显示装置、显示装置的制造方法、基板及彩色滤光片基板的制作方法

专利名称：显示装置、显示装置的制造方法、基板及彩色滤光片基板的制作方法
显示装置、显示装置的制造方法、基板及彩色滤光片基板 技术领域
本发明，涉及显示装置、显示装置的制造方法、基板及其彩色滤光片基才反。
背景技术：
形成了电极的两枚基板间密封了液晶构成的液晶显示板，使用 了为密封这两枚基板的密封材料。作为这样的密封材料，迄今为止 热固化型环氧树脂已为所知。
但是，以这个固化型环氧树脂为成份的密封材料，在祐合了基 板后进行的密封材料的热固化工序中，在加热的初期阶段其粘度就 降低了。为此，基板位置合对精度的降低、密封剂的断线、以及由 于密封剂的浮起引起的间隙不良的发生。还有，存在热固化需要一 个小时的生产率降低这一点以及伴随着母基板的大型化热固化设备 的大型化的问题。
作为解决这样问题的方法，在基板间的密封材料中使用由基本 聚合物的合成树脂、丙烯树脂等构成的紫外线固化型的密封材料已 为所知。
在此，说明使用紫外线固化型的密封材料液晶显示板的制造工 序。首先，在形成了一对电极的基板上，形成了由聚酰亚胺树脂形 成的定向层，通过摩擦决定液晶的定向方向。在实施了这样的定向 膜处理的基板上，将紫外线固化型密封材料通过投影印刷(screen印 刷)及分配器(dispenser)的描画涂布形成所规定图案。并且在相对基 板上，设置为形成基板间的间隙的间隔粒子(spacer)。接下来，在用 密封材料包围的区域内滴入必要量供给，再将两枚基板对位粘贴。 其后，遮光用密封材料密封的区域，只在粘贴的区域上照射紫外线，进行密封材料的固化。只要制作了这样的粘合基板，与使用热固化 型的环氧树脂为成份的密封材料的情况相比基板位置对合精度降 4氐，可以抑制密封材料的断线或密封材料浮上等的缝隙不良等的发 生。还有，因为可以缩短固化所需要的时间所以生产效率也好。再 有，即便是母基板大型化也不需要增大伴随它的紫外线固化设备的 有利点。 但是，使用上述那样的紫外线固化型的密封材料的情况下，密
封的区域上必须照射紫外线。为此，在它的遮光层的外周部就必须 形成密封部。然而，近年，伴随着逐渐要求的显示板的窄边缘，在 遮光层上设置密封材料粘合基板的做法被开发研究。但是，这样的 遮光层上设置密封材料粘合基板的做法，照射的紫外线被遮光层遮 住不能到达整个密封材料，存在着残留未固化了的密封材料的问题。 还有，为了图谋窄边缘使用了在遮光部具备驱动器的薄膜晶体管
(TFT)基板的显示板中，由于驱动器的存在，也是使紫外线到达密封 材料整体困难，存在着残留未固化密封材料的问题。 为了解决这样的问题，专利文件1中，揭示了具有密封相对 的两枚基板，形成为密封液晶的紫外线固化型密封材料的工序；进 行合对形成了密封材料的基板和相对基板的位置后粘合两枚基板的 工序；为达到所规定的缝隙加压粘合的基板的工序；遮光密封材料 以外的部分，在40。C以上80。C以下的温度范围内调整基板的温度在 密封材料部分照射紫外线的工序；保留必要的端子部分进行裁断制 成、液晶单元的工序为特征的液晶显示面板的制造方法。并且，还记 载着只要根据这些做法，在彩色反射型液晶显示板中密封材料的紫 外线固化能够容易的进行。
(专利文献1)日本专利公开2002-202514号公报 (发明所要解决的课题) 然而，上述专利文献1所涉及的技术中，在遮光部设置的布线 形成的影子部分，紫外线不能充分的穿过，密封的重合程度就会降 4氐。残留了这样的未固化部的液晶显示面板的信赖性就产生了问题。
还有，在将液晶材料滴到一个基板上后粘合制作基板的滴下注入法中，在基板粘合后，有必要移动液晶材料。这时，密封区域残 留未固化的部分的话，移动液晶材料时，也就是在基板温度升温时 密封材料就会溶入液晶材料中，就会引起液晶显示面板的显示品位 降低及信赖性的降低。发明内容(解决课题的方法)
本发明的目的之一在于提供使密封材料的紫外线固化变得容 易了的显示装置、显示装置的制造方法、基板以及彩色滤光片基板。
本发明所涉及的显示装置，包括以相互相对的形式设置的第 一及第二基板、以夹在上述第一及第二基板之间的形式设置的显示 媒体层，其特征在于显示媒体层，由其外周部被设置在第一及第 二基板之间的紫外线固化型树脂形成的密封材料密封；第一基板， 对应于密封材料的部分形成在设置了遮光层的遮光部上，同时，第 二基板，对应于密封材料的部分形成为透明地；遮光部，其密封材 料 一 侧的面构成为紫外线反射面。
只要根据这样的构成，在设置了遮光层的遮光部上设置由紫外 线固化型树脂形成的密封材料的液晶显示装置中，通过紫外线照射 密封这个第一基板和第二基板。在此之际，是从形成为透明地第二 基板的密封材料对应部照射紫外线固化密封材料的，但是，从第二 基板 一侧照射的紫外线由在第 一 基板的遮光部上构成的紫外线反射 面向密封材料反射，再次照射密封材料。为此，即便是在基板上存 在形成的布线用铝等妨碍紫外线射向密封材料的物件，通过从紫外 线反射面再次紫外线照射密封材料就能使密封材料的未固化部分固 化。因此，通过逸常的紫外线照射，能够更有效且更容易的进行密 封材料的固化。
还有，本发明所涉及的显示装置，紫外线反射面，还可以由铝 或4艮形成。
只要根据这样的构成，因为紫外线反射面是由铝或银形成的， 紫外线反射面的反射率增高，能够更有效且更容易的进行密封材料的固化。 再有，本发明所涉及的显示装置，紫外线反射面，还可以构成
为将接受的紫外线向显示媒体层的外侧反射。 只要根据这样的构成，能够抑制由紫外线反射面反射的紫外线 射入显示媒体层。为此，就能够控制显示媒体受到紫外线的影响而 给与显示品位的坏影响。 还有，本发明所涉及的显示装置，还可以具有将由紫外线反射 面反射的紫外线扩散的紫外线扩散机构。 只要根据这样的构成，通过由紫外线扩散机构扩散由紫外线反 射面反射的紫外线，可以向被遮光而未固化残留的密封材料更有效 的照射紫外线。因此，就能够有效且容易的固化密封材料的全部区 域。 再有，本发明所涉及的显示装置，紫外线扩散机构，是形成在 遮光部的凹凸部，紫外线反射面形成在该凹凸部上。 只要根据这样的构成，因为紫外线扩散机构是在遮光部形成的 凹凸部，紫外线反射面又形成在凹凸部上，所以，到达紫外线反射 面的紫外线被反射的同时对应凹凸部被散射。为此，就能够更有效 且容易的固化密封材料的全部区域。 还有，本发明所涉及的显示装置，凹凸部还可以是由遮光部的 遮光层形成的。 只要根据这样的构成，因为凹凸部是由遮光部的遮光层形成的， 所以，作为凹凸部也可以不使用新的部件，只要将遮光层形成为凹 凸部既可。为此，就可以有效的形成紫外线扩散机构。 再有，本发明所涉及的显示装置，紫外线扩散机构，还可以是 由在密封材料中含有的紫外线扩散粒子构成的。 只要根据这样的构成，通过将紫外线扩散粒子预先掺入密封材 料中，在通过将密封材料提供基板就能够同时进行紫外线扩散机构 的设置。为此，就有制造工序中效率变好的有利点。再有，将紫外 线扩散粒子掺入密封材料的话，因为可以使紫外线扩散机构均匀的 混入密封材料中，能够更有效的进行紫外线的扩散。
还有，本发明所涉及的显示装置，紫外线扩散粒子还可以是与密封材料的折射率不同的粒子。
只要根据这样的构成，因为紫外线扩散粒子是与密封材料的折 射率不同的粒子，所以，密封材料和紫外线扩散粒子的界面紫外线 折射就能更有效的扩散到密封材料整体。
再有，本发明所涉及的显示装置，紫外线扩散粒子还可以是反 射紫外线的粒子。
只要根据这样的构造，因为紫外线扩散粒子是反射紫外线的粒 子，所以，由紫外线扩散粒子紫外线就能更有效的扩散到密封材料 整体。
还有，本发明所涉及的显示装置，紫外线反射面及紫外线扩散机构，还可以按照这个顺序设置在遮光层上。
只要根据这样的构造，因为紫外线反射面及紫外线扩散机构是按照这个顺序设置在遮光层上的，所以，紫外线由紫外线反射面反射后，再由紫外线扩散机构扩散。因此，密封材料整体上充分的照满紫外线，就能够更有效的固化密封材料。
4有，本发明所涉及的显示装置，紫外线扩散机构还可以是紫外线扩散树脂层。
只要根据这样的构造，因为紫外线扩散机构是紫外线扩散树脂 层，所以，紫外线扩散机构的形状，就能够容易的制作所希望的形 状。因此，就可以容易的向密封材料整体或有选择地向所希望的位 置扩散紫外线。
还有，本发明所涉及的显示装置，紫外线扩散机构还可以是与密封材料折射率不同的凹凸层。
只要根据这样的构造，因为紫外线扩散机构是与密封材料折射率不同的凹凸层，所以，反射的紫外线由于密封材料和凹凸层的界面的折射扩散而在密封材料整体上照射充分的紫外线，就可以有效的固化密封材料。
再有，本发明所涉及的显示装置，紫外线扩散机构还可以是微 透镜层。9
只要根据这样的构成，因为紫外线扩散机构是微透镜层，所以，由筒单的构造就能够形成紫外线扩散机构。
还有，本发明所涉及的显示装置，在第一基板及第二基板之间 设置间隔粒子的同时，间隔粒子还可以用与紫外线扩散机构相同的 材料形成。
只要根据这样的构造，因为在第一基板及第二基板之间设置间 隔粒子的同时，间隔粒子还用与紫外线扩散机构相同的材料形成， 所以，在同 一工序用相同的材料能够分別形成间隔粒子和紫外线扩 散机构。为此，装置的制造效率良好。
再有，本发明所涉及的显示装置，显示部的显示元件被覆盖层 覆盖的同时，覆盖层还可以与紫外线扩散机构用相同材料形成。
只要根据这样的构造，显示部的显示元件被覆盖层覆盖的同时， 覆盖层还与紫外线扩散机构用相同材料形成，所以，在同一工序用 相同的材料可以分別形成覆盖层和紫外线扩散机构。为此，装置的 制造效率良好。
还有，本发明所涉及的显示装置，在显示部是由为限制第一基 板和第二基板的基板间隙而设置了台阶层的光反射区域和光透过区 域构成的同时，设置在光反射区域的台阶层还可以是和紫外线扩散 才几构用相同的材料形成。
只要根据这样的构造，因为在显示部是由为限制第一基板和第 二基板的基板间隙而设置了台阶层的光反射区域和光透过区域构成 的同时，设置在光反射区域的台阶层还是和紫外线扩散机枸用相同 的材料形成的，所以，在同一工序用相同的材料可以分别形成设置 在光反射区域的台阶层和紫外线扩散机构。为此，装置的制造效率 良好。
