耐热遮光片及其制造方法、以及采用它的光圈或光量调节装置的制作方法

专利名称：：耐热遮光片及其制造方法、以及采用它的光圈或光量调节装置的制作方法
技术领域：
：本发明涉及耐热遮光片及其制造方法、以及采用它的光圈或者光量调节装置，更具体地说，涉及作为数码照相机、数码摄像机的镜头快门等的快门叶片或光圈叶片、车载监视器镜头单元中的固定光圏或投影仪的光量调节装置的光圈叶片等光学仪器部件使用、遮光性、耐热性、滑动性、低光泽性、导电性优良的耐热遮光片及其制造方法、以及采用它的光圏或者光量调节装置。
背景技术：
：目前，由于快门速度的高速化，在极短时间内进行动作和停止，因此照相机用的快门叶片和光圏叶片要求轻量化以及具有高滑动性。并且，由于它们是挡在胶巻等感光材料、CCD等的摄像元件前面以遮光的部件，因而最起码要具有遮光性。另外，由于光学仪器用的叶片是多片相互重叠而进行动作的，因而为了顺畅地工作必须具有润滑性。并且，为了防止各叶片之间漏光，要求表面的反射率低。根据使用环境，存在照相机内部出现高温的情况，因而要求具有耐热性。另外，作为展示、家庭影院等视频观赏用投影装置的液晶投影仪的光量调节用光圈叶片使用的遮光片，也要求与数码照相机、数码摄像机具有同样的性能，特别是对于耐热性，要求比照相机的性能更高。通常，上述遮光片以聚对苯二曱酸乙二酯(PET)等塑料膜或SUS、SK材料、Al等金属片作为基板而应用。在照相机中，当使用基材为金属性的遮光片作为快门叶片、光圏叶片使用时，在叶片部件开关时，金属板之间存在摩擦而产生很大的噪音。另外，在液晶投影仪中，在图像变化时为了緩和各图像的亮度变化，需要高速地移动叶片，导致叶片之间反复出现摩擦噪音。此外，为了降低这种噪音，要使叶片低速运动，此时，若不对图像的变化另外地进行光量调节，则会出现图像不稳定的问题。从上述问题和轻量化的角度出发，在近年来遮光片的构成中，将塑料膜用于基板已成为主流。另外，从产生灰尘性的角度出发，还要求具有导电性。由上述可知，遮光片的必要性能包括高遮光性、耐热性、低光泽性、滑动性、导电性、低产生灰尘性。为满足这些遮光片的性能，一直以来提出了采用各种材料、膜构造的方案。例如，专利文献1中公开了一种遮光片，从遮光性、低光泽性、导电性的角度出发，为了吸收从灯光源等发出的光，将碳黑、钛黑等导电性黑色微粒浸含在聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜等树脂片中，使其具有遮光性和导电性，并对遮光片的一面或两面进行糙化处理，使其具有低光泽性。专利文献2中公开了一种遮光片，其在树脂片上涂敷具有遮光性和导电性的含碳黑等黑色颜料、润滑剂和去光剂的热固化性树脂层，使其具有遮光性、导电性、润滑性、低光泽性。专利文献3中公开了在铝合金等金属制叶片材料表面上形成硬质碳膜的遮光部件。专利文献4中公开了一种遮光叶片构造，其为了提高遮光叶片的刚性，对塑料基材两面釆用含碳纤维的热固化性树脂的预浸处理片进行强化。遮光片作为数码照相机、数码摄像机、液晶投影仪等光学仪器用遮光叶片已被广泛使用。近年来，对于液晶投影仪来说，对在起居室这样的明亮环境下也能够欣赏到鲜艳、高对比的视频这种高画质化的要求日益提高。这样，为了画质的高亮度化，就要提高灯光源的输出功率，因而就出现光量调节用的光圈装置内温度升高的倾向。由于对调节光量的遮光片照射了大功率的光，形成了使遮光片容易热变形的环境。遮光片的基材，例如以聚对苯二曱酸乙二酯(PET)作为基材的遮光片，由于比重小而被广泛使用，然而当灯光源输出功率大时，由于聚对苯二甲酸乙二酯(PET)热变形温度低，拉伸弹性率等机械强度小，因而会出现移动过程中或者制动时产生的振动或撞击等导致遮光叶片变形的可能性。此外，为了使遮光片具有低光泽性和滑动性，采用喷砂法进行糙化处理。这种处理进一步使入射光散射而使表面的光泽性下降，具有提高可视性的效果。通过上述处理，被认为遮光片即使相互接触，由于遮光片之间接触面积没有增大，因而也可以防止滑动性降低。在数码照相机、数码摄像机、液晶投影仪中，遮光片作为快门叶片、光围叶片等必须多片邻接并重合而使用，因而对于采用有机成分遮光材料、润滑剂、去光剂的遮光片来说，数码照相机、数码摄像机和液晶投影仪所处的温度、湿度这些使用环境显得更加恶劣。汽车所装载的监视器用镜头单元中使用的固定光圏，即使在100155°C的高温下也可以使用。特别是对于液晶投影仪，如上所述，由于近年来随着图像的高亮度化而使得灯光源大功率化，装置(光量调节用装置、光圏装置)内的温度上升至20(TC左右。在如此恶劣的环境下，若使用上述以前的遮光片，会发生变形、变色等，在耐久性方面不是优选的，在实用上存在问题。另外，由于遮光片在155。C以上的高温环境下热变形，即使是上述表面上具有微细凹凸构造的遮光片，热变形也很大，遮光片之间相互接触，使其不能进行高速运动，不规则摩擦程度增大，导致滑动性、光泽性劣化等，出现数码照相机、数码摄像机、液晶投影仪不能发挥其原来的功能的可能性。另外，虽然上述基材塑料膜的糙化处理通过在基材塑料膜上形成微细的凹凸，具有提高基材与该基材上的涂膜之间的粘合力，以及降低表面光泽性的效果，然而，在采用喷砂法时，由于片表面的粗糙度依赖于喷射材料的材质、粒度、喷射压力等，虽然粒径大的喷射材料可以通过水洗或者刷洗等清洗从片表面除去，但粒径不足lpm的小颗粒即使在洗涤后片上也会有相当一部分残留下来，不能被完全除去。若残留喷射材料，则在遮光片所处的高温环境下，由于喷射材料与片上形成的金属合金遮光片等膜的热膨胀系数不同，出现热应力差而使膜脱离下来，以及喷射材料从片上脱离下来，对其周围部件产生不利影响，导致不能发挥其原来的功能的问题。专利文献1日本特开平1-120503号公报专利文献2日本特开平4-9802号公报专利文献3日本特开平2-116837号公报专利文献4日本特开2000-75353号公报
发明内容因此，本发明的目的是提供一种耐热遮光片，其作为处于高温下的液晶投影仪的光量调节装置用叶片、或在加工时处于高温下的数码照相机的快门叶片或固定光圏使用，在基材片表面上具有微细的凹凸构造，该遮光片不会出现滑动性、光泽性劣化，也不会发生变形、变色，具有优良的耐久性，不会发生膜脱离以及喷射材料脱落，导电性优良。本发明者们发现，为解决上述现有技术的问题，以表面上具有微细凹凸的耐热性树脂片作为基材，采用具有155。C以上耐热性的树脂片(A),在使该树脂片基材(A)表面温度维持在155。C以上的状态下，通过溅射法形成具有特定厚度的结晶性金属碳化物膜(在说明书中，有时也记载为MeC)作为遮光膜(B)，这样，可以获得即使处于155°C以上的高温环境下，甚至根据基材的种类处于200。C左右的高温环境下也不会变形、可保持其特性(遮光性、低光泽性、滑动性、色度、低反射性)的耐热遮光片，其可以作为数码照相机、数码:摄像机、液晶投影仪等的光圏部件使用，从而完成了本发明。即，根据本发明的第1项发明，提供一种耐热遮光片，其特征在于它是包括具有155°C以上耐热性的树脂片基材(A)和作为遮光膜(B)而在树脂片基材(A)—面或两面上形成的结晶性金属碳化物膜(MeC)的耐热遮光片，遮光膜(B)厚度为lOOnm以上，表面并且糙度为0.12.1pm(算术平均高度Ra)，且金属碳化物膜(MeC)中碳元素(C)相对于全部金属元素(Me)的原子数比(C/Me)为0.3以上。另外，根据本发明的第2项发明，提供一种耐热遮光片，其特征在于在第1项发明中，树脂片基材(A)由从聚萘二曱酸乙二醇酯、聚酰亚胺、芳族聚酰胺、聚苯硫醚或聚醚砜中选出的一种以上构成。另外，根据本发明的第3项发明，提供一种耐热遮光片，其特征在于，在第1或第2项发明中，树脂片基材(A)的耐热性为200°C以上。另外，根据本发明的第4发明，提供一种耐热遮光片，其特征在于，在第13项发明中，树脂片基材(A)的厚度为5-200nm。另外，根据本发明的第5项发明，提供一种耐热遮光片，其特征在于在第1~4项发明中，树脂片基材(A)的表面粗糙度为0.22.2pm(算术平均高度Ra)。另外，根据本发明的第6项发明，提供一种耐热遮光片，其特征在于，在第15项发明中，遮光膜(B)的厚度为110~550nm。根据本发明的第7项发明，提供一种耐热遮光片，其特征在于，在第16项发明中，金属碳化物膜(MeC)以从碳化硅、碳化钛、碳化铝、碳化铌、碳化鴒、碳化钼、碳化钒、碳化钽、碳化锆或碳化铪中选出的一种以上材料作为主成分。另外，根据本发明的第8项发明，提供一种耐热遮光片，其特征在于，在第17项发明中，金属碳化物膜(MeC)中碳元素(C)相对于全部金属元素(Me)的原子数比(C/Me)为0.5以上。另外，根据本发明的第9项发明，提供一种耐热遮光片，其特征在于，在第18项发明中，金属碳化物膜(MeC)中含氧量(O)以相对于全部金属元素(Me)的氧元素(O)的原子数比(0/Me)计为0.5以下。根据本发明的第IO项发明，提供一种耐热遮光片，其特征在于，在第19项发明中，遮光膜(B)在380~780nm波长处的光反射率为10%以下。另外，根据本发明的第11项发明，提供一种耐热遮光片，其特征在于，在第110项发明中，作为遮光性指标的光密度在380~780nm波长处为4以上。另外，根据本发明的第12项发明，提供一种耐热遮光片，其特征在于，在第1~11任一项发明中，在树脂片基材(A)的两面上形成组成和膜厚相同的金属碳化物膜(MeC)。另一方面，根据本发明的第13项发明，提供一种耐热遮光片的制造方法，其特征在于，在第1~12项发明所述的包括具有155°C以上耐热性的树脂片基材(A)和作为遮光膜(B)而在树脂片基材(A)一面或两面上形成的金属碳化物膜(MeC)的耐热遮光片的制造方法中，将表面粗糙度为0.22.2pm(算术平均高度Ra)的树脂片基材(A)置于溅射装置中，釆用金属碳化物靶，在惰性气体环境下通过溅射法，在该树脂片基材(A)上形成厚度为100nm以上、表面粗糙度为0.12.1pm(算术平均高度Ra)、且金属碳化物膜(MeC)中碳元素(C)相对于全部金属元素(Me)的原子数比(C/Me)为0.3以上的结晶性金属碳化物膜(MeC)。