专利名称：掩模盒的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种光刻工艺中用于 存放掩模板的掩模盒。
背景技术：
半导体制造技术中的光刻工艺是通过光学成像的方法将掩模板上的 图案转移到半导体晶片表面的光刻胶上的过程，然后通过所述光刻胶上已 定义好的图案进行刻蚀或离子注入。由于光刻工艺对污染很敏感，需要严 格控制光刻工艺环境的洁净度。通常光刻工艺的掩冲莫板都需要存放于掩模盒(Reticle Pod)中，以避免在传送过程受到外部环境的污染。专利号为 US 5296893的美国专利公开了一种掩模盒。图l为所述美国专利公开的掩 模盒的剖面示意图。如图1所示，所述美国专利公开的掩模盒包括一基本部件IO， 一盖子 12以及所述基本部件10和盖子12的锁闭装置20。掩模板22以如图1所示的 方式放置于所述掩才莫盒中。所述基本部件10为方形结构，在所述基本部件10的四周边缘有側墙 11，所述侧墻11与基本部件10形成凹槽结构。在所迷基本部件10上还分别 形成有四个支撑柱14，在所述支撑柱上形成有部件16，所述掩模板22支撑 于所述部件16上。所述盖子12的形状也为方形，在所迷盖子12上形成有四个凸柱18,用 于固定所述掩模板22，以防止所述掩模板22上下移动。所述盖子12和基本部件10通过锁闭装置20固定在一起，当所述掩模盒 放置于啄光机上时，所述锁闭装置20被打开，使所迷基本部件10和盖子12 上下分离，将所述掩模板22取出，并置于曝光机的掩模板支撑台(Reticle Stage )上进行曝光。在所述掩模板22的四个边角的其中两个边角位罝设置有对准标记、条 形码标记等困案，所述对准标记在曝光时用作上下屉的对准标记。然而， 掩模板22放置于所述掩模盒中时，所述支撑柱14上的部件16与会所述掩膜
板上的图案接触而使所述图案被磨损。例如，当所迷图案为对准标记时，导致所述对准标记被磨损而损坏，致使所述掩模板22在曝光时上下层对准 产生较大的误差，甚至超出工艺要求的范围，以至于导致器件的电性发生 变化。实用新型内客因此，本实用新型的目的在于提供一种掩才莫盒，以解决现有掩模盒导 致放置于其中的掩模板上的图案被磨损的问题。为达到上述目的，本实用新型提供一种掩模盒，用于放置掩模板，所 述掩膜板上形成有图案，该掩膜盒包括盒体、盒盖和位于所述盒体上的用 于支撑所述掩模板的支撑部，其中，所述支撑部具有与所述掩膜板接触的 接触端，所述接触端与所述图案之间有距离。优选的，所述支撑部为棱柱、棱锥、棱台中的一种。优选的，所述支撑部为四棱柱，该四棱柱横截面的宽度为1至2ram， 长度为3至4mm。优选的，所述支撑部为圆柱体和球缺的组合体，所述球缺与所述掩模 板接触。优选的，所述球缺的摩擦系数小于所述圓柱体的摩擦系数。 优选的，所述支撑部与所述盒体为一体成型。 优选的，所述支撑部与所述盒体为活动方式连接。 优选的，所述盒盖上还形成有用于防止所述掩才莫板沿所述盒盖法线方 向滑动的凸柱。优选的，所述凸柱与所述掩膜板的接触端为圓弧形。 优选的，所述掩模盒还包括有盒盖与盒体的锁闭装置。 优选的，所述图案包括对准标记、条形码标记和版图图案。 与现有技术相比，本实用新型具有以下优点本使用新型的掩膜盒包括盒体、盒盖和位于所逸盒体上的用于支撑所 述掩模板的支撑部，其中，所述支撑部具有与所述掩膜板接触的接触端，