本发明所涉及的显示装置的制造方法，其特征在于各自都包括 准备具有显示单元形成预定部的第一基板及第二基板的步骤；为将 第 一基板的显示单元形成部围成封闭状态在第 一基板上形成遮光层 的步骤；在第 一 基板上形成的遮光层上设置紫外线反射面的步骤； 在第 一基板或第二基板上的遮光部预留部上不间断的设置密封材料的步骤；在设置了密封材料的第一基板或第二基^_的显示单元形成 预定部中供給液晶材料的步骤；粘合第一基板及第二基板中供给了液晶材料的一方和另一方的步骤；从粘合的第二基板12的表面向密 封材料照射紫外线固化密封材料制作粘合基板的步骤。
只要根据这样的构成，在设置了遮光层的遮光部上设置了由紫 外线固化型树脂形成的密封材料的液晶显示装置中，通过用紫外线 照射这个第一基板和第二基板固化密封材料密封它们。在此之际， 从第二基板一侧照射的紫外线由第 一基板的遮光部上构成的紫外线 反射面反射向密封材料，再次照射密封材料。为此，即便是在基板 上形成布线用铝等妨碍紫外线向密封材料进入的物件存在，通过从 紫外线反射面的紫外线再次照射密封材料就能够固化密封材料的未 固化部分。因此，通过通常的紫外线照射，就能够更有效且更容易 的进行密封材料的固化。
本发明所涉及的彩色滤光片基板，其特征在于包括包含显示 部的玻璃基板；沿着玻璃基板上的显示部外周设置的构成遮光部的 遮光层；设置在玻璃基板上的遮光层上的紫外线反射面。
只要根据这样的构造，在设置了遮光层的遮光部上设置了由紫 外线固化型树脂形成的密封材料的液晶显示装置中，存在着以下的 有利点。也就是，通过紫外线照射密封这个彩色滤光片基板和薄膜 晶体管(TFT)基板时，从薄膜晶体管(TFT)基板的密封材料对应部照 射紫外线固化密封材料。在此之际，从薄膜晶体管(TFT)基板一侧照 射的紫外线通过构成彩色滤光片基板的遮光部的紫外线反射面向密 封材料反射，再次照射密封材料。为此，即便是在薄膜晶体管(TFT) 基板上形成有布线用铝等妨碍紫外线向密封材料进入的物件存在， 通过从紫外线反射面紫外线再次照射密封材料就能够固化密封材料 的未固化部分。因此，通过通常的紫外线照射，就能够更有效且更 容易的进行密封材料的固化。 一发明的效果一
通过以上的说明，只要根据本发明，就可以提供容易密封材料 的紫外线固化的显示装置、显示装置的制造方法、基板及彩色滤光片基板。


图l，是本发明的实施方式1所涉及的液晶显示装置IO及彩色 滤光片基板的剖面图。图2,是本发明的实施方式2所涉及的液晶显示装置20及彩色 滤光片基板的剖面图。图3，是本发明的实施方式3所涉及的液晶显示装置30及彩色 滤光片基板的剖面图。图4，是本发明的实施方式4所涉及的液晶显示装置40及彩色 滤光片基板的剖面图。图5,是本发明的实施方式5所涉及的液晶显示装置50及彩色 滤光片基板的剖面图。图6，是本发明的实施方式6所涉及的液晶显示装置60及彩色 滤光片基板的剖面图。图7，是本发明的实施方式7所涉及的液晶显示装置70及彩色 滤光片基板的剖面图。图8,是本发明的实施方式8所涉及的液晶显示装置80及彩色 滤光片基板的剖面图。图9,是本发明的实施方式9所涉及的液晶显示装置90及彩色 滤光片基板的剖面图。图10，是本发明的实施方式10所涉及的液晶显示装置100及 彩色滤光片基板的剖面图。图11，是表示本发明的实施方式1至10所涉及的液晶显示装 置10至100的制造方法中薄膜晶体管(TFT)基板i2的准备工序的 图。图12，是表示本发明的实施方式1至10所涉及的液晶显示装 置10至100的制造方法中密封材料113的涂布工序的图。图13,是表示本发明的实施方式1至IO所涉及的液晶显示装 置10至100的制造方法中液晶材料114的滴下工序的图。12液晶显示装置 CF基板
图14,是表示本发明的实施方式1至IO所涉及的液晶显示装 置10至100的制造方法中基板粘合的工序的图。
图15，是表示本发明的实施方式1至IO所涉及的液晶显示装 置10至100的制造方法中紫外线照射工序的图。
图16，是表示本发明的实施方式1至IO所涉及的液晶显示装 置10至100的制造方法中加热 除冷工序的图。
(符号说明) 10、 20、 30、 40、 50、 60、 70、 80、 90、 100 11、 21、 31、 41、 51、 61、 71、 81、 91、 101
12 薄膜晶体管(TFT)基板
13 液晶层
14、 24、 34、 44、 54、 64、 74、 84、 94、 104 液晶显示面板
15、 111 玻璃基板
16 色层
17 黑底
18、 28 紫外线扩散基础层
19 紫外线反射层
48 折射率不同的粒子
58 反射紫外线的粒子
68、 88、 98、 108 紫外线扩散树脂层
78 微型透镜层
110 紫外线反射面
112 布线
113 密封材料
114 液晶材料 120 柱状间隔粒子
130 覆盖层(overcoat层) 150 紫外线
具体实施方式
以下，基于附图详细说明本发明的实施方式所涉及的彩色滤光
片基板、使用它的显示装置以及显示装置的制造方法。尚，本发明， 不为以下的实施方式所限定。还有，在此，用液晶显示装置作为显 示装置加以说明。 (实施方式l)
(彩色滤光片基板11及其使用它的液晶显示装置10的构成) 图1，表示液晶显示装置10的剖面图。液晶显示装置10,是由 包括相对的彩色滤光片基板11及薄膜晶体管基板12、设置在它们 之间的液晶层13(显示媒体层)、设置在相对两基板之间未图示的柱 状间隔粒子的液晶显示面板14以及未图示的后照灯等构成的。 彩色滤光片基板(CF基板11)，在玻璃基板15上形成了由赤(R)、 绿(G)以及青(B)三原色形成的色层16，它们构成显示部。作为色层 16 ，除RGB的组合外，还可以使用青绿色(cyan)、浓紫红色(magenta)、 黄色(yellow)的4卜色。
在色层16上分别形成了未图示的相对电极及定向膜。色层16, 在它的外周，设置为得到对比度的镶边的黑底17(遮光层)形成遮光 部。在黑底17上，形成了紫外线扩散基础层18(紫外线扩散机构)。 紫外线扩散基础层18，是由树脂材料或陶瓷材料等形成的，其 表面形成为凹凸状，构成凹凸部。表面的凹凸形^1犬，可以是任何形 状的，也可以是半球状、圓锥状、角锥状或者是柱状等的突起的多 个形成的，还可以是连续起伏整个面上形成的。紫外线扩散基础层 18，其表面由紫外线反射膜19覆盖构成紫外线反射面110。 紫外线反射膜19,是由Al或Ag等的反射率高的金属、或是它 们的合金形成的。还有，为了降低观测者一侧的反射率，在紫外线 反射膜19和紫外线扩散基础层18之间设置Cr等反射率低的金属亦 可。还有，同样地，紫外线反射膜19和紫外线扩散基础层18之间 设置Si02贴紧层亦可。再有，在紫外线反射膜19上，还可以设置
Si02等的保护层或增反射膜。
薄膜晶体管基板(TFT基板12)，是由玻璃基板111、玻璃基板111上分别形成的未图示的栅电极、源电极以及漏电极等的薄膜晶
体管(TFT)元件、透明绝缘层、像素电极以及定向膜等构成。电连接 薄膜晶体管(TFT)元件的布线中，由Al等形成的布线112,为了显 示装置的窄边缘，设置在遮光部中。 密封材料113,设置在形成于CF基板11上的黑底17上的紫外 线反射膜19和相对的薄膜晶体管(TF T)基板12之间，粘合着两基板。 密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连 续设置，由此形成了液晶显示单元。密封材料113,是由基本聚合 体的合成树脂(有机玻璃)、丙烯树脂等的紫外线固化型密封剂构成。
(液晶显示装置10的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式l所涉及的液晶显示装置10的制 造方法。
(CF基板11的制造方法)
首先，准备玻璃基板15。并且，玻璃基板15上成为遮光部分 区域的上额边缘部10mm以下，在像素间用喷镀法等形成宽度为5 至50/Zm的黑底17。接下来，在玻璃基板15上的成为显示部的区 域的整个面上叠置分散了赤色颜料的树脂膜(干膜)，进行曝光、显 像以及烘烤(热处理)，形成第一色层(赤)。接下来，重叠在第一色层 上，整个面上叠置分散了绿色颜料的树脂薄片，进行曝光、显像以 及烘烤(热处理)，形成第二色层(绿)。同样，形成第三色层(青)。 尚，色层16的形成方法，取代叠置干膜，通过旋转(spin)、缝 隙涂层(slit coat)整面涂布分散了颜料的感光性树脂材料亦可。再有， 着色层的各色形成的顺序，没有特别的限定，是其他的顺序亦可。
接下来，色层16上镀气ITO形成相对电极，接下来形成定向膜。 接下来，在黑底17上形成薄膜层，对这个薄膜层挤压表面是多 条细微的凹凸形状的的加工模型在薄膜层的表面设置凹凸形状，形 成紫外线扩散基础层18。形成紫外线扩散基础层18后，以覆盖其 表面的形式形成Al等的金属薄膜得到紫外线反射膜19 。
通过以上的工序，完成CF基板ll。
尚，作为紫外线扩散基础层18的形成方法，在表面具有多条细微凹凸形状的临时支撑体上叠层薄膜层，在黑底17上临摹薄膜层亦 可。临摹薄膜的表面上扩散光得到的形成了凹凸形状面的临时支撑 体，可以使用通过挤压表面是多条细微的凹凸形状的加工模型制造 的。还有，设置基础薄膜能够变形的涂底层，在这个层上挤压表面 是多条细微凹凸形状的加工模型，将通过固化涂底层工序形成的取 代基础薄膜使用亦可。还有，基础薄膜的表面也可以使用喷砂处理 的薄膜。 作为表面是多条细微的凹凸形状的加工模型或临时支撑体的制 作方法之一，有以下的做法。也就是，在绝缘板上涂布光敏抗蚀剂 后，或者是用具有所规定的掩模图案的光掩模曝光显像、或者是用 激光切割后，在图案形成面上通过真空镀气法或喷镀法等形成(导电 化处理)银或镍膜，通过电铸镍叠层，由从绝缘板剥离工序制作father 原型。在这个father原型上进行剥离处理再次进行镍电铸，从father 原型剥离制作母原型，通过使用这个母原型形成多数细微的凹凸， 制作加工型或者支撑体。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，准备玻璃基板lll，通过喷镀法形成由Ta或Al/Ti形 成的栅电极，图案化。接下来作为栅极绝缘膜形成SiNx，作为薄膜 形成半导体a-Si、 p-Si或单结晶Si。接下来，作为蚀刻保护膜形成 SiNx，进行图案形成。接下来形成接线柱孔、漏电极以及源电极。 再有，通过同一工序或者另外的工序，在基板端部设置驱动器，形 成薄膜晶体管。再有，在所规定的区域形成透明绝缘层。接下来，