另外，根据本发明的第14项发明，提供一种耐热遮光片的制造方法，其特征在于，在第13项发明中，将形成了金属碳化物膜(MeC)的耐热遮光片进一步置于溅射装置中，通过溅射在树脂片基材(A)的没有形成金属碳化物膜(MeC)的一面上形成金属碳化物膜(MeC)。根据本发明的第15项发明，提供一种耐热遮光片的制造方法，其特征在于，在第13或第14项发明中，遮光膜(B)成膜时的溅射气压为0.2~1.0Pa。另外，根据本发明的第16项发明，提供一种耐热遮光片的制造方法，其特征在于，在第1315任一项发明中，遮光膜(B)成膜时树脂片基材(A)的表面温度为180。C以上。另外，根据本发明的第17项发明，提供一种耐热遮光片的制造方法，其特征在于，在第1316任一项发明中，树脂片基材(A)巻成筒状设置在溅射装置的片输送部上，在由退巻部巻至巻取部时，通过溅射法进行成膜。另外，根据本发明的第18项发明，提供一种耐热遮光片的制造方法，其特征在于，在第1317任一项发明中，树脂片基材(A)巻成筒状设置在溅射装置的片输送部上，在由退巻部输送至巻取部时，通过溅射法进行成膜，成膜时树脂片基材(A)不会被冷却，在成膜室内成悬空状态而进行成膜。另一方面，根据本发明的第19项发明，提供将第112任一项发明中的耐热遮光片进行加工所制得的耐热性优良的光圈。另外，根据本发明的第20项发明，提供采用第112任一项发明中的耐热遮光片的光量调节装置。本发明的耐热遮光片由于在具有算术平均高度Ra为0.2~2.2nm的表面粗糙度的耐热性树脂片基材上形成特定厚度的金属碳化物膜，因而可以实现具有低光泽性、低反射性、导电性的耐热遮光片。并且，该金属碳化物膜由于通过溅射法成膜，与由以前涂膜工序所制得的遮光片相比，可以形成致密的表面状态，表面的耐磨损性、耐摩擦性更优异。而且，本发明的耐热遮光片由于在具有155。C以上耐热性的树脂片基材上形成作为遮光膜的结晶性金属碳化物膜，因而该金属碳化物材料在155300。C的高温环境下或高湿度环境下不容易被氧化，遮光性不会发生变化，因此，与以前采用容易氧化的金属膜作为遮光膜的耐热遮光片相比，耐热性更优异。并且，本发明的耐热遮光片由于具有金属碳化物膜以耐热性树脂片为中心的对称型膜构造，因而在成膜时不会因膜应力而发生遮光片变形，生产性优良。另外，通过使本发明金属碳化物膜的溅射法成膜条件最佳化，可以使上述金属碳化物膜形成致密的膜，由于该致密的最表层膜，使得即使处于155300°C的高温环境下，釆用该耐热遮光片的遮光叶片在动作时也不会出现膜的脱离，因此，在对基材片进行糙化处理，具体地说通过喷砂法进行膜表面处理时，不会发生与其伴随的附着残留的喷射材料脱离的情况。本发明的光量调节装置采用由上述耐热遮光片加工制作的遮光叶片，与以前采用由在金属箔板上施加耐热涂料的耐热遮光片制作的遮光叶片的光量调节装置相比，由于遮光叶片以树脂片作为基材进行制作而被轻量化，因而装载在光圈叶片等上时可以提高滑动性，并且可以使驱动电机小型化，有利于降低成本。因此，本发明的耐热遮光片特别可以作为要求具有耐热性的液晶投影仪的光量调节装置的光圈叶片部件或车载监视器镜头单元内的固定光圏部件4吏用。并且，也可以作为数码照相机、数码摄像机的快门叶片等使用，因而在工业上有用。图1是本发明的在基材一面上形成金属碳化物膜的耐热遮光片的剖视图2是本发明的在基材两面上形成金属碳化物膜的耐热遮光片的剖视图3是演示制造本发明耐热遮光片时使用的巻取式的基材冷却式'减射装置的一例的示意图4是演示制造本发明耐热遮光片时使用的巻取式溅射装置(浮法)的一例的示意图5是使用本发明耐热遮光片的光圈机构的示意图6是由本发明的方法制造的耐热遮光片的遮光膜(碳化钛膜)的X射线衍射图谱；图7是由本发明的方法制造的耐热遮光片的遮光膜(碳化鵠膜)的X射线衍射图谱。具体实施例方式以下，参照附图对本发明的耐热遮光片及其制造方法、用于光量调节装置和光圏的用途进行说明。1.耐热遮光片本发明的耐热遮光片的特征在于它是包括具有155。C以上耐热性的树脂片基材(A)和作为遮光膜(B)而在树脂片基材(A)—面或两面上形成的结晶性金属碳化物膜(MeC)的耐热遮光片，遮光膜(B)厚度为100nm以上，表面粗糙度为0.12.1pm(算术平均高度Ra),且金属碳化物膜(MeC)中碳元素(C)相对于全部金属元素(Me)的原子数比(C/Me)为0.3以上。通过形成具有如上所述表面粗糙度的遮光膜，或者在该遮光膜表面上覆盖金属碳化物，使该表面具有同样的表面粗糙度，可以实现耐热遮光片的低光泽性、低反射性，当作为数码摄像机固定光圈或机械快门装置光圏的叶片，或者液晶投影仪光量光圏装置的叶片部件使用时，光学系统中可避免出现由反射光产生的杂光。图1和图2是演示本发明的这种耐热遮光片构成的示意图。本发明的耐热遮光片包括作为基材的树脂片基材1、其表面上形成的金属碳化物膜2。并且，金属碳化物膜2的表面粗糙度为0.12.1(im(算术平均高度Ra),更优选为0.2~2.0nm,最优选为0.31.9pm。若不足0.1pm，则从低光泽性角度考虑是不优选的，另外若超过2.1pm,则从容易产生表面缺陷的角度考虑是不优选的。上述金属碳化物膜2如图1所示，也可以在树脂片基材的一面上形成，^旦优选如图2所示在两面上形成。当在两面上形成时，更优选各面的膜的材质和厚度相同，使其成为以树脂片基材为中心的对称结构。基板上形成的薄膜由于对基板产生应力，因而成为变形的主要因素。应力导致的变形有时在刚刚成膜之后的耐热遮光片中也能发现，特别是若加热至155-300。C程度，变形很容易显著地增大。但是，通过如上所述使基板两面上形成的金属碳化物膜的材质、厚度相同，使其成为以基板为中心的对称结构，即使在加热条件下，也很容易实现维持应力的均衡，获得平坦的耐热遮光片。(A)树脂片基材作为本发明耐热遮光片中使用的树脂片基材(A),只要是具有155。C以上的耐热性的耐热树脂片基材，则对其没有特别的限制，优选由从聚萘二曱酸乙二醇酯、聚酰亚胺、芳族聚酰胺、聚苯硫醚或聚醚砜中选出的一种以上构成的材料。其中聚萘二曱酸乙二醇酯的耐热性约为200°C,可以在155~200°C的环境下使用，非常廉价，作为工业材料有用。此外，聚酰亚胺片、芳族聚酰胺、聚苯石危醚或聚醚砜的耐热性为200。C以上，在200°C以上的环境下也可以使用。特别是聚酰亚胺的最大耐热温度高到300。C以上，是最优选的片。另外，作为基材使用的树脂片，可以是由透明树脂构成的，也可以由混炼了颜料的着色树脂构成，但是必须具有155。C以上的耐热性。这里，所谓具有155。C以上耐热性的片，是指玻璃化转变温度为155。C以上的片，并且对于不存在玻璃化转变温度的材料，在155。C以上的温度下不会变质。树脂材料的材质，当考虑量产性树脂片基材的厚度优选为5~200pm的范围，更优选为10~150pm,最优选为20~125nm。因为，当薄于5pm时，则操作性很差，且片容易产生损伤和折缝等的表面缺陷，当厚于200pm时，不能在实行小型化的光圏装置或光量调节用装置中装入多块遮光叶片。另外，作为本发明的耐热遮光片基材的树脂片，其表面算术平均高度Ra优选为0.22.2pm、特别优选具有0.32.1pm的微细凹凸结构。若Ra小于0.2^im，则不能实现与片表面上形成的金属碳化物膜的密合性，并且也不能获得足够低的光泽性和低反射性。另外，若Ra超过2.2iim，则片表面的凹凸过大，凹部不能形成金属碳化物膜，若要覆盖片表面以获得充分的遮光性，则金属碳化物膜的厚度变厚，成本提高，因而不优选。算术平均高度，也称为算术平均粗糙度，是从粗糙度曲线上只取其平均线方向上的基准长度，将从该取样部分的平均线至测定曲线的偏差的绝对值合计平均所得的值。树脂片表面上的凹凸通过对片表面进行表面处理而形成。例如，可以通过纳米印刷加工或采用喷射材料的糙化处理进行加工形成规定的表面凹凸结构。当进行糙化处理时，通常是喷射材料采用砂子的糙化处理加工，但喷射材料并不局限于砂子。可以一边输送片，一边在片表面上形成凹凸，然而由于最佳Ra值的凹凸依赖于糙化处理中片的输送速度、喷射材料的种类和大小，因而要使这些条件最优化而进行表面处理，以使片表面的算术平均高度Ra值为0.22.2pm。糙化处理后的片，洗涤除去喷射材料后，进行干燥。当在片两面上形成金属碳化物膜时，要对片的两面进行糙化处理。(B)遮光膜(金属碳化物膜)本发明的耐热遮光片在155°C的高温环境下也具有足够的耐热性。这除了树脂片基材具有耐热性以外，还有赖于遮光性金属碳化物膜也具有耐热性。通常由于金属膜若被氧化则透明度增加，因而当采用金属膜作为遮光膜使用时，必须使其具有耐氧化性。本发明的耐热遮光片中所用的遮光膜材料，与通常的金属膜相比，采用了耐氧化性更优良的金属碳化物膜。本发明的金属碳化物膜(MeC),优选以从碳化硅、碳化钛、碳化铝、碳化铌、碳化鴒、碳化钼、碳化钒、碳化钽、碳化锆和碳化铪构成的群组中选出的一种以上材料作为主成分。这些金属碳化物膜与以前的金属膜(硅、钛、铝、铌、钨、钼、钒、钽、锆、铪)相比，不仅在155~300°C时具有耐氧化性，而且由于其为硬质材料，耐磨损性也更优良。相比之下，当使用以前的金属膜(硅、钛、铝、铌、鴒、钼、钒、钽、锆、铪)作为遮光膜时，由于在上述高温下没有足够的耐氧化性和硬质性，因而必须在其表面上施加作为保护膜的具有耐氧化性和硬质性的其他材料(金属氧化物和DLC等)，使结构变得复杂了，成本也提高了。此外，就本发明中使用的金属碳化物膜(MeC)的组成而言，膜中石友元素(C)相对于全部金属元素(Me)的比率，C/Me原子数比为0.3以上，优选为0.5以上，特别是0.7以上。因为，若C/Me原子数比不足0.3,则在155~300°C的高温加热下不能获得耐氧化性。作为树脂片上形成的遮光膜的金属碳化物膜，必须是晶体膜。因为晶体膜可对树脂片基板发挥牢固的密合性。若为非晶体膜，则在高温环境下使用时，会发生膜的结晶化。若发生膜的结晶化，则不仅会引起变色，而且由于发生结晶化的部分产生膜应力，使耐热遮光片的应力失衡，导致容易发生变形，因而很成问题。