该掩膜盒用于放置具有图案的掩膜板，所述接触端与所述图案之间有距 离。在掩模板放置于所述掩模盒中时，所述接触端接触所述掩膜板上图案 区域以外的区域，从而不会造成对所述掩膜板上的图案的磨损，减少了由 于在掩模盒中存取掩膜板而引起的掩模板图案被损伤的缺陷,提高了掩模板的使用寿命，可降低成本；进一步的，由于所述掩模板上的图案不会被 磨损，可减少膝光过程中光刻工艺指标的偏差，有助于增大光刻的工艺窗 口，提高光刻工艺的可维护性。所述支撑部可以是圓柱体和球缺的组合体，当掩膜板放置于所述掩膜 盒中时，所述^求缺与所述掩膜板接触，所述球缺的弧形表面减小了所述支 撑部与所述掩膜板的接触面积，从而减小了对掩膜板的磨损。所述掩膜盒的盒盖上还形成有凸柱，所述凸柱与所述支撑部结合用于 夹持所述掩膜板，在搬运掩膜盒过程中放置在所述掩膜盒中的掩膜板不会 晃动，减小被损伤的可能性。
图1为现有一种掩才莫盒的剖面示意图； 图2为本实用新型的掩^t盒的第一实施例的剖面示意图； 图3为图2所示的掩模盒的支撑部的横截面的示意图； 图4为掩模板放置于图2所示的掩模盒的支撑部上的俯视图； 图5为本实用新型的掩模盒的第二实施例的剖面示意图； 图6为本实用新型的掩模盒的第三实施例的剖面示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面 结合附图对本实用新型的具体实施方式
做详细的说明。图2为本实用新型的掩模盒的第一实施例的剖面示意图。如图2所示 的掩模盒，包括盒体10、盒盖12以及所述盒体IO和盒盖12的锁闭装置 20。所述盒体10包括一长方形底面和位于所述长方形底面四边且垂直于 该长方形底面的侧墙11，所述側墙11和长方形底面共同形成凹槽结构的
盒体10。在所述盒体10的长方形底面上还形成有用于支撑掩模板的支撑 部15，所述支撑部15为棱柱、棱锥、棱台中的一种。本实施例中所述支 撑部15为四棱柱，所述四棱柱的橫截面的示意图如图3所示，其宽度15b 为1至2mm，长度15a为3至4咖。所述支撑部15位于所述长方形底面上 靠近四个拐角的区域。掩模板22放置于所述盒体10时，所述支撑部15 用于支撑所述掩模板22,使得所述掩模板22上的保护膜(Pellicle) 19 不会接触到所述盒体的底部，以免磨损所述保护膜19。所述支撑部15接 触所述掩模板22的接触端与所述掩模板22上的图案有距离即所述接触端 接触所述掩膜板上图案区域以外的区域，以避免所述接触端磨损所述掩模 板22上的图案，所述图案包括掩模板22上的对准标记，条形码识别标记 以及版图图案等。如图2所示的掩才莫板22上有对准标记17，所述"l妻触端 与对准标记17之间的距离大于零，可以避免所述接触端接触到所述对准 标记17而^f吏所述对准标记17#1磨损而#皮损坏。所迷支撑部15与所述盒 体10可以是一体成型，也可通过可活动方式连接，本实施例中所述支撑 部15与所迷盒体10为一体成型。所述掩模盒还包括盒盖12，所述盒盖12与所迷盒体10能够形成封 闭的腔室，掩模板22存放于所述腔室之中。在所述盒盖朝向所述腔室的 表面上还形成有凸柱18，所述凸柱18位于所述支撑部15的相应位置。 所述凸柱18与所述支撑部15相结合夹持所述掩膜板22,防止所述掩模 板22沿所述盒盖12法线方向上下移动而使所述掩膜板22被损坏。所述 掩模板22放置于所述掩模盒中时，所述凸柱18与所迷掩模板22的上表 面接触，且所述凸柱18与所述掩膜板22接触的接触端为圆弧形，本实施 例中所述凸柱18为圆柱体和球缺的组合体，所述球缺与所述掩模板22 的上表面接触，所述球缺由具有弹性、摩擦系数较小的材质形成，以避免 所述球缺的顶部划伤所述掩模板22的表面。所述盒盖12和盒体IO通过锁闭装置20固定在一起，当所述掩模盒放置 于曝光机上时，所述锁闭装置20被打开，使所述盒体10和盒盖12上下分离， 可将所述掩模板22取出，并置于曝光机的掩模板支撑台上进行曝光。图4为所述掩才莫板22放置于图2所示的掩模盒的支撑部15上的俯视