真空镀气ITO再图案形成，形成像素电极。接下来，经过照相平面 印刷工序形成多个为规定单元厚度的柱状间隔粒子。尚，即可以是
柱状间隔粒子形成在CF基板ll 一侧，也可以使用散布球状间隔粒 子的方式。
通过以上的工序，制作薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板14的形成工序)
接下来，用图11至图16说明液晶显示面板14的形成工序。
首先，如图11所示的形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线112的遮光部上，涂布如图12所示的连续不间断的密封材料
113。 接下来，如图13所示那样，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT) 基板12滴下一滴为2mg的液晶材料114。在此之际，液晶材料114 滴到薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外周围涂布成框状的密封材 料113内。 接下来，如图14所示那样，液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT) 基板12上合对位置粘合CF基板11。这时，粘合的CF基板11剂 薄膜晶体管(TFT)基板12中由密封材料113围起来的区域上，形成 了液晶显示单元。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回到大 气中粘合的薄膜晶体管(TFT)基板12和CF基板11之间的液晶材料 114由于大气压的作用扩散。 接下来，如图15所示那样，在薄膜晶体管(TFT)基板12—侧的 显示部设置了遮M模的状备下，从薄膜晶体管(TFT)基板 一侧照射紫外线150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板 12的密封材料对应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管 (TFT)基板12的遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112,就残 留下了由这个布线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区 域116。但是，到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基 板ll的遮光部构成的紫外线反射面110。因为紫外线反射面110形 成在形成为凹凸状的紫外线扩散基础层18的表面，所以，到达紫外 线反射面110的紫外线150，在被反射的同时对应凹凸形状被扩散。 扩散反射的紫外线150，折回再次照射密封材料113的同时，在 薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再进 一步扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未固 化区域116由反射紫外线而固化。
接下来，如图16所示那样，去除遮光掩模115，经过加热 除 冷工序分断成所希望的显示面板框。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板 之间形成液晶显示面板14，在它们上设置未图示的后照灯单元完成液晶显示装置10。 (实施方式2)
(彩色滤光片基板21及其使用它的液晶显示装置20的构成) 图2,表示本实施方式2所涉及的液晶显示装置10的剖面图。 还有，与上迷实施方式所示的相同部分标注相同的符号，省略其说 明。 液晶显示装置20,是由薄膜晶体管基板12及CF基板21 、具有 设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板24、以及未图示的后 照灯等构成。 CF基板21,在玻璃基板15上形成了构成显示部的色层16，未 图示的相对电极及定向膜。色层16，在它的外周，形成了设置为得 到对比度的镶边的黑底17的遮光部。在黑底17上，形成了紫外线 扩散基础层28。 紫外线扩散基础层28,是由树脂材料或陶瓷材料等形成的，其 表面形成为凹凸状，构成凹凸部。表面的凹凸形状，向着垂直于CF 基板21的显示预定区域(设置液晶层13的区域)的面，以向着它的 相反一侧的区域形成了倾斜面。尚，CF基板21的凹凸形状，只要 是将接受的紫外线从液晶层13向外侧反射无论任何形状均可。紫外 线扩散基础层28,其表面由紫外线反射膜19覆盖着。 密封材料113，设置在形成于CF基板21上的黑底17上的紫外 线反射膜19和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，祐合着两基板。 密封材料.113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连 续设置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置20的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式2所涉及的液晶显示装置20的制 造方法。还有，与上述实施方式表示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板21的制造方法)
首先，与实施方式l一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑 底17、相对电极以及定向膜。
接下来，在黑底17上形成薄膜层，对这个薄膜层挤压表面是多 条细微的凹凸形状的的加工模型在薄膜层的表面设置凹凸形状，形 成紫外线扩散基础层28。形成紫外线扩散基础层28后，以覆盖其 表面的形式形成Al等的金属薄膜得到紫外线反射膜19。
通过以上的工序，完成CF基冲反21。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，与实施方式l一样，形成薄膜晶体管(TFT)基4反12。
(液晶显示面才反24的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线112 的遮光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外
周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合对 位置粘合CF基板21。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回 到大气中扩散液晶材料114。
接下来，在薄膜晶体管(TFT)基一反12 —侧的显示部设置了遮光 掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12 —侧照射紫外线 150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对 应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的 遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112，就残留下了由这个布 线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是， 到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基板21的遮光部 构成的紫外线反射面110。因为紫外线反射面IIO形成在形成为凹 凸状的紫外线扩散基础层28的表面，所以，到达紫外线反射面IIO 的紫外线150，在被反射的同时对应凹凸形状被扩散。
扩散反射的紫外线150,折回再次照射密封材料113的同时，在 薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再进 一步扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未固 化区域116由反射紫外线而固化。还有，因为紫外线扩散基础层28 的凹凸形状是由垂直面和倾斜面构成的，所以，从液晶层13向外反射在其表面形成的紫外线反射膜19的表面(紫外线反射面IIO)接受的紫外线。因此，反射紫外线不朝液晶层13,液晶层13上不照射 紫外线150。
接下来，去除遮光掩模115，经过加热'除冷工序分断成所希望的显示面板框。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板 之间形成液晶显示面板14，在它们上设置未图示的后照灯单无完成 液晶显示装置20。
(实施方式3)(彩色滤光片基板及其使用它的液晶显示装置20的构成)图3,表示本实施方式3所涉及的液晶显示装置30的剖面图。还有，.与上述实施方式所示相同的部分标注相同的符号，省略其说明。
液晶显示装置30,是由薄膜晶体管(TFT)基板12及CF基板31、 具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面片反34、以及未图示 的后照灯等构成的。
CF基板31,在^C璃基板15上分别形成了色层16、未图示的相 对电极以及定向膜。色层16,在它的外周，设置黑底17形成了遮 光部。在黑底17上，形成了紫外线扩散基础层18(紫外线扩散机构)。