金属碳化物(MeC)膜，由于是其金属成分(Me)晶体中可侵入碳元素(C)的材料，与其金属成分(Me)的金属膜相比，难以发生结晶化。并且因为通过向金属成分的晶体中侵入碳元素，使各元素间的键的共价键性的比率增大，与不含碳元素的金属键性构成的金属材料相比，结晶化更难以发生。若是可产生耐热性的C/Me原子数比为0.3以上的膜，则特别难以发生结晶化。另外，金属碳化物膜是否为晶体膜，可以通过X射线衍射测定调查有无衍射峰，或者通过TEM观察膜截面调查有无晶粒而进行评价。若结晶度高，则存在如图6的明确的衍射峰。另外，如上所述，本发明的金属碳化物膜(MeC)的表面粗糙度必须为0.12.1nm(算术平均高度Ra)。更优选为0.2~2.0|im,最优选为0.31.9pm。若不足0.1pm,则从低光泽性角度考虑是不优选的，另外若超过2.1pm,则从容易产生表面缺陷的角度考虑是不优选的。另外，本发明的金属碳化物膜(MeC)的厚度为110550nm，优选为110400nm,更优选为110300nm。若膜厚不足110nm，则会发生膜透光而不能获得充分的遮光功能，因此是不优选的。然而，若膜厚度厚则遮光性好，但若超过550nm,则材料成本和成膜时间增加，导致制造成本提高，并且膜的应力也增大，导致容易变形。通过使金属碳化物膜为如上所述的厚度，可以实现充分的遮光性、低膜应力和低制造成本。此外，形成这种金属碳化物膜，必须表面粗糙度Ra为0.12.1pm。这样，可以使380~780nm波长处的光反射率降低到10%以下。遮光性优选光密度为4以上，或者透光率为1%以下，特别优选为0%。另外，上述金属碳化物膜中也可以含有氮元素。金属碳化物膜中氮元素的引入，可以通过在金属碳化物膜成膜时的溅射气体中导入含氮气的添加气体进行溅射成膜而实现，但也可以不使用上述添加气体，通过使靶中含氮元素，也可以引入这些元素。此外，为了保持与树脂片的高密合性和高遮光性，本发明中使用的金属碳化物膜中优选尽量不含氧气。但是，靶内所含的氧气或成膜室内残留的氧气等在成膜时摄入到金属膜的一部分或全体中，若不损害金属性、高遮光性和与树脂片的高密合性，则也没有关系。这种金属碳化物膜(MeC)中不可避免含有的氧气的含量，相对于全部金属元素(Me)的含氧元素(O)的比率，O/Me原子数比优选为0.5以下，更优选为0.1以下。这是因为，所含的氧元素(O)若O/Me原子数比超过0.5,则在380780nm波长处透光率会增大(光密度变小)，导致不能获得充分的遮光性能。若0/Me原子数比为0.5以下，则即使是110~400nm以下的薄膜厚度，也可以发挥充分的遮光性，从而实现制造成本的降低。但是，即使在0/Me原子数比超过0.5的情况下，若为0.8以下，通过使膜厚度增加到400~550nm,也会具有足够的遮光性。金属碳化物膜中的O/Me原子数比可以通过例如XPS(X射线光电子分光分析)测定。由于膜最外表键合的氧量较多，因而可以通过在真空下溅射除去20~30nm深度后进4亍测定而对膜中的O/Me原子数比定量化。本发明耐热遮光片的金属碳化物膜也可以是以组成(金属元素的含量和种类、碳元素含量、氮元素含量、氧元素含量)不同的多种金属碳化物膜的层积膜构成。通过层积光学常数不同的多种金属碳化物膜，可以获得光干涉效果，从而控制反射性能。另外，在不损害本发明特征的情况下，本发明的耐热遮光片在上述金属碳化物膜的表面上薄薄地涂敷具有润滑性或低摩擦性的其他薄膜(例如，含氟的有机膜等)而使用也是可以的。2.耐热遮光片的制造方法
技术领域：
：本发明耐热遮光片的制造方法特征在于，是包括具有155°C以上耐热性的树脂片基材(A)和作为遮光膜(B)而在树脂片基材(A)—面或两面上形成的金属碳化物膜(MeC)的耐热遮光片的制造方法，该方法将表面粗糙度为0.22.2pm(算术平均高度Ra)的树脂片基材(A)置于溅射装置中，釆用金属碳化物靶，在惰性气体环境下通过溅射法，在该树脂片基材(A)上形成厚度为100nm以上、表面粗糙度为0.12.1pm(算术平均高度Ra)、且金属碳化物膜(MeC)中碳元素(C)相对于全部金属元素(Me)的原子数比(C/Me)为0.3以上的结晶性金属碳化物膜(MeC)。作为金属碳化物膜的成膜方法，优选CVD、PVD等气相合成，其中溅射法或离子镀法由于能够大面积均匀地形成致密优质的膜，在工业上更优选。若通过溅射法或离子镀法成膜，与油墨涂敷法和真空蒸镀法相比，特征在于膜的致密性更大，与下层(基板或膜)的密合性更好。这一性能在将耐热遮光片于155~300°C的高温环境下使用时很显著。当通过油墨涂敷法成膜时，发现膜的脱离和膜氧化导致的色调变化，而当根据本发明通过溅射法成膜时，这种可能性很小，因此是优选的。溅射法是在基材上形成蒸气压低的材料的膜时或者需要控制精密的膜厚时有效的薄膜形成方法。通常，是在约10Pa以下的氩气压下，以基材作为阳极，将作为膜原料的溅射靶作为阴极，在它们之间引发辉光放电，使其产生氩等离子体，等离子体中的氩阳离子撞击阴极的溅射靶，将溅射靶成分的粒子沖击飞出，使该粒子堆积在基材上而成膜的方法。上述溅射法根据氩等离子体的发生方法进行分类，采用高频等离子体的为高频溅射法，采用直流等离子体的为直流溅射法。此外，磁控管溅射法是在溅射靶的背面安装磁铁，使氩等离子体直接集中在溅射靶上，即使在低气压下也可以提高氩离子的撞击效率的成膜方法。作为通过溅射法获得金属碳化物膜的方法，包括采用金属碳化物靶的方法，以及采用金属靶在賊射气体中导入作为碳元素源的烃气体等进行溅射成膜的方法。另外，还包括将金属靶和碳靶同时溅射成膜，在基板上形成金属成分和碳元素成分堆积而成的金属碳化物膜的方法。其中，采用金属碳化物靶的方法，由于膜组成和性能稳定，可以在纯氩气中进行'践射成膜，因而很简便，是优选的。在树脂片上通过溅射法形成金属碳化物膜时，可以使用例如图3所示的巻取式溅射装置。该装置构造为将筒状的树脂片基材1装于退巻辊5上，通过涡轮分子泵等真空泵6将作为成膜室的真空槽7内抽气后，从退巻辊5输出的片1在途中经过冷却罐滚筒8的表面，再被巻取辊9巻取。冷却罐滚筒8表面的对侧设有磁控管阴极IO,该阴极中装有作为膜原料的靶11。另外，由退巻辊5、冷却罐滚筒8、巻取辊9等构成的片输送部通过隔板12而与i兹控管阴才及10相隔离。首先，将筒状的树脂片基材1设置在退巻辊5上，采用涡轮分子泵等真空泵6将真空槽7内抽气。然后，由退巻辊5供给树脂片基材l,途经冷却罐滚筒8的表面，被巻取辊9巻取，同时，使冷却罐滚筒8与阴极之间放电，使冷却罐滚筒表面上贴合输送的树脂片基材1成膜。另外，优选树脂片基材在溅射前要在玻璃化转变温度左右的温度下加热干燥。在本发明的耐热遮光片中，金属碳化物膜层在例如氩气环境下通过使用金属碳化物溅射靶的直流磁控管溅射法在树脂片基材上形成膜。作为树脂片上形成的遮光膜的金属碳化物膜，如上所述需要是晶体膜。金属碳化物(MeC)膜由于是其金属成分(Me)晶体中可侵入碳元素(C)的材料，与其金属成分(Me)的金属膜相比，难以发生结晶化。并且因为通过向金属成分的晶体中侵入碳元素，使各元素间的键的共价键性的比率增大，与不含碳元素的金属键性构成的金属材料相比，结晶化更难以发生。若是可产生耐热性的C/Me原子数比为0.3以上的膜，则特别难以发生结晶化。另外，薄膜晶体的成长在很多程度上依赖于基板的种类和表面形状。在形成金属碳化物膜这种无机膜时，与在金属氧化物等无机材料的基板上相比，在有机物基板上成膜更难制得结晶性良好的膜。此外，基板表面平坦性越好，达到基板的溅射粒子越容易迁移形成晶体阵列，而根据本发明的情况，在表面凹凸较大的基板表面上，入射的溅射粒子难以迁移形成晶体阵列，因而难以汰1亏5吉曰目'l主JSL灯)專/庆。在表面凹凸大的耐热性树脂片表面上，能够致密地形成结晶性好的金属碳化物膜，决定了是否能够实现本发明的耐热性、耐久性优良的耐热遮光片。在本发明中，为了由金属碳化物靶在表面凹凸大的耐热性树脂片表面上通过溅射法形成结晶性良好的致密金属碳化物膜，如下所详述，溅射气压、成膜时片表面温度的控制特别重要。通常，溅射成膜在10Pa以下气压的惰性气体下产生等离子体而进行成膜，但对于获得可用于耐热遮光片的遮光膜、结晶性良好的金属碳化物膜而言，优选在特定气压下进行成膜。在形成结晶性良好的金属碳化物膜时，成膜时的气压根据装置的种类等而不同，因而不能统一地头见定，优选为l.OPa以下，例如0.2~1.0Pa。这样，由于到达基板(树脂片)的溅射粒子获得高能量，在耐热树脂片基板上形成结晶性金属碳化物膜，膜与片之间表现出牢固的密合性。这样，即使树脂片基材上残留微量的喷射材料，在155300°C的高温环境下，喷射材料与金属碳化物膜存在热膨胀差，也不会发生膜脱离。若成膜时的气压不足0.2Pa，则由于气压低使通过溅射法中的氩等离子体不稳定，从而导致形成的膜的膜质变差。并且若不足0.2Pa，反弹的氩粒子对在基板上堆积膜的再賊射机能增强，容易妨碍致密膜的形成。另外，当成膜时的气压超过l.OPa时，由于到达基板的溅射粒子的能量低，使膜很难结晶成长，金属碳化物膜颗粒变粗，不能形成高致密的结晶性膜质，因而与树脂片基材的粘合力减弱，导致膜脱离。这样的膜不能用于耐热性用途的遮光膜。另一方面，成膜时片表面温度对金属碳化物膜的结晶性有影响。风肤口、J曰'、J/1衣由旭厌向,A艰扭于賜务"形风5古曰向l千，J，改善了结晶性。但是，耐热树脂片的加热温度也有界限，即使是耐热性最优良的聚酰亚胺片，也需要在400°C以下的表面温度下进行成膜。可以获得对树脂片高密合的金属碳化物膜。因此，当要获得在高温环境下可以使用的耐热遮光片时特别重要。成膜时的最佳片表面温度根据所用片基材的种类而不同，因而不能统一地规定，例如，为了获得在100~155°C的环境下使用的耐热遮光片，优选为155°C以上。这样，即可获得即使在100155°C的环境下也可获得的下述耐热遮光片，该耐热遮光片对片密合性优良、致密，以结晶性优良膜质的金属碳化物膜构成。在这种情况下，当然要使用具有155°C以上耐热性的树脂片。