专利名称：一种光刻胶烘焙装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及光刻工艺领域，特别涉及一种光刻胶烘焙装置。
背景技术：
在采用光刻工艺制作掩模板的过程中，通常在对掩模板上的光刻胶进行了曝光后 还需要进行曝光后的烘焙(PEB)，进行曝光后烘焙的目的是a、完全蒸发掉光刻胶里面的 溶剂，以免在污染后续工艺；b、坚膜，以提高光刻胶在离子注入或刻蚀中保护下表面的能 力；c、进一步减少驻波效应(Standing WaveEffect)。目前进行对于光刻胶进行曝光后的 烘焙工艺已经成为一种实际工艺标准。 对已经完成曝光、曝光后烘焙以及显影过程所形成的光刻胶图形必须进行检查， 以确定掩模板上光刻胶图形的质量。检测光刻胶图形质量的方法之一为将掩模板上的光刻