黑底17，其表面形成为凹凸状，由它们构成紫外线扩散机构。 黑底17表面的凹凸形状，可以是任何形状的，也可以是半球状、圓 锥状、角锥状或者是柱状等的多个突起状形成的，还可以是小坡度 连续起伏整个面上形成的。，累、底17，其表面由紫外线反射膜19覆-盖.。
薄膜晶体管(TFT)基板12,是由玻璃基板lll、玻璃基板111上 分别形成的未图示的栅电极、源电板以及漏电极等的薄膜晶体管 (TFT)元件、分別未图示的透明绝缘层、像素电极以及定向膜等构成。
密封材料1B,设置在形成于CF基板11上的黑底17上的紫外 线反射膜19和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连 续设置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置30的制造方法)接下来，详细说明本实施方式3所涉及的液晶显示装置30的制 造方法。还有，与上述实施方式所示相同的部分，省略其说明。
(CF基板31的制造方法)首先，与实施方式l一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑 底17、相对电极以及定向膜。
接下来，通过蚀刻黑底17的表面等的处理，形成凹凸形状。其 后，以覆盖黑底17表面的形式形成Al等的金属薄膜得到紫外线反 射膜19。
通过以上的工序，完成CF基板31。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)接下来，与实施方式l一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板34的形成工序)接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线112 的遮光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外 周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合对 位置粘合CF基板31。这个工序是在真空中进行的。接下来，返回 到大气中扩散液晶材料114。
接下来，在薄膜晶体管(TFT)基板12 —侧的显示部设置了遮光 掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12 —侧照射紫外线 150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对 应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的 遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112,就残留下了由这个布 线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是， 到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基板11的遮光部 构成的紫外线反射面110。因为紫外线反射面IIO形成在形成为凹凸状的黑底17的表面，所以，到达紫外线反射面110的紫外线150， 在被反射的同时对应凹凸形状被扩散。
扩散反射的紫外线150，折回再次照射密封材料113的同时，在 薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再进 一步扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未固 化区域116由反射紫外线而固化。
接下来，去除遮光掩模115，经过加热'除冷工序分断成所希望 的显示面板^i。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板 之间形成液晶显示面板34,在它们上设置未图示的后照灯单元完成 液晶显示装置30。
(实施方式4)(彩色滤光片基板41及其使用它的液晶显示装置40的构成) 图4，表示本实施方式4所涉及的液晶显示装置40的剖面图。 还有，与上述实施方式所示的相同的部分标注相同的符号，省略其 说明。
液晶显示装置40，是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板41、 具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板44、以及未图示 的后照灯等构成的。
CF基板41,在玻璃基板15上分别形成了构成显示部色层16， 未图示的相对电极及定向膜。色层16，在它的外周，设置黑底17 形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外线反射膜19。
密封材料113，设置在形成于CF基板41上的黑底17上的紫外 线反射膜19和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。 密封材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示.部不间断的连 续设置，由此形成了液晶显示单元。密封材料113，每100重量单 位含有O.Ol至1.00重量单位的折射率不同的粒子48(紫外线扩散粒 子)。折射率不同的粒子48,折射率，例如和密封材料113有0.03 以上不同，再有，平均粒径为不影响单元厚度的值，例如l值5/zm的粒子。
(液晶显示装置40的制造方法)接下来，详细说明本实施方式4所涉及的液晶显示装置40的制 造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板41的制造方法)首先，与实施方式1 一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑 底17、相对电极以及定向膜。
接下来，在黑底17上形成紫外线反射膜19。
通过以上的工序，完成CF基板41。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)接下来，与实施方式l一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板44的形成工序)接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮 光部上，涂布连续不间断的含有折射率不同的粒子48的密封材料 113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外 周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合 对位置粘合CF基板41。这个工序是在真空中进行的。接下来，返 回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，在薄膜晶体管(TFT)基板12 —侧的显示部设置了遮光 掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12 —侧照射紫外线 150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对 应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的 遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112，就残留下了由这个布 线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是， 到达密封材料113的紫外线15 0继续向前到达CF基板41的遮光部 构成的紫外线反射面110，再度照射密封材料113。
逸时，因为密封材料113含有折射率不同的粒子48，所以，紫 外线150，由密封材料113和折射率不同的粒子48的界面反射扩散到广范围。扩散反射的紫外线150,再次照射密封材料113的同时，在薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再 进一步扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未 固化区域116由反射紫外线而固化。
接下来，去除遮光掩模115,经过加热 除冷工序分断成所希望 的显示面板才匡。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板 之间形成液晶显示面板44,在它们上设置未图示的后照灯单无完成 -液晶显示装置40。
(实施方式5)(彩色滤光片基板51及其使用它的液晶显示装置50的构成) 图5，表示本实施方式5所涉及的液晶显示装置50的剖面图。 还有，与上述实施方式所示的相同的部分标注相同的符号，省略其 说明。
液晶显示装置50,是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板51、 具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板54、以及未图示 的后照灯等构成的。
CF基板51，在玻璃基板15上分別形成了构成显示部的色层16， 未图示的相对电极及定向膜。色层16，在它的外周，设置黑底17 形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外线反射膜19。
密封材料U3，设置在形成于CF基板51上的黑底17上的紫外 线反射膜19和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。 密封材料113,没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连 续设置，由此形成了液晶显示单元。密封材料113，每100重量单 位含有0.01至1.00重量单位的反射紫外线粒子58(紫外线扩散粒 子)。反射紫外线粒子58，例如，表面处理为镜面，平均粒径为不 影响单元厚度的值，例如l值5/zm的粒子。