另外，为了获得在超过155。C的温度，特别是200300。C那样的高温环境下也可使用的耐热遮光片，成膜时片表面温度优选为180~220°C,或者220。C以上、片的耐热温度以下的高温。这样可以获得与具有20CTC以上耐热性的片的密合性优良的、致密膜质的耐热遮光片。但是，为了获得在室温13(TC的温度下使用的遮光片，成膜时片表面温度为50100。C也足够。然而，当片表面温度为50~100°C时，特别难以获得结晶性的金属碳化物膜，必须在溅射气压为0.2~1.0Pa的范围内进行成膜。这样，可以获得包括在室温130。C环境下对片密合性优良的金属碳化物膜的耐热遮光片。另外，成膜过程中树脂片基材可由等离子体自然加热。通过调节气压、向耙施加的电力和片的输送速度，根据从靶向基材射入的热电子和从等离子体的热辐射，可以容易地使成膜过程中的树脂片基材表面温度维持在155~220°C。气压越低，施加的电力越高，片输送速度越慢，则由等离子体自然加热的加热效果就越高。即使在成膜时使片与冷却罐接触的情况下，由于自然加热的影响，片表面的温度也远比冷却罐温度高。然而，在图3的装置中，自然加热的片表面温度由于片一边4皮冷却罐冷却一边输送，因而在很大程度上也有赖于罐的温度，若要尽可能利用成膜时自然加热的效果，则提高冷却罐的温度并减慢输送速度是很有效的。金属碳化物膜的膜厚，可以通过成膜时片的输送速度和向靶施加的电力而进行控制，输送速度越慢，以及向靶施加的电力越大，则膜越厚。另外，图4演示的是与上述片输送方式不同的装置。根据该装置，由于是不通过冷却罐冷却片而溅射成膜的成膜方法(浮法)，因而可以有效地利用自然加热效果。在该方法中，由与靶远离的两根支持辊13支持片，靶11对向的片不会在背面被冷却，其在成膜室(真空槽7)内成悬空状态而进行成膜。由于成膜室为真空，由靶和等离子体照射而蓄积在片上的热量不容易散失，因而可以有效地加热。因此，实际270°C以上的自然加热效果也能够很容易地实现。成膜过程中的基材表面温度可以通过辐射温度计测定，或者预先在片表面上贴上示温标签，成膜后观察标签颜色的变化即可知所达到的温度。这样，可以获得在树脂片基材一面上高密合性地形成了金属碳化物膜的耐热遮光片。若要获得在两面上形成金属碳化物膜的耐热遮光片，则进一步置于上述溅射装置中，同样地通过溅射在树脂片基材的背面按顺序形成金属碳化物膜。另外，为了进行金属碳化物膜的成膜，例示了膜巻取式溅射装置，对连续成膜的方法进行了详细说明，但是本发明并不局限于这些，也可以采用成膜时不移动基材片的分批式成膜方法。此时，需要进行环境气体的更换、片的输入'停止操作，因而很繁瑣。此外，还可以不将基材片巻成巻状，而以切割成规定大小的状态固定在装置内。3.耐热遮光片的用途由上述制造方法制得的本发明耐热遮光片，通过进行不会产生端面裂缝的沖孔加工以制成特定的形状，可以用作为数码照相机、数码摄像机的固定光圈或机械快门的叶片，或仅使一定光量通过的光圏(了^y只)，特别是液晶投影仪的光量调节用装置(自动光圈)的光圈叶片。特别地，车载用数码摄像机的镜头单元内的固定光圏，被夏季阳光加热的效果显著，以及液晶投影仪的光量调节装置被灯光照射的加热效果显著。因此，加工本发明的耐热遮光片所制得的耐热遮光性好的光圏叶片有用。此外，在采用回流工序装配光学部件的制造工序中，加工本发明的耐热遮光片所制得的固定光圈或机械快门叶片由于在工序中的加热环境下也不会发生性能的改变，因而有用。图5是显示装载了进行沖孔加工后耐热遮光叶片14的光量调节装置的光圈机构的示意图。耐热遮光叶片14设有导向孔15和孔19,孔19用于将其装配在与驱动电机卡合的导向销16和设有控制遮光叶片运行位置的销17的基板18上。另夕卜，基板18的中央具有允许灯光通过的开口部20,遮光叶片根据光圈装置的结构而可以为各种形状。此外，本发明的耐热遮光片由于以树脂片作为基材，因而实现了轻量化，可以使驱动遮光叶片的驱动部件小型化并降低耗电量。实施例接下来，采用实施例、比较例对本发明进行具体的说明。另外，所得耐热遮光片的评价通过以下方法进行。(光密度、反射率)所得耐热遮光片的光密度、反射率，采用分光光度计，测定波长为380nm780nm可见光区的遮光性和反射率(正反射率)。作为遮光性指标的光密度由通过分光光度计测定的透光率(T)按照以下的公式换算。必须达到光密度为4以上，最大反射率不足10%。光密度二Log(l/T)(表面光泽度)所得耐热遮光片的表面光泽度采用光泽度计按照JISZ8741进行测定。若表面光泽度不足3%,则光泽度为良好。(摩擦系数)所得耐热遮光片的静摩擦系数和动摩擦系数按照JISD1894进行测定。当静摩擦系数和动摩擦系数为0.3以下时判断为良好。(表面粗糙度)所得耐热遮光片的算术平均高度Ra通过表面粗糙度计((抹)东京精密制造，，一73厶570A)测定。表面粗糙度必须为0.12.1pm(算术平均高度Ra)。(遮光膜的结晶性)遮光膜的结晶性通过X射线衍射测定进行评价。X射线衍射装置采用X'PertPROMPD(PANalytical公司制造)，测定条件为广角范围测定，采用CuKa线，电压45kV,电流40mA进行测定。根据有无X射线衍射峰评价膜的结晶性。并且也通过TEM观察膜截面，根据有无结晶颗粒评价结晶性。(遮光膜的组成)遮光膜的组成(C/Me原子数比)通过XPS和EPMA(电子束微量分析器)定量分析确定。另外遮光膜中含氧量(0/Me原子数比)通过XPS定量分析。XPS组成分析通过在真空下溅射除去2030nm深度后进4亍测定。必须达到C/Me为0.3以上，0/Me为0.5以下。(耐热性)所得耐热遮光片的耐热性能按照以下的程序进行评价。将制作的耐热遮光片在加热至设定加热温度(130、155、250。C)的烘箱(7、乂夕社制造)中放置24小时后，取出。当没有弯曲和膜变色时评价为良好(O),当有弯曲或者膜变色时评价为不够好(x)。(密合性)所得耐热遮光片的密合性由耐热试验后的膜按照JISC0021进行评价。当没有膜脱离时评价为良好，有膜脱离时评价为不够好。(导电性)所得耐热遮光片的导电性，按照JISK6911测定表面电阻值。(实施例1)采用如图3所示的巻取式溅射装置在具有200。C以上耐热性的树脂片基材上进行金属碳化物膜的成膜。首先，在冷却罐滚筒8表面对侧的设有磁控管阴极10的装置的阴极中，装上作为膜原料的輩巴11。退巻辊5、冷却罐滚筒8、巻取辊9等,构成的片输送部通过隔板12与磁控管阴极10相隔离。然后，将筒状的树脂片基材1设置在退巻辊5上。树脂片基材采用进行了喷砂表面加工、使其具有算术平均高度Ra为0.5nm的表面凹凸、厚度为75pm的聚酰亚胺(PI)片。该聚酰亚胺(PI)片在溅射前加热至200°C以上的温度进行干燥。然后，通过涡轮分子泵等真空泵6将真空槽7内抽气后，使冷却罐滚筒8与阴极之间放电，将树脂片基材1与冷却罐滚筒表面贴合而输送，同时进行成膜。成膜前真空槽内达到的真空度为2xl(T4以下。首先，将碳化钛烧结体靶(C/Ti原子数比为0.8)置于阴极中，由该阴极通过直流溅射法进行碳化钛膜的成膜。碳化钛膜采用纯氩气溅射气体(纯度99.999%)在0.6Pa的溅射气压下进行成膜。成膜时通过控制片的输送速度和向靶施加的电力来控制碳化钛膜的厚度。从退巻辊5输送出的树脂片基材1途经冷却罐滚筒8的表面，再由巻取辊9巻取。在碳化钛膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式濺射装置的石英玻璃^L窗测定，温度为200~210°C。在厚度为75pm的聚酰亚胺(PI)片两面上，溅射形成膜厚为200nm的碳化钛膜，制得耐热遮光片。对该聚酰亚胺(PI)片的表面以规定的喷射时间、喷射压力、输送速度进行喷砂加工，在两面上都形成算术平均高度Ra为0.5pm的微细凹凸。通过在片两面的每一面上进行如此的成膜，可以制造出以聚酰亚胺(PI)片基材为中心的对称结构的遮光片。然后，对所制作的耐热遮光片通过上述方法进行评价。其结果为所得碳化钛膜的组成由XPS和EPMA定量分析，鉴定为与靶组成相同(C/Ti原子数比为0.8)。另外膜内部含氧量通过XPS定量分析，0/Me的原子数比为0.3。膜的结晶性通过X射线衍射测定的结果，得到如图6所示的谱图，观察到由TiC晶体结构产生的衍射峰，可知其为结晶性优良的膜。另外，膜的截面通过TEM观察，可见为由晶粒构成的膜。另外，可见光区(波长380780nm)的光密度为4以上，最大反射率为7%。并且，表面光泽度不足3%。静摩擦系数和动摩擦系数为0.3以下，良好。另外，表面电阻值为98Q/口(读为欧姆每平方)，表面算术平均高度Ra为0.4|im。加热后的耐热遮光片没有发生弯曲和变色。没有发生膜脱离，良好。遮光性、反射性能、光泽度、摩擦系数与加热前也没有变化。这些评价结果列于表1。所得耐热遮光片光密度、反射率、表面光泽度、耐热性、摩擦系数、导电性全都良好，由此可见，这种耐热遮光片可以作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圈等部件使用。(实施例2)除了改变成膜过程中的片输送速度、仅使碳化钛膜的厚度变为110nm以外，在与实施例1完全相同的条件下制作耐热遮光片。靶的种类、聚酰亚胺的种类、厚度、表面粗糙度与实施例l相同。另外成膜前真空槽内达到的真空度为6xl(T5Pa以下。遮光膜的含碳量与实施例1相同。膜内部含氧量通过XPS定量分析，O/Me的原子数比为0.4。由遮光膜的X射线衍射测定可知，该膜为结晶性优良的TiC膜。另外，截面通过TEM观察，也可知形成了由晶粒构成的致密膜。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃^L窗测定，温度为180~200°C。可见光区域的光密度、反射率、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。并且，确认表面电阻值为190D/口，表面算术平均高度Ra为0.4nm。此外，在250。