图；如图4所示，所述掩模板22上形成有米字形的对准标记17、条形码 标记20和版图图案24。所述支撑部15的接触端沿所迷掩模板22的纵、 橫轴线对称分布于所述掩模板22靠近拐角区域，且所述接触端与所述掩 模板22上的图案有距离，即所述接触端不与所述掩模板2 2上的图案接触， 从而不会磨损所述掩模板22上的图案。在掩模板22放置于所述掩模盒中时，所述接触端接触所述掩膜板22 上图案区域以外的区域,从而不会造成对所述掩膜板22上的图案的磨损， 减少了由于在掩模盒中存取掩膜板22而引起的掩模板22图案被损伤的缺 陷，提高了掩模板22的使用寿命，可降低成本；进一步的，由于所述掩 模板22上的图案不会被磨损，可减少曝光过程中光刻工艺指标的偏差， 有助于增大光刻的工艺窗口 ，提高光刻工艺的可维护性。图5为本实用新型的掩^l盒的第二实施例的剖面示意图。如图5所示 的掩模盒，包括盒体10、盒盖12以及所述盒体10和盒盖12的锁闭装置 20。所述盒体10包括一长方形底面和位于所述长方形底面四边且垂直于 该长方形底面的侧墙11，所述侧墙11和长方形底面共同形成凹槽结构的 盒体10。在所述盒体10的长方形底面上还形成有用于支撑掩模板的支撑 部15,所述支撑部15为圓柱体和球缺的组合体，本实施例中所述圓柱体 和球缺为同种材质，且所述圓柱体与球缺为具有弹性、摩擦系数较小的材 质形成。在所述掩模盒中放置掩模板22后，所述球缺与所述掩模板22 接触。所述支撑部15位于所述长方形底面上靠近四个拐角的区域。掩模 板22放置于所述盒体10时，所述支撑部15用于支撑所述掩模板22,使 得所述掩才莫板22上的保护膜19不会接触到所述盒体10的底部，以免磨 损所述保护膜19。所述支撑部15的球缺接触所述掩模板22的接触端与 所述掩模板22上的图案之间有距离，即所述接触端在支撑所述掩模板22 的时候不会和所述掩^t板22上的图案接触，以避免所述接触端磨损所述 掩模板22上的图案，所述图案包括对准标记，条形码识别标记以及版图 图案等。如图5所示的掩模板22上有对准标记17，所述支撑部l5和所 述掩模板22的接触点与对准标记17之间的距离大于零，可以避免所述接
触点接触到所述对准标记17而使所述对准标记17被磨损而被损坏。所述 支撑部15与所述盒体10为一体成型，或者为活动方式连接，本实施例中 所述支撑部15与所述盒体10为一体成型。所述掩模盒还包括盒盖12，所述盒盖12与所迷盒体10能够形成封 闭的腔室，掩模板22存放于所述腔室之中。在所述盒盖朝向所述腔室方 向的表面上还形成有凸柱18，所述凸柱18位于所述支撑部15的相应位 置，所述凸柱18与所述支撑部15相结合夹持所述掩膜板22，防止所述 掩模板22沿所述盒盖12法线方向上下移动而使所迷掩膜板22被损坏。 在另外的实施例中，所述凸柱18也可设置于所述盒盖朝向所述腔室方向 的表面的其它位置。所述掩模板22放置于所述掩模盒中时，所述凸柱18 与所述掩模板22的上表面接触，且所述凸柱18与所述掩膜板22接触的 接触端为圆弧形。