(液晶显示装置50的制造方法)接下来，详细说明本实施方式5所涉及的液晶显示装置50的制造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板51的制造方法)首先，与实施方式l一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑 底17、相对电极以及定向膜。
接下来，在黑底17上形成紫外线反射膜19。
通过以上的工序，完成CF基板51。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)接下来，与实施方式l一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面一反54的形成工序)接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮 光部上，涂布连续不间断的含有反射紫外线粒子58的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外 周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合 对位置粘合CF基板51。这个工序是在真空中进行的。接下来，返 回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，在薄膜晶体管(TFT)基板12 —侧的显示部设置了遮光 掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12 —侧照射紫外线 150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对 应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的 遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112,就残留下了由这个布 线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是， 到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基板41的遮光部 构成的紫外线反射面110,再度照射密封材料113。
这时，因为密封材料113含有反射紫外线150的粒子58，所以， 紫外线150,由密封材料113和反射紫外线的粒子58的界面反射扩 散到广范围。扩散反射的紫外线150，再次照射密封材料113的同 时，在薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射， 再进一步扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的 未固化区域116由反射紫外线而固化。
接下来，去除遮光掩模115,经过加热'除冷工序分断成所希望的显示面板框。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板 之间形成液晶显示面板54，在它们上设置未图示的后照灯单元完成 液晶显示装置50。
(实施方式6)(彩色滤光片基板61及其使用它的液晶显示装置60的构成) 國6,表示本实施方式6所涉及的液晶显示装置60的剖面图。 还有，与上迷实施方式所示的相同的部分标注相同的符号，省略其 说明。
液晶显示装置60，是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板61、 具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板64、以及未图示 的后照灯等构成的。
CF基板61，在玻璃基板15上分別形成了构成显示部色层16, 未图示的相对电极及定向膜。色层16，在它的外周，设置黑底17 形成了遮光部。在黑底H上形成了紫外线反射膜19，在紫外线反 射膜19上形成了紫外线扩散层68。
紫外线扩散层68，是由能够使紫外线透过的透明材料形成的。 还有，紫外线扩散层68,还可以是由树脂材料形成的紫外线扩散树 脂层。紫外线扩散层68，这层的表面与密封材料113的折射率不同， 且，形成为凹凸状等的扩散紫外线的形状。
密封材料113,设置在形成于CF基板61上形成的紫外线扩散 层68和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封 材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设 置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置60的制造方法)接下来，详细说明本实施方式6所涉及的液晶显示装置60的制 造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板61的制造方法)首先，与实施方式l一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑底17、相对电极以及定向膜。
接下来，在黑底17上形成紫外线反射膜19及紫外线扩散层68。
通过以上的工序，完成CF基板61。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)接下来，与实施方式l一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板64的形成工序)接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮 光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外 周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合 对位置粘合CF基板61。这个工序是在真空中进行的。接下来，返 回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，在薄膜晶体管(TFT)基板12 —侧的显示部设置了遮光 掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12 —侧照射紫外线 150。照射的紫外线150,从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对 应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的 遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112，就残留下了由这个布 线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是， 到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基板61的遮光部 构成的紫外线反射面110的话，到达其表面上形成的紫外线扩散层 68被扩散。
扩散反射的紫外线150，再次照射密封材料113的同时，在薄膜 晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再进一步 扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未固化区 域116由反射紫外线150而固化。
接下来，去除遮光掩模115，经过加热 除冷工序分断成所希望 的显示面;f反框。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板之间形成液晶显示面板44，在它们上设置未图示的后照灯单元完成液晶显示装置60。
(实施方式7)(彩色滤光片基板71及其使用它的液晶显示装置70的构成) 图7,表示本实施方式7所涉及的液晶显示装置70的剖面图。 还有，与上述实施方式所示的相同的部分标注相同的符号，省略其 说明。
液晶显示装置70,是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板71、具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板74、以及未图示的后照灯等构成的。
CF基板71,在玻璃基板15上分别形成了构成显示部色层16，未图示的相对电极及定向膜。色层16，在它的外周，设置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外线反射膜19。
在紫外线反射膜19上，形成了多个透镜构成的层(微逸镜层78)。微透镜层78，是由能够透过紫外线的透明材料形成的。
密封材料113,设置在形成于CF基板71上形成的微透镜层78和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封材料113,没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置70的制造方法)接下来，详细说明本实施方式7所涉及的液晶显示装置70的制造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板71的制造方法)首先，与实施方式1 一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑底17、相对电极以及定向膜。.