C下24小时的加热试-验后的膜的密合性评价中，也没有弯曲和膜的脱离，可见具有与实施例1同等的耐热性能。制得的耐热遮光片的构成、性能一并列于表l。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在高温环境下^f吏用的液晶投影仪的光图等部件使用。(实施例3)在实施例2的成膜条件下，使成膜前真空槽内达到的真空度为8xlO"Pa,在片基材上进行5次成膜，在片两面上形成550nm的碳化钛膜，除此以外，在与实施例2完全相同的条件下制作耐热遮光片。靶的种类、聚酰亚胺的种类、厚度、表面粗糙度与实施例1相同。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为180200°C。遮光膜的含碳量与实施例1相同。XPS定量分析的膜内部含氧量(0/Ti原子数比)为0.8，与实施例1~2的膜相比有相当的增多。由膜的X射线衍射测定可知，该膜为结晶性优良的TiC膜。另夕卜，截面通过TEM观察，也可知其由结晶粒构成的致密膜构成。可见光区域的光密度、反射率、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。并且，确认表面电阻值为80Q/口，表面算术平均高度Ra为0.3[im。此外，在250。C下24小时的加热试验后的膜的密合性评价中，也没有弯曲和膜的脱离，可见具有与实施例1同等的耐热性能。制得的耐热遮光片的构成、性能一并列于表l。实施例3的膜含氧量比实施例1~2的膜多，是由于成膜过程中真空槽内真空度较差。也就是说是被认为由于真空槽内的残留氧气由溅射被摄取到膜中。这种含氧量多的膜，由于透光率有若干增高，若膜厚不足400nm则不能获得充分的遮光性。但是通过使实施例3那样的膜厚达到550nm,确保了光密度为4以上的充分遮光性。另外，在同样的实验中，当为0/Ti原子数比为0.9的膜时，膜厚为450nm、500nm时均确认为达到光密度为4以上的遮光性。这种耐热遮光片可以作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圈等部件使用。(比较例1)除了改变片输送速度使碳化钛膜的厚度变为90nm以外，在与实施例1完全相同的条件下制作耐热遮光片。耙的种类、聚酰亚胺的种类、厚度、表面粗糙度与实施例1相同。遮光膜的组成(含碳量、含氧量)、结晶性也与实施例1的膜相同。评价结果列于表2。对片两面上形成了90nm碳化钛膜的耐热遮光片以与实施例1同样的方法、条件进行的评价(光学性能、耐热性)。其结果为光密度为3，可见没有充分的遮光性。因此，若将这种遮光膜用于液晶投影仪光圈部件，由于会发生漏光，因而不具有足够的性能。(实施例4)除了使用由改变喷砂表面加工条件制作的算术平均高度Ra为0.2pm的聚酰亚胺片以外，在与实施例1完全相同的条件下制作耐热遮光片。靶的种类、聚酰亚胺的种类、厚度与实施例l相同。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的賊射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为200~210°C，具有与实施例1同等的片温度。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。遮光膜的组成(含碳量、含氧量)、结晶性也与实施例1的膜相同。性能一并列于表1。其结果是光密度、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。并且，确认表面电阻值为105D/口，表面算术平均高度Ra为O.l(im。可见光区域的最大反射率为10%。在250°C下24小时的加热试验后的膜的密合性评价中，也没有弯曲和膜的脱离，可见具有与实施例1同等的耐热性能。制得的耐热遮光片的构成、性能一并列于表1。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圈等部件使用。(实施例5)除了使用由改变喷砂表面加工条件制作的、算术平均高度Ra为0.8pm的聚酰亚胺片以外，在与实施例1完全相同的条件下制作耐热遮光片。靶的种类、聚酰亚胺的种类、厚度与实施例1相同。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为200210°C,具有与实施例1同等的片温度。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。确认遮光膜与实施例1同样结晶性优良，膜中含碳量和含氧量也与实施例1基本相同。性能一并列于表1。其结果是光密度、反射率、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。并且，确认表面电阻值为90Q/口，表面算术平均高度Ra为0.7pm。另夕卜，在250。C下24小时的加热试验后的膜的密合性评价中，也没有弯曲和膜的脱离，可见具有与实施例1同等的耐热性能。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圈等部件使用。(比较例2)除了使用由改变喷砂表面加工条件制作的算术平均高度Ra为O.lpm的聚酰亚胺片以外，在与实施例1完全相同的条件下制作耐热遮光片。靶的种类、聚酰亚胺的种类、厚度与实施例l相同。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为200210°C。对片两面上制作了碳化钛膜的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。确认遮光膜与实施例1同样结晶性优良，膜中含碳量和含氧量也与实施例l相同。性能一并列于表l。其结果是虽然光密度为4以上，与实施例l相同，但反射率最大为33%,光泽度显示为70%,与实施例2相比，是反射率和光泽度更大的耐热遮光片。另外，确认表面电阻值为110Q/口，表面算术平均高度Ra为0.05pm。在250°C下24小时的加热试验后的膜的密合性评价中，没有弯曲和膜的脱离。这种反射率和光泽度值大的耐热遮光片若用于快门叶片等，由于受到表面反射的影响而不能应用。(比较例3)除了改变基于喷砂而进行的表面加工条件制作的算术平均高度Ra为2.3pm的聚酰亚胺片以外，在与实施例2完全相同的条件下制作耐热遮光片。把的种类、聚酰亚胺的种类、厚度与实施例2相同。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的賊射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为200210°C,具有与实施例1同等的片温度。对片两面上制作了110nm碳化钛膜的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。确认遮光膜与实施例2同样结晶性优良，膜中含碳量和含氧量也与实施例2相同。性能一并列于表2。其结果是虽然最大反射率为4%，光泽度为3%以下，与实施例2相同，但光密度低至2.0，确认为遮光性不够的耐热遮光片。另外，确认表面电阻值为86Q/口，表面算术平均高度Ra为2.2pm。在250。C下24小时的加热试验后的膜的密合性评价中，没有弯曲和膜的脱离。制得的耐热遮光片的构成、性能一并列于表2。由此可见，这种光密度低的耐热遮光片，由于若与实施例相比，可透过相当多的光，不仅不能用于液晶投影仪的光圈部件，在很多光学系统的用途中都不能使用。(实施例6~8)除了采用含碳量不同的靶，碳化钛膜的C/Ti原子数比改为0.3(实施例6)、0.5(实施例7)、l.l(实施例8)以外，在与实施例1完全相同的条件下制作耐热遮光片。聚酰亚胺的种类、厚度、表面粗糙度、碳化钛膜的厚度与实施例1相同。制得的耐热遮光片的构成、性能列于表l。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为200210°C，具有与实施例1同等的片温度。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。其结果是光密度、反射率、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。另外，确认表面电阻值为90115D/口，表面算术平均高度Ra为0.4^m。由遮光膜的X射线衍射发现，存在若C/Ti量增多则衍射峰减弱的趋势，但任一膜都显示良好的结晶性。此外，由同样的TEM观察确认，任一膜都为晶体膜。通过XPS定量分析膜中含氧量，0/Ti原子数比为0.20.4。另外，在250。C下24小时的加热试验后的膜的密合性评价中，也没有弯曲和膜的脱离，可见具有与实施例1同等的耐热性能。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圈等部件使用。(比较例4)除了采用含碳量不同的靶，碳化钛膜的C/Ti原子数比改为0.15以外，在与实施例1完全相同的条件下制作耐热遮光片。聚酰亚胺的种类、厚度、表面粗糙度、碳化钛膜的厚度与实施例1相同。制得的耐热遮光片的构成、性能列于表l。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为200~210°C,具有与实施例1同等的片温度。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。其结果是光密度、反射率、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。另外，确认表面电阻值为86。/□,表面算术平均高度Ra为0.4pm。膜的结晶性良好，膜中0/Ti原子数比为0.4。另外，对在25(TC下24小时加热试验后的膜进行评价，虽然没有弯曲，但是发生了膜的脱离，随着反射率的变化色调变化也显著。