本实施例中所述凸柱18为圓柱体和球缺的组合体，所 述球缺与所述掩模板22的上表面接触，所述球缺由具有弹性、摩擦系数 较小的材质形成，以避免所述球缺的顶部划伤所述掩才莫板22的表面。所述盒盖12和盒体10通过锁闭装置20固定在一起，当所述掩模盒放置 于曝光机上时，所述锁闭装置20被打开，使所述盒体10和盒盖12上下分离， 可将所述掩模板22取出，并置于曝光机的掩模板支撑台上进行曝光。本实施例中所述掩模盒的支撑部15为圆柱体和球缺的组合体，所述球 缺与所述掩模板22接触，所述球缺的弧形表面使得所迷支撑部15与所述掩 模板22的接触端面积进一步减小，从而减小接触端对掩模板22的磨损。图6为本发明的掩模盒的第三实施例的剖面图，本实施例中所述掩模 盒的支撑部15为圓柱体和球缺的组合体，所述圓柱体和球缺的材质不同， 其中所述球缺由材质为具有弹性、摩擦系数较小于圓柱体的摩擦系数的材 料组成。本实施例中的掩模盒的其它结构同第二实施例所描述的掩模盒， 这里不再赘述。本实用新型虽然以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本实用 新型，任何本领城技术人员在不脱离本实用新型的精神和范围内，都可以 做出可能的变动和#"改，因此本实用新型的保护范豳应当以本实用新型权 利要求所界定的范围为准。
权利要求1、一种掩模盒，用于放置掩模板，所述掩膜板上形成有图案，该掩膜盒包括盒体、盒盖和位于所述盒体上的用于支撑所述掩模板的支撑部，其中，所述支撑部具有与所述掩膜板接触的接触端，其特征在于所述接触端与所述图案之间有距离。
2、 如权利要求1所述的掩模盒，其特征在于所述支撑部为棱柱、 棱锥、棱台中的一种。
3、 如权利要求1所述的掩模盒，其特征在于所述支撑部为四棱柱， 该四棱柱横截面的宽度为1至2nun，长度为3至4咖。
4、 如权利要求1所述的掩模盒，其特征在于所迷支撑部为圆柱体 和球缺的组合体，所述球缺与所述掩模板4妻触。
5、 如权利要求4所述的掩模盒，其特征在于所述球缺的摩擦系数 小于所述圆柱体的摩擦系数。
6、 如权利要求1所述的掩膜盒，其特征在于所迷支撑部与所述盒 体为一体成型。
7、 如权利要求1所述的掩膜盒，其特征在于所述支撑部与所述盒 体为活动方式连接。
8、 如权利要求1所述的掩模盒，其特征在于所述盒盖上还形成有 用于防止所述^^莫才反沿所述盒盖法线方向滑动的凸柱。
9、 如权利要求8所述的掩模盒，其特征在于所述凸柱与所述掩膜 板的接触端为圆弧形。
10、 如权利要求1所述的掩模盒，其特征在于所述掩模盒还包括有 盒盖与盒体的锁闭装置。
11、 如权利要求1所述的掩模盒，其特征在于所述图案包括对准标 记、条形码标记和版图图案。
专利摘要一种掩模盒，用于放置掩模板，所述掩膜板上形成有图案，该掩膜盒包括盒体、盒盖和位于所述盒体上的用于支撑所述掩模板的支撑部，其中，所述支撑部具有与所述掩膜板接触的接触端，所述接触端与所述图案之间有距离。本实用新型的掩模盒能够减少支撑部对掩模板上图案的磨损，提高掩模板的使用寿命，减少曝光过程中的误差。
文档编号G03F7/20GK201032516SQ20072006746
公开日2008年3月5日 申请日期2007年2月13日 优先权日2007年2月13日
发明者周从树, 伟 张, 王跃刚, 磊 章 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司