接下来，在黑底17上形成紫外线反射膜19及微透镜层78。
通过以上的工序，完成CF基板71。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)接下来，与实施方式l一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板74的形成工序)接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮 光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外 周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合 对位置粘合CF基板71。这个工序是在真空中进行的。接下来，返 回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，在薄膜晶体管(TFT)基板12 —侧的显示部设置了遮光 掩模115的状态下，从薄膜晶体管(TFT)基板12 —侧照射紫外线 150。照射的紫外线150，从薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对 应部进入，固化密封材料113。这时，薄膜晶体管(TFT)基板12的 遮光部上因为设置了由Al等形成的布线112,就残留下了由这个布 线112遮住紫外线150的密封材料113上未固化区域116。但是， 到达密封材料113的紫外线150继续向前到达CF基板71的遮光部 构成的紫外线反射面110的话，到达其表面上形成的微透镜层78 被扩散。
扩散反射的紫外线150，再次照射密封材料113的同时，在薄膜 晶体管(TFT)基板12的Al等形成的布线112上也被反射，再进一步 扩大的范围内照射密封材料113。为此，密封材料113的未固化区 域116由反射紫外线150而固化。
接下来，去除遮光掩模115，经过加热.除冷工序分断成所希望 的显示面板框。
这样，液晶材料114由固化了的密封材料113密封在两枚基板 之间形成液晶显示面板44，在它们上设置未图示的后照灯单元完成 液晶显示装置70。
(实施方式8)(彩色滤光片基板及其使用它的液晶显示装置80的构成)图8，表示本实施方式8所涉及的液晶显示装置80的剖面图。还有，与上述实施方式所示的相同的部分标注相同的符号，省略其 说明。
液晶显示装置80,是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板81、 具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面冲反84、以及未图示 的后照灯等构成的。
CF基板81,在玻璃基板15上分别形成了构成显示部色层16, 未图示的相对电极、定向膜以及柱状间隔粒子120。色层16，在它 的外周，设置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外线反 射膜19，在紫外线反射膜19上形成了紫外线扩散层88。
紫外线扩散层88，是由能够使紫外线透过的透明材料形成的。 还有，上述柱状间隔粒子120也由这个透明材料形成。紫外线扩散 层88，其表面形成为凹凸状等的扩散紫外线的形状。
密封材料113，设置在形成于CF基板81上形成的紫外线扩散 层88和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封 材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设 置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置80的制造方法)才妾下来，详细说明本实施方式8所涉及的液晶显示装置80的制 造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板81的制造方法)首先，与实施方式l一样，在玻璃基板15上形成色层16、黑 底17、相对电极以及定向膜。这时，在黑底17上形成紫外线反射 膜19。
接下来，用相同材料在同一工序中形成柱状间隔粒子120及紫外线扩散层88。
通过以上的工序，完成CF基板81。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)接下来，与实施方式1 一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。这时，还可以在薄膜晶体管(TFT)基板12上再形成柱状间隔粒子120。
(液晶显示面板84的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮
光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外
周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合
对位置粘合CF基板81。这个工序是在真空中进行的。接下来，返
回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，与实施方式6 —样通过紫外线150固化密封材料113
后，完成液晶显示装置80。
尚，本实施方式8中，作为紫外线扩散机构使用了与实施方式
6(紫外线扩散层68)相同的构造，但是，并不限于此，还可以是实施
方式1或2所使用的方法。即便是在这种情况下，紫外线扩散机构
及柱状间隔粒子120可以用相同的材料在同一工序中形成。 (实施方式9)
(彩色滤光片基板91及其使用它的液晶显示装置90的构成) 图9,表示本实施方式9所涉及的液晶显示装置90的剖面图。 还有，与上述实施方式所示的相同的部分标注相同的符号，省略其 说明。 液晶显示装置90，是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板91、 具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板94、以及未图示 的后照灯等构成的。
CF基板91,在玻璃基板15上分别形成了构成显示部色层16， 覆盖层130、未图示的相对电极及定向膜。色层16,在它的外周， 设置黑底17形成了遮光部。在黑底17上形成了紫外线反射膜19， 在紫外线反射膜19上形成了紫外线扩散层98。
紫外线扩散层98,是由能够使紫外线透过的透明材料形成的。 还有，上述覆盖层130也由这个透明材料形成。
密封材料113,设置在形成于CF基冲反91上形成的紫外线扩散
31层98和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密封 材料113，没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续设 置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置90的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式9所涉及的液晶显示装置90的制 造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板91的制造方法)
首先，在玻璃基板15上分别形成色层16及黑底17。
.接下来，用相同材料在同一工序，在色层16上形成覆盖层130，
在黑底17上形成紫外线扩散层98。
接下来，在覆盖层130上形成相对电极以及定向膜。'
通过以上的工序，完成CF基板91。
(薄膜晶体管(TFT)基板12的制造工序)
接下来，与实施方式l一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面4反94的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮 光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基冲反12的遮光部外
周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合 对位置粘合CF基板91。这个工序是在真空中进行的。接下来，返 回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，与实施方式6 —样通过紫外线150固化密封材料113
后，完成液晶显示装置90。
尚，本实施方式9中，作为紫外线扩散机构使用了与实施方式 6(紫外线扩散层68)相同的构造，但是，并不限于此，还可以是实施 方式1或2所使用的方法。即便是在这种情况下，紫外线扩散机构 及覆盖层130可以用相同的材料在同一工序中形成。
(实施方式10)(彩色滤光片基板101及其使用它的液晶显示装置100的构成)
图10,表示本实施方式IO所涉及的液晶显示装置100的剖面 图。这个液晶显示装置100，是能够进行透过模式的显示和反射模
式的显示双方的半透过性液晶显示装置。 液晶显示装置100,是由相对的薄膜晶体管基板12及CF基板 101、具有设置在它们之间的液晶层13的液晶显示面板104、以及 未图示的后照灯等构成的。 CF基板101,是由玻璃基板15、在玻璃基冲反15上形成的色层 16、未图示的相对电极、台阶层以及定向膜构成的。色层16，在它 的外周，设置黑底17形成了遮光部。台阶层140，具有所规定的厚 度并形成在应当成为CF基板101的反射区域的区域。台阶层140 的厚度，最好的是近似液晶层13的厚度的一半。相对于反射模式中 用于显示的光两次通过液晶层13，而反射模式中用于显示的光只是 一次通过液晶层13。因此，如果将光透过显示部分的液晶层13的 厚度设定成光反射显示部分的液晶层13的厚度的两倍，两者的光路 长度就会相等，就可以由双方的显示模式实现良好的显示。