膜截面通过TEM观察，遮光膜表面和聚酰亚胺一侧的膜被氧化。据此认为这是膜密合性降低和色调发生变化的起因。由此可见，这种耐热遮光片不能作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圏等部件使用。(比较例5)除了使用Ti靶，以不含碳元素的钛膜作为遮光膜使用以外，在与实施例1完全相同的条件下制作耐热遮光片。聚酰亚胺的种类、厚度、表面粗糙度、遮光膜的厚度与实施例1相同。制得的耐热遮光片的构成、性能列于表2。在与实施例1同样地进行钛膜的濺射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为200210。C，具有与实施例1同等的片温度。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。其结果是光密度、反射率、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。另外，确认表面电阻值为86Q/□，表面算术平均高度Ra为0.4pm。但是，对在250°C下24小时加热试验后的膜进行评价，虽然没有弯曲，但是发生了膜的脱离，随着反射率的变化色调变化也显著。膜截面通过TEM观察，膜表面和聚酰亚胺一侧的膜被氧化。据此认为这是膜密合性降低和色调发生变化而产生的。由此可见，这种耐热遮光片不能作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圈等部件使用。(实施例9)采用如图4所示的巻取式溅射装置，在悬空状态下于树脂片基材一面上与实施例1同样地形成碳化钛膜。树脂片基材采用200pm厚度的聚酰亚胺片。片的成膜面预先进行了喷砂加工，具有与实施例1同等粗糙度的表面。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的'减射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为270~310°C,与实施例l相比，片表面从等离子体受到的自然加热效果更显著。成膜面一侧可见光区域光密度、反射率、光泽度等性能获得与实施例l同等的水平。另外，确认表面电阻值为95Ci/口，表面算术平均高度Ra为0.4pm。膜的结晶性良好，膜中含碳量和含氧量与实施例1相同。另夕卜，在250。C下24小时的加热试验后的膜的密合性评价中，没有弯曲和膜的脱离，可见具有与实施例1同等的耐热性能。制得的耐热遮光片的构成、性能一并列于表l。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在高温环境下^f吏用的液晶投影仪的光圏等部件使用。(实施例10~12,比较例6~7)与实施例6~8、比较例45同样地采用含碳量不同的碳化鴒膜作为遮光膜试制耐热遮光片。树脂片基材为厚度为50pm的聚酰亚胺片，两面上均形成了算术平均高度Ra为0.5pm的微细凹凸。在与实施例6~8、比较例45同样的条件下，使用含碳量不同的碳化鴒輩巴或鴒耙，在片表面上形成150nm左右的含碳量不同的碳化鴒膜或鴒膜。在与实施例1同样地进行碳化钨膜或鴒膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式賊射装置的石英玻璃视窗测定，温度为190~203°C。制得的耐热遮光片的构成、性能一并列于表l、表2。膜中含氧量通过XPS分析，0/Me原子数比为0.05~0.1。遮光膜由X射线衍射发现，存在若C/W量增多则衍射峰减弱的趋势，但任一膜都显示良好的结晶性。此外，由同样的TEM观察也可确认，任一膜都为晶体膜。可见光区域的光密度、反射率、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。另外，显示出表面电阻值为83123Q/口的导电性，表面算术平均高度Ra为0.4[im。对在25(TC下24小时加热试验后的膜进行评价，膜的C/W原子数比为0.3(实施例10)、0.6(实施例11)、0.9(实施例12)时，在色调变化和密合性实验时没有发现膜的脱离，但膜的C/W原子数比为O.l(比较例6)、O(比较例7)时，在密合性实验中发生了膜的脱离，且随着反射率的改变色调变化也显著。对比较例6和比较例7的膜截面通过TEM观察，膜表面和与聚酰亚胺4妻触一侧的膜部分被氧化，而实施例10~12中没有发现氧化。由此认为，比较例6和比较例7中膜密合性降低和色调变化是由于膜氧化的原因。由此可见，如实施例10~12的耐热遮光片可以作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圏等部件使用，而比较例6、7不能在高温环境下使用。(实施例13~15,比较例8~9)与实施例6~8、比较例4~5同样地采用含碳量不同的碳化硅膜作为遮光膜试制耐热遮光片。树脂片基材为厚度为125pm的聚酰亚胺片，两面上均形成了算术平均高度Ra为0.4pm的微细凹凸。在与实施例6~8、比较例4~5同样的条件下，使用含碳量不同的碳化硅耙或硅耙，在片两面上形成270nm左右的含碳量不同的碳化硅膜或硅膜。在与实施例1同样地进行碳化硅膜或硅膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃^见窗测定，温度为205~213°C。制得的耐热遮光片的构成、性能一并列于表l、表2。膜中含氧量通过XPS分析，0/Si原子数比为0.10.2。遮光膜由X射线衍射发现，存在若C/Si量增多则衍射峰减弱的趋势，但任一膜都显示良好的结晶性。此外，由同样的TEM观察也可确认，任一膜都为晶体膜。可见光区域的光密度、反射率、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。另外，显示出表面电阻值为105156D/口的导电性，表面算术平均高度Ra为0.3pm。对在250。C下24小时加热试验后的膜进行评价，膜的C/Si原子数比为0.35(实施例13)、0.5(实施例14)、0.95(实施例15)时，在色调变化和密合性实验时没有发现膜的脱离，但膜的C/Si原子数比为0.2(比较例8)、O(比较例9)时，在密合性实验中发生了膜的脱离，且随着反射率的改变色调变化也显著。对比较例8和9的膜截面通过TEM观察，膜表面和聚酰亚胺一侧的膜被氧化，而实施例13~15的膜中没有发现氧化。由此认为，比较例8和比较例9中膜密合性降低和色调变化是由于膜氧化的原因。由此可见，如实施例13-15的耐热遮光片可以作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圈等部件使用，而比较例8、9不能在高温环境下使用。(实施例16~18，比较例1011)与实施例6~8、比较例4~5同样地采用含碳量不同的碳化铝膜作为遮光膜试制耐热遮光片。树脂片基材为厚度为20pm的聚酰亚胺片，两面上均形成了算术平均高度Ra为0.6pm的微细凹凸。在与实施例6~8、比较例4~5同样的条件下，使用含碳量不同的碳化铝靶或铝靶，在片两面上形成230nm左右的含碳量不同的碳化铝膜或铝膜。在与实施例1同样地进行碳化铝膜或铝膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为200210°C。制得的耐热遮光片的构成、性能一并列于表l、表2。膜中含氧量通过XPS分析，0/A1原子数比为0.10.2。遮光膜由X射线衍射发现，存在若C/A1量增多则衍射峰减弱的趋势，但任一膜都显示良好的结晶性。此外，由同样的TEM观察也可确认，任一膜都为晶体膜。可见光区域的光密度、反射率、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。另外，显示出表面电阻值为82125Q/口的导电性，表面算术平均高度Ra为0.5pm。对在250。C下24小时加热试验后的膜进行评价，膜的C/A1原子数比为0.3(实施例16)、0.7(实施例17)、l.O(实施例18)时，在色调变化和密合性实验时没有发现膜的脱离，但膜的C/A1原子数比为O.l(比较例10)、O(比较例ll)时，在密合性实验中发生了膜的脱离，且随着反射率的改变色调变化也显著。对比较例IO和11的膜截面通过TEM观察，膜表面和聚酰亚胺一侧的膜被氧化，而实施例16~18的膜中没有发现氧化。由此认为，比较例10和比较例11中膜密合性降低和色调变化是由于膜氧化的原因。由此可见，如实施例16~18的耐热遮光片可以作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圏等部件使用，而比较例10、11不能在高温环境下使用。(实施例19)采用膜构成、膜厚度、组成为碳化钛膜(膜厚200nm,C/Ti原子数比0.8)/碳化硅膜(膜厚20nm，C/Si原子数比0.5)的两层构造的遮光膜制造耐热遮光片。采用图3的巻取式溅射装置，在与实施例1相同种类、厚度、粗糙度的聚酰亚胺片的两面上依次形成碳化钛膜和碳化硅膜。与实施例1同样地测定成膜时片表面温度，为190~210°C。聚酰亚胺的种类、厚度、表面粗糙度与实施例l相同。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。制得的耐热遮光片的构成、特性一并列于表l。确认层积的遮光膜的结晶性良好。另外，对膜表面在溅射的同时由XPS分析各层含氧量(0/Me),SiC膜层中O/Si原子数比为0.1,Ti/C膜层中O/Ti原子数比为0.2。表面电阻和表面粗糙度、可见光区域的光密度和光泽度性能获得与实施例1同等的水平。可见光区域的最大反射率为4%,与表面没有形成碳化硅膜的仅使用碳化钛膜的实施例1相比，反射率显著降低。这是因为，通过层积光学常数不同的碳化钛膜与碳化硅膜，发现光千涉产生了防止反射的效果，从而使其低反射化。