少一条线的至少一个边缘区域内形成所述第一滤色片层。
23.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述形成第一滤色片层的步骤包括形成具有不均匀厚度的单元滤色片元件。
24.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，所述形成第一滤色片层和第二滤色片层的步骤包括形成红，绿和蓝单元滤色片元件。
25.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，还包括在所述基板上形成黑矩阵。
26.根据权利要求16所述的方法，其特征在于，还包括在所述基板上形成开关元件和像素电极，其中所述第一和第二滤色片层之一位于像素电极之上或之下。
全文摘要
本发明公开了一种滤色片基板，包括在基板上的第一滤色片层；以及在基板上的第二滤色片层，所述第一滤色片层与所述第二滤色片层厚度不同。
文档编号G03F7/20GK1892261SQ20061009073
公开日2007年1月10日 申请日期2006年6月28日 优先权日2005年6月29日
发明者朴星一, 朴光淳, 金洪在, 金泰万, 文泰雄 申请人:Lg.菲利浦Lcd株式会社