在黑底17上形成了紫外线反射膜19及紫外线扩散层108。 薄膜晶体管(TFT)基板12，是在玻璃基板111上形成未图示的薄 膜晶体管(TFT)元件及像素电极141构成显示部。在显示部的成为其 反射区域的区域上，形成了树脂层的凹凸形状及Al及还有Al的金 属膜构成的反射层142，以覆盖反射层142的方式形成未图示的透 明绝缘层在表面上平整反射层142的凹凸形状。在透明绝缘层的平 整的表面上，形成了定向膜。 密封材料113,设置在形成于CF基板101上形成的紫外线扩散 层108和相对的薄膜晶体管(TFT)基板12之间，粘合着两基板。密 封材料113,没有形成在液晶封入口，围绕着显示部不间断的连续 设置，由此形成了液晶显示单元。
(液晶显示装置100的制造方法)
接下来，详细说明本实施方式10所涉及的液晶显示装置100 的制造方法。还有，与上述实施方式所示的相同的部分，省略其说明。
(CF基板101的制造方法)
首先，在玻璃基板15上形成色层16、黑底17、以及相对电极。
这时，在黑底17上形成紫外线反射膜19。
接下来，用相同材料在同一工序中形成台阶层140及紫外线扩
散层108，在相对电极及台阶层140上形成定向膜。
通过以上的工序，完成CF基板lOl。
(薄膜晶体管(TFT)基板1.2的制造工序)
接下来，与实施方式l一样，形成薄膜晶体管(TFT)基板12。
(液晶显示面板104的形成工序)
接下来，在形成了薄膜晶体管(TFT)基板12的Al等的布线的遮
光部上，涂布连续不间断的密封材料113。
接下来，利用分配器等向薄膜晶体管(TFT)基板12的遮光部外
周围涂布成框状的密封材料113内滴下液晶材料114。
接下来，在液晶材料114滴下的薄膜晶体管(TFT)基板12上合
对位置粘合CF基板101。这个工序是在真空中进行的。接下来，返
回到大气中扩散液晶材料114。
接下来，与实施方式6 —样通过紫外线150固化密封材料113
后，完成液晶显示装置100。
尚，本实施方式8中，作为紫外线扩散机构使用了与实施方式
6(紫外线扩散层68)相同的构造(紫外线扩散层108),但是，并不限
于此，还可以是实施方式1或2所使用的方法。即便是在这种情况
下，紫外线扩散机构及台阶层140可以用相同的材料在同一工序中形成。 还有，液晶显示面板14至104，也可以不形成为本实施方式那 样，而是在紫外线固化型树脂密封的液晶显示面板侧面设置液晶注 入口，从那里注入液晶，再用紫外线固化型树脂密封。 再有，本实施方式，作为彩色滤光片基板及使用它的显示装置， 表示了 LCD(liquid crystal display:液晶显示面板)系列,但是，PD(plas ma display: 等离子显示面板)、PALC(plasma addressed liquid crystal
34display:等离子地i止液晶显示面4反)、有机EL(organic electro luminesc ence)、 无机EL(inorganic electro luminescence) 、 FED(field emission display: 电i^茅爭》史显示面才反)、或者SED(surface-conduction electron-emitter display:表面电场显示面板)等系列均可。 (作用效果)
接下来，说明作用效果。 本实施方式1至10所涉及的显示装置10至IOO，是包括相互相 对设置的CF基板11至101及薄膜晶体管(TFT)基板12、和以夹在 它们之间的方式设置的液晶层13的液晶显示装置，是以液晶层 13，外部由CF基板11至101及薄膜晶体管(TFT)基板12间设置的 紫外线固化型树脂形成的密封材料113密封，CF基板11至101， 密封材料113的对应部分设置了黑底17形成了遮光部，另一方面， 薄膜晶体管(TFT)基板12，密封材料113的对应部分形成为透明地， 遮光部，密封材料113—侧的面构成紫外线反射面110，为特征的。 只要根据这样的构成，在设置了黑底17的遮光部上设置了由紫 外线固化型树脂形成的密封材料113的液晶显示装置中，通过紫外 线照射密封这个CF基板11至101和薄膜晶体管(TFT)基板12。在 此之际，是从形成为透明地薄膜晶体管(TFT)基板12的密封材料对 应部照射紫外线固化密封材料113的，但是，从薄膜晶体管(TFT) 基板12 —侧照射的紫外线由在CF基板11至101的遮光部上构成 的紫外线反射面110向密封材料113反射，再次照射密封材料113。 为此，即便是在基板上存在形成的布线用Al等妨碍紫外线射向密封 材料113的物件，通过从紫外线反射面IIO再次紫外线照射密封材 料113就能使密封材料113未固化的部分固化。因此，通过通常的 紫外线照射，能够更有效且更容易的进行密封材料113的固化。
还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置10至100，紫外线反 射面110还可以是由铝或4艮形成的。
只要根据这样的构成，因为紫外线反射面110是由铝或银形成 的，紫外线反射面110的反射率增高，能够更有效且更容易的进行密封材料113的固化。 再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置20，紫外线反射面110， 还可以构成为将接收的紫外线从液晶层13向外反射。 只要根据这样的构成，能够抑制由紫外线反射面110反射的紫 外线射入液晶层13。为此，就能够控制液晶受到紫外线的影响给与
显示品^L的坏影响。 还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置10至100，还可以有 扩散由紫外线反射面110反射的紫外线的紫外线扩散机枸18至 108。 只要根据这样的构成，通过由紫外线扩散机构18至108扩散由 紫外线反射面IIO反射的紫外线，可以向被遮光而未固化残留的密 封材料113更有效的照射紫外线。因此，就能够有效且容易的固化 密封材料113的全部区域。 再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置10至30，紫外线扩散 沐几构是在遮光部形成的凹凸部，紫外线反射面IIO还可以形成在凹 凸部上。 只要根据这样的构成，因为紫外线扩散机构是在遮光部形成的 凹凸部，紫外线反射面110又形成在凹凸部上，所以，到达紫外线 反射面110的紫外线被反射的同时对应凹凸部被散射。为此，就能 够更有效且容易的固化密封材料113的全部区域。 还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置30，凹凸部还可以是 由遮光部的黑底17形成的。 只要根据这样的构成，因为凹凸部是由遮光部的黑底17形成的， 所以，作为凹凸部也可以不使用新的部件，只要将黑底17形成为凹 凸部既可。为此，就可以有效的形成紫外线扩散机构。 再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置40、 50，紫外线扩散 机构，还可以是由在密封材料113中含有的紫外线扩散粒子48、 58 构成的。 只要根据这样的构成，通过将紫外线扩散粒子48、 58预先掺入 密封材料113中，在通过将密封材料113提供基板就能够同时进行紫外线扩散机构的设置。为此，制造工序中效率变好的有利点。再
有，将紫外线扩散粒子48、 58掺入密封材料113的话，因为可以使 紫外线扩散机构均匀的混入密封材料113中，能够更有效的进行紫
外线的扩散。
还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置40，还可以是紫外线
扩散粒子与密封材料113折射率不同的粒子48。
只要根据这样的构成，因为紫外线扩散粒子是与密封材料113
折射率不同的粒子48，所以，密封材料113和紫外线扩散粒子的界
面紫外线折射就能更有效的扩散到密封材料113整体。
再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置50，紫外线扩散粒子
还可以是反射紫外线的粒子58。
只要根据这样的构造，因为紫外线扩散粒子是反射紫外线的粒
子58,所以，由紫外线扩散粒子紫外线就能更有效的扩散到密封材
料113整体。 还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置60至100，紫外线反 射面110及紫外线扩散机构68至108，还可以按照这个顺序设置在 黑底17上。 只要根据这样的构造，因为紫外线反射面110及紫外线扩散机 构68至108按照这个顺序设置在黑底17上，所以，紫外线由紫外 线反射面110反射后，再由紫外线扩散^l构68至108扩散。因此， 密封材料113整体上充分的照满紫外线，就能够更有效的固化密封 材料113。 再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置60、 80至100，紫外 线扩散机构还可以是紫外线扩散树脂层68、 88至108。 只要根据这样的构造，因为紫外线扩散机构是紫外线扩散树脂 层68、 88至108，所以，紫外线扩散机构的形状，就能够容易的制 作所希望的形状。因此，就可以容易的向密封材料U3整体或有选 摔地向所希望的位置扩散紫外线。 还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置70，紫外线扩散机构 还可以是与密封材料113折射率不同的凹凸层78。