另夕卜，在250。C下24小时的加热试验后的膜的密合性评价中，没有弯曲和膜的脱离，可见具有与实施例1同等的耐热性能。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圏等部件使用，特别是在投影仪镜头附近的要求有低反射性的部件用途中有用。(实施例20)遮光膜采用碳化铌、碳化钼、碳化钒、碳化钽、碳化锆或碳化铪，与实施例19、比较例1~4的碳化钛的情形同样地进行实验，具有同样的倾向。当C/Nb原子数比、C/Mo原子数比、C/V原子数比、C/Ta原子数比、C/Zr原子数比、C/Hf原子数比为0.3以上时，确认可以实现耐热性优良的遮光片。任一者都为结晶性良好的膜，当膜中含氧量O/Me原子数比为0.5以下时，膜厚为400nm以下即可显示充分的遮光性。(实施例21)除了使耐热树脂片改为厚度为25pm的聚萘二曱酸乙二醇酯(PEN)片，使成膜时片表面温度为155158。C以外，在与实施例1完全相同的条件下制作耐热遮光片。靶的种类、片的表面粗糙度与实施例1相同。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为155158°C。可见光区域的光密度、反射率、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。并且，确认表面电阻值为90Q/口，表面算术平均高度Ra为0.4pm。遮光膜由同样的方法确认为结晶性良好的膜。遮光膜中含碳量、含氧量与实施例1相同。另外，对于耐热实"睑，同样地对在155。C下进行了24小时加热试验的膜进行密合性评价，其结果没有弯曲和膜的脱离，可见具有与实施例1同等的耐热性能。制得的耐热遮光片的构成、性能一并列于表1。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在100155°C下使用的车载用监视器的镜头单元中的固定光圈等部件使用。(实施例22、23)除了使耐热树脂片改为厚度为6pm(实施例22)、12pm(实施例23)的聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)片以外，在与实施例21完全相同的条件下制作耐热遮光片。靶的种类、片的表面粗糙度、成膜条件与实施例1相同。膜的组成和厚度也与实施例21相同。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为155°C。膜中含碳量、含氧量通过同样的方法进行分析，结果与实施例l基本相同。并且确认膜的结晶性良好。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。可见光区域的光密度、反射率、光泽度、表面电阻值、表面粗糙度等性能获得与实施例21同等的水平。与实施例21同样地进行耐热实验，结果没有弯曲和膜的脱离，可见具有与实施例21同等的耐热性能。制得的耐热遮光片的构成、性能一并列于表1。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在100~155°C下使用的车载用监视器的镜头单元中的固定光圈等部件使用。(比较例12)除了采用Ti靶，以不含碳元素的钛膜作为遮光膜以外，在与实施例21完全相同的条件下制作耐热遮光片。片的种类、厚度、表面粗糙度、遮光膜的厚度与实施例21相同。制得的耐热遮光片的构成、性能列于表2。在与实施例21同样地进行遮光膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为155~158°C。具有与实施例21同等的片温度。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例21同样的方法、条件进行。其结果是光密度、反射率、光泽度、表面电阻值、表面算术平均高度Ra等性能获得与实施例21同等的水平。遮光膜的结晶性良好。但是，对在与实施例21相同耐热实验条件下于155'C进^f亍24小时加热试验后的膜进行评价，结果虽然没有弯曲，但发生了膜的脱离，且随着反射率的变化色调变化也显著。将膜的截面通过TEM观察，膜的表面和片一侧的膜被氧化。据此认为这是膜密合性降低和色调变化而产生的。由此可见，这种耐热遮光片不能作为在155°C下也使用的车载用监视器的镜头单元中的固定光圏等部件使用。(比较例1316)除了遮光膜采用Al(比较例13)、Cr(比较例14)、Ni(比较例15)、Nb(比较例16)以外，以与比较例12同样的方法、条件进行。其结果是，光密度、反射率、光泽度、表面电阻值、表面算术平均高度Ra等性能获得与实施例21同等的水平。但是，对在与实施例21相同耐热实验条件下于155'C进4亍24小时加热试验后的膜进行评价，结果虽然没有弯曲，但发生了膜的脱离，且随着反射率的变化色调变化也显著。将膜的截面通过TEM观察，膜的表面和片一侧的膜被氧化。据此认为这是膜密合性降低和色调变化的起因。由此可见，这种耐热遮光片不能作为在155。C下也使用的车载用监视器的镜头单元中的固定光圏等部件使用。(实施例24)除了使用由改变喷砂表面加工条件制得的算术平均高度Ra为2.2pm的聚酰亚胺(PI)片以外，在与实施例l完全相同的条件下制作耐热遮光片。靶的种类、聚酰亚胺的种类、厚度与实施例1相同。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为200~210°C,具有与实施例1同等的片温度。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。性能一并列于表1。其结果是，光密度、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。并且，确认表面电阻值为120Q/口，表面算术平均高度Ra为2.1pm。可见光区域最大反射率为3%。遮光膜的结晶性、含碳量、含氧量与实施例1同等水平。在250°C下24小时的加热试验后的膜的密合性评价中，没有弯曲和膜的脱离，可见具有与实施例1同等的耐热性能。制得的耐热遮光片的构成、性能一并列于表1。可见光区域正反射率最大为3%，显示低反射性。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圏等部件使用。(实施例25)除了使用由改变喷砂表面加工条件制得的算术平均高度Ra为1.6pm的聚酰亚胺(PI)片以外，在与实施例l完全相同的条件下制作耐热遮光片。靶的种类、聚酰亚胺的种类、厚度与实施例1相同。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为200~210°C,具有与实施例1同等的片温度。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。性能一并列于表1。其结果是，光密度、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。并且，确认表面电阻值为110n/口，表面算术平均高度Ra为1.5pm。可见光区域最大反射率为4%。遮光膜的结晶性、含碳量、含氧量与实施例1同等水平。在25(TC下24小时的加热试验后的膜的密合性评价中，没有弯曲和膜的脱离，可见具有与实施例1同等的耐热性能。制得的耐热遮光片的构成、性能一并列于表1。可见光区域正反射率最大为4%,显示低反射性。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圈等部件使用。(实施例26)对实施例1~25中制作的耐热遮光片进行冲孔加工，制作20mmx30mm的遮光叶片，每片遮光叶片的重量为0.010.03g。将两片遮光叶片装载在光圈装置中，进行耐久试验。在耐久试验中，在灯光照射的同时，在遮光叶片的运动范围的最大和最小开口径范围内重复活动遮光叶片几万次，评价此时遮光叶片的耐热性和耐磨损性。没有出现由试验磨损导致的遮光叶片外观上的变化，光圏装置内没有发现由磨损产生的异物附着。因此，可以实现摩擦、磨损和噪音小，以及树脂片作为基材而轻量化，驱动遮光叶片的电机驱动扭矩减小，滑动性良好。(比4支例17)除了将遮光叶片替换为金属制的SUS箔板以外，与实施例26同样地将SUS箔板进行沖孔加工，以SUS箔板为基材制作20mmx30mm的遮光叶片，进行与实施例26同样的评价。遮光叶片的重量为0.20.5g。没有出现由试验磨损导致的遮光叶片外观上的变化，光圏装置内没有发现由磨损产生的异物附着。但是由于遮光叶片的重量大，使驱动遮光叶片的电机驱动扭矩增大，滑动性变差。(实施例27)除了成膜时片表面温度改为5010(TC以外，以相同的制造条件制造实施例1构造的耐热遮光片。这种片表面温度可以通过将冷却罐的温度设为-2020。C的范围内而调节。遮光膜为晶体膜，膜中含碳量和含氧量与实施例l相同。所得的耐热遮光片在250'C下进行24小时加热实验后，对膜进行评价，没有出现弯曲和反射率变化导致的色调变化，但膜发生了脱离。在155°C下进行24小时的加热实-验后也具有相同的结果。4旦是，在130°C下进行24小时的耐热性实验，没有发现4壬何弯曲和膜的变色，也没有发生膜脱离。对冲压冲孔加工后的样品也进行在130。C下24小时的加热实验，在加工端部没有发生膜脱离。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在常温或130。C以下專交低温度下使用的数码照相机等的固定光圏等光学部件使用。(实施例28)除了成膜时片表面温度改为5010(TC以外，以相同的制造条件制造实施例21~23构造的耐热遮光片。这种片表面温度可以通过将冷却罐的温度设为-2020。C的范围内而调节。遮光膜为晶体膜，膜中含碳量和含氧量与实施例21相同。所得的耐热遮光片在25(TC下进行24小时加热实验后，对膜进行评价，没有出现弯曲和反射率变化导致的色调变化，但膜发生了脱离。