只要根据这样的构造，因为紫外线扩散机构是与密封材料113 折射率不同的凹凸层78，所以，反射的紫外线由于密封材料113和 凹凸层78的界面的折射扩散而在密封材料113整体上照射充分的紫 外线，就可以有效的固化密封材料113。 再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置70，紫外线扩散机构 还可以是微透镜层78。 只要根据这样的构成，因为紫外线扩散机构是微透镜层78，所 以，由简单的构造就能够形成紫外线扩散机构。 还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置80，在CF基板101 及薄膜晶体管(TFT)基板12之间设置柱状间隔粒子120的同时，柱 状间隔粒子120还可以用与紫外线扩散机构88相同的材料形成。
只要根据这样的构造，因为在CF基板101及薄膜晶体管(TFT) 基氺反12之间设置柱状间隔粒子120的同时，柱状间隔粒子120还用 与紫外线扩散机构88相同的材料形成，所以，在同一工序用相同的 材料能够分別形成柱状间隔粒子120和紫外线扩散机构88。为此， 装置的制造效率良好。 再有，本实施方式所涉及的液晶显示装置90，显示部的显示元 件被覆盖层130覆盖的同时，覆盖层130还可以与紫外线扩散机构 98用相同材料形成。 只要根据这样的构造，显示部的显示元件被覆盖层130覆盖的 同时，覆盖层130还与紫外线扩散机构98用相同材料形成，所以， 在同一工序用相同的材料可以分别形成覆盖层130和紫外线扩散机 构98。为此，装置的制造效率良好。 '
还有，本实施方式所涉及的液晶显示装置100，在显示部是由为 限制CF基板101和薄膜晶体管(TFT)基板12的基板间隙而设置了 台阶层140的光反射区域和光透过区域构成的同时，设置在光反射 区域的台阶层140还可以是和紫外线扩散机构108用相同的材料形 成。
只要根据这样的构造，因为在显示部是由为限制CF基板101 和薄膜晶体管(TFT)基板12的基板间隙而设置了台阶层140的光反射区域和光透过区域构成的同时，设置在光反射区域的台阶层140 还是和紫外线扩散机构108用相同的材料形成的，所以，在同一工
序用相同的材料可以分别形成设置在光反射区域的台阶层140和紫 外线扩散机构108。为此，装置的制造效率良好。 本实施方式所涉及的液晶显示装置10至IOO的制造方法，各自 都以包括准备具有显示单元形成预定部的CF基板11至101及薄 膜晶体管(TFT)基板12的步骤；为将CF基板11至101的显示单元 形成部围成封闭状态在CF基板11至101上形成黑底17的步骤； 在CF基板11至101上形成的黑底17上设置紫外线反射面110的 步骤；在CF基板11至101或薄膜晶体管(TFT)基板12上的遮光部 预留部上不间断的设置密封材料113的步骤；在设置了密封材料113 的CF基板11至101或薄膜晶体管(TFT)基板12的显示单元形成预 定部中供给液晶材料114的步骤；粘合CF基板11至101及薄膜晶 体管(TFT)基板12中供给了液晶材料114的一方和另一方的步骤； 从粘合的薄膜晶体管(TFT)基板12的表面向密封材料113照射紫外 线固化密封材料113制作粘合基板的步骤；为特征的。 根据这样的构成，在设置了黑底17的遮光部上设置了由紫外线 固化型树脂形成的密封材料113的液晶显示装置中，逸辻用紫外线 照射这个CF基板11至101合薄膜晶体管(TFT)基板12固化密封材 料113密封它们。在此之际，从薄膜晶体管(TFT)基板12—侧照射 的紫外线由CF基板11至101的遮光部上构成的紫外线反射面110 反射向密封材料113，再次照射密封材料113。为此，即便是在基板 上形成布线用Al等妨碍紫外线向密封材料113进入的物件存在，通 过从紫外线反射面U0紫外线再次照射密封材料113就能够固化密 封材料113的未固化部分。因此，通过通常的紫外线照射，就能够 更有效且更容易的进行密封材料113的固化。 本实施方式所涉及的彩色滤光片基板11至101,是以包括包 含显示部的玻璃基板15;沿着玻璃基板15上的显示部外周设置的 构成遮光部的黑底17;设置在玻璃基板15上的黑底17上的紫外线 反射面110;为特征的。
只要根据这样的构造，在设置了黑底17的遮光部上设置了由紫 外线固化型树脂形成的密封材料113的液晶显示装置中，存在着以 下的有利点。也就是，通过紫外线照射密封这个彩色滤光片基板11 至101合薄膜晶体管(TFT)基板12时，从薄膜晶体管(TFT)基板12 的密封材料对应部照射紫外线固化密封材料113。在此之际，从薄 膜晶体管(TFT)基板12 —侧照射的紫外线通过构成彩色滤光片基板 11至101的遮光部的紫外线反射面110向密封材料113反射，再次 照射密封材料113。为此，即便是在薄膜晶体管(TFT)基才反12上形 成有布线用Al等^碍紫外线向密封材料113进入的物件存在，通过 从紫外线反射面110紫外线再次照射密封材料113就能够固化密封 材料113的未固化部分。因此，通过通常的紫外线照射，就能够更 有效且更容易的进行密封材料113的固化。 一产业上利用的可能性一 通过以上的说明，本发明，对显示装置、显示装置的制造方法、 基板及彩色滤光片基板是有用的。
权利要求
1.一种显示装置，包括以相互相对的形式设置的第一及第二基板、以夹在上述第一及第二基板之间的形式设置的显示媒体层，其特征在于上述显示媒体层，由其外周部被设置在上述第一及第二基板之间的紫外线固化型树脂形成的密封材料密封，上述第一基板，对应于上述密封材料的部分形成在设置了遮光层的遮光部上，同时，上述第二基板，对应于上述密封材料的部分形成为透明地，上述遮光部，上述密封材料一侧的面构成为紫外线反射面。
2. 根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于 上迷紫外线反射面，由铝或银形成。
3. 根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于 上迷紫外线反射面，构成为将接受的紫外线向上述显示媒体层的外侧反射。
4. 根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于还具有将由上述紫外线反射面反射的紫外线扩散的紫外线扩散机构。
5. 根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于 上迷紫外线扩散机构，是形成在上述遮光部的凹凸部，上述紫外线反射面形成在该凹凸部上。
6. 根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于 上迷凹凸部，是由遮光部的遮光层形成的。
7. 根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于 上述紫外线扩散机构，是由包含在上述密封材料中的紫外线扩散粒子构成的。
8. 根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于 上述紫外线扩散粒子，是折射率与上述密封材料的折射率不同的粒子。
9. 根据权利要求7所迷的显示装置，其特征在于 上述紫外线扩散粒子，是反射紫外线的粒子。
10. 根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于 上述紫外线反射面及上述紫外线扩散机构，按照这个顺序设置在上述遮光层上。
11. 根据权利要求IO所述的显示装置，其特征在于 上述紫外线扩散机构，是紫外线扩散树脂层。
12. 根据权利要求IO所述的显示装置，其特征在于 上述紫外线扩散机构，是折射率与上述密封材料的折射率不同的凹凸层。
13. 根据权利要求12所述的显示装置，其特征在于 上述紫外线扩散机构，是由多个透镜形成的层。
14. 根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于 上述第 一及第二基板之间设置了间隔粒子的同时，上述间隔粒子是由与上述紫外线扩散机构相同的材料形成的。
15. 根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于 上述显示部的显示元件由覆盖层覆盖的同时， 上述覆盖层是由与上述紫外线扩散机构相同的材料形成的。
16. 根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于 上述显示部，是由为限制上迷第一基板和上述第二基板的基板间隙而设置了台阶层的光反射区域和光透过区域构成的同时，设置在上述光反射区域的台阶层是由与上述紫外线扩散机构相同的 材料形成的。
17. —种显示装置的制造方法，其特征在于 包括分别准备各自具有显示单元形成预定部的第 一及第二基板的步骤， 以围绕并封闭上述第 一基板的显示单元形成预定部的形式在该第一 基板上形成遮光层的步骤，在上述第 一基板上形成的遮光层上设置紫外线反射面的步骤， 在上述第一或第二基板的遮光预定部上不间断的设置密封材料的步骤，向上述设置了密封材料的第一基板或上述第二基板的显示单元形成 预定部供给显示媒体的步骤，将向上述第一及第二基板中供给显示媒体的一个和另 一个粘合的步 骤，和从上述粘贴了第二基板的表面向上述密封材料照射紫外线固化该密 封材料制作粘合基板的步骤。
18. —种基板，其特征在于 包括包含显示部的透明基板，沿着上述透明基板上的上述显示部的外周设置的构成遮光部的遮光层，设置在上述透明基板上的遮光层上的紫外线反射面。
19. 一种彩色滤光片基板，其特征在于包括权利要求18所述的基板、和彩色滤光片。
全文摘要
提供使密封材料的紫外线固化变得容易了的显示装置、显示装置的制造方法、基板以及彩色滤光片基板。显示媒体层，其外周部是由设置在第一及第二基板之间的紫外线固化型树脂形成的密封材料密封，第一基板，其对应密封材料的部分形成在设置了遮光层的遮光部上，另一方面，第二基板，其对应密封材料的部分形成为透明地，遮光部，其密封材料一侧的面构成紫外线反射面。
文档编号G02F1/1335GK101297236SQ200680039518
公开日2008年10月29日 申请日期2006年8月11日 优先权日2006年1月24日
发明者田中充浩 申请人:夏普株式会社