在155。C下进行24小时的加热实—睑后也具有相同的结果。但是，在130°C下进行24小时的耐热性实验，没有发现任何弯曲和膜的变色，也没有发生膜脱离。对冲压沖孔加工后的样品也进行在130°C下24小时的加热实验，在加工端部没有发生膜脱离。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在常温或130。C以下4交低温度下使用的数码照相机等的固定光圏等光学部件使用。(实施例29-31)除了成膜时的气压改为0.2Pa(实施例29)、0.8Pa(实施例30)、l.OPa(实施例31)以外，以相同的制造条件制造实施例28构造的耐热遮光片。所有遮光膜均为晶体膜，膜中含碳量和含氧量与实施例21相同。所得的耐热遮光片在250°C下进行24小时加热实验后，对膜进行评价，没有出现弯曲和反射率变化导致的色调变化，但膜发生了脱离。在155°C下进行24小时的加热实验后也具有相同的结果。但是，在130°C下进行24小时的耐热性实验，没有发现任何弯曲和膜的变色，也没有发生膜脱离。对冲压冲孔加工后的样品也进行在130°C下的加热实验后，加工端部没有发生膜脱离。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在常温或130°C以下较低温度下使用的数码照相机等的固定光圏等光学部件使用。(比较例18~19)除了成膜时的气压改为1.3Pa(比较例18)、1.8Pa(比较例19)以外，以相同的制造条件制造实施例28构造的耐热遮光片。所有遮光膜均为非晶体膜，与实施例28~31不同。膜中含碳量和含氧量均与实施例21相同。对所得的耐热遮光片在130°C下进行24小时的耐热性实—验，发生了弯曲和由反射率改变导致的色调变化，膜的脱离也很显著。在80°C下进行24小时，或者在100'C下进行24小时耐热性实验，也得到相同的结果。由此可见，这种耐热遮光片作为在130°C以下较低温度下使用的数码照相机等的固定光圈等光学部件使用也是不可以的。(实施例32)除了将成膜过程中的氩气压改为l.OPa，成膜时片的表面温度改为50100。C以外，以与实施例11相同的制造条件制造实施例11构造的耐热遮光片。这种片表面温度可以通过将冷却罐的温度设为-2020'C的范围内而调节。遮光膜为如图7所示的晶体膜，膜中含碳量和含氧量与实施例11相同。所得的耐热遮光片在25(TC下进行24小时加热实验后，对膜进行评价，没有出现弯曲和反射率变化导致的色调变化，但膜发生了脱离。在155。C下进行24小时的加热实验后也具有相同的结果。但是，在130'C下进行24小时的耐热性实验，没有发现任何弯曲和膜的变色，也没有发生膜脱离。对沖压冲孔加工后的样品也进行在130°C下的加热实验后，加工端部没有发生膜脱离。由此可见，这种耐热遮光片可以作为在常温或130°C以下较低温度下使用的数码照相机等的固定光圈等光学部件使用。(比较例20)除了成膜时的气压改为1.5Pa以外，以相同的制造条件制造实施例32构造的耐热遮光片。膜中含碳量和含氧量与实施例11相同。对遮光膜进行X射线衍射测定，没有发现衍射峰，为非晶体膜，与实施例11和实施例32不相同。对所得的耐热遮光片在130°C下进行24小时的耐热性实一睑，发生了弯曲和由反射率改变导致的色调变化，膜的脱离也很显著。在80。C下进行24小时，或者在IOO'C下进行24小时耐热性实验，也得到相同的结果。由此可见，这种耐热遮光片作为在130°C以下较低温度下使用的数码照相机等的固定光圏等光学部件使用也是不可以的。(比较例21)除了遮光膜的溅射气压改为1.5Pa以外，以与实施例11相同的条件制造实施例1构造的耐热遮光片。聚酰亚胺的种类、厚度、表面粗糙度、碳化鵠膜的厚度与实施例ll相同。在与实施例1同样地进行碳化钛膜的溅射时，片的表面温度通过红外线辐射温度计，由巻取式溅射装置的石英玻璃视窗测定，温度为185~195°C,具有与实施例11同等的温度。制得的耐热遮光片的评价(光学性能、耐热性)以与实施例1同样的方法、条件进行。其结果是光密度、反射率、光泽度等性能获得与实施例1同等的水平。并且，确认表面电阻值为105Q/□,表面算术平均高度Ra为0.4pm。膜中含碳量和含氧量与实施例ll相同。但是，遮光膜通过X射线衍射测定，没有观察到衍射峰，可见为非晶体结构。对在250°C下进行24小时加热试验后的膜进行评价，虽然没有出现弯曲，但是发生了膜脱离，由反射率改变导致的色调变化也很显著。膜的截面通过TEM观察，遮光膜的表面和聚酰亚胺一侧的膜被氧化。据此认为这是膜密合性降低和色调发生变化而产生的。由此可见，这种耐热遮光片不能作为在高温环境下使用的液晶投影仪的光圈等部件使用。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage51</column></row><table>表2<table>tableseeoriginaldocumentpage52</column></row><table>权利要求1.一种耐热遮光片，其特征在于它是包括具有155℃以上耐热性的树脂片基材(A)和作为遮光膜(B)而在树脂片基材(A)一面或两面上形成的结晶性金属碳化物膜(MeC)的耐热遮光片，遮光膜(B)厚度为100nm以上，表面粗糙度以算术平均高度Ra计为0.1～2.1μm，且金属碳化物膜(MeC)中碳元素(C)相对于全部金属元素(Me)的原子数比(C/Me)为0.3以上。2.权利要求1所述的耐热遮光片，其特征在于树脂片基材(A)由从聚萘二曱酸乙二醇酯、聚酰亚胺、芳族聚酰胺、聚苯硫醚或聚醚砜中选出的一种以上构成。3.权利要求1或2所述的耐热遮光片，其特征在于树脂片基材(A)的耐热性为200。C以上。4.权利要求1~3任一项所述的耐热遮光片，其特征在于树脂片基材(A)的厚度为5~200nm。5.权利要求1~4任一项所述的耐热遮光片，其特征在于树脂片基材(A)的表面粗糙度以算术平均高度Ra计为0.2~2.2nm。6.权利要求1~5任一项所述的耐热遮光片，其特征在于遮光膜(B)的厚度为110550nm。7.权利要求1~6任一项所述的耐热遮光片，其特征在于金属碳化物膜(MeC)以从碳化珪、碳化钛、碳化铝、碳化铌、碳化鴒、碳化钼、碳化钒、碳化钽、碳化锆或碳化铪中选出的一种以上材料作为主成分。8.权利要求1~7任一项所述的耐热遮光片，其特征在于金属碳化物膜(MeC)中碳元素(C)相对于全部金属元素(Me)的原子数比(C/Me)为0.5以上。9.权利要求18任一项所述的耐热遮光片，其特征在于金属碳化物膜(MeC)中含氧量(O)以相对于全部金属元素(Me)的氧元素(0)的原子数比(0/Me)计为0.5以下。10.权利要求19任一项所述的耐热遮光片，其特征在于遮光膜(B)在380~780nm波长处的光反射率为10%以下。11.权利要求1~10任一项所述的耐热遮光片，其特征在于作为遮光性指标的光密度在380780nm波长处为4以上。12.权利要求111任一项所述的耐热遮光片，其特征在于在树脂片基材(A)的两面上形成组成和膜厚相同的金属碳化物膜(MeC)。13.权利要求1~12任一项所述的耐热遮光片的制造方法，其特征在于它是包括具有155。C以上耐热性的树脂片基材(A)和作为遮光膜(B)而在树脂片基材(A)—面或两面上形成的金属碳化物膜(MeC)的耐热遮光片的制造方法，其将表面粗糙度为0.22.2pm(算术平均高度Ra)的树脂片基材(A)置于溅射装置中，采用金属碳化物耙，在惰性气体环境下通过溅射法，在该树脂片基材(A)上形成厚度为100nm以上、表面粗糙度为0.12.1ixm(算术平均高度Ra)、且金属碳化物膜(MeC)中碳元素(C)相对于全部金属元素(Me)的原子数比(C/Me)为0.3以上的结晶性金属碳化物膜(MeC)。14.权利要求13所述的耐热遮光片的制造方法，其特征在于将形成了金属碳化物膜(MeC)的耐热遮光片进一步置于溅射装置中，通过溅射在树脂片基材(A)的没有形成金属碳化物膜(MeC)的另一面上形成金属碳化物膜(MeC)。15.权利要求13或14所述的耐热遮光片的制造方法，其特征在于遮光膜(B)成膜时的溅射气压为0.21.0Pa。16.权利要求1315任一项所述的耐热遮光片的制造方法，其特征在于遮光膜(B)成膜时树脂片基材(A)的表面温度为180°C以上。17.权利要求1316任一项所述的耐热遮光片的制造方法，其特征在于树脂片基材(A)巻成筒状设置在溅射装置的片输送部上，在由退巻部巻至巻取部时，通过溅射法进行成膜。18.权利要求13-17任一项所述的耐热遮光片的制造方法，其特征在于树脂片基材(A)巻成筒状设置在溅射装置的片输送部上，在由退巻部输送至巻取部时，通过溅射法进行成膜，成膜时树脂片基材(A)不会被冷却，在成膜室内成悬空状态而进行成膜。19.一种耐热性优良的光圈，由权利要求112任一项所述的耐热遮光片加工制得。20.—种光量调节装置，其采用权利要求1~12任一项所述的耐热遮光片。全文摘要本发明提供一种耐热遮光片及其制造方法、以及采用它的光圈或者光量调节装置。该耐热遮光片作为数码照相机、数码摄像机的镜头快门等的快门叶片或光圈叶片或者投影仪的光量调节装置的光圈叶片等光学仪器部件使用，遮光性、耐热性、滑动性、低光泽性、导电性优良。该耐热遮光片的特征在于包括具有155℃以上耐热性的树脂片基材(A)和作为遮光膜(B)而在树脂片基材(A)一面或两面上形成的结晶性金属碳化物膜(MeC)，遮光膜(B)厚度为100nm以上，表面粗糙度为0.1～2.1μm(算术平均高度Ra)，且金属碳化物膜(MeC)中碳元素(C)相对于全部金属元素(Me)的原子数比(C/Me)为0.3以上。文档编号G02B26/02GK101285900SQ20081000629公开日2008年10月15日申请日期2008年2月5日优先权日2007年4月10日发明者冢越幸夫,小野胜史,阿部能之申请人:住友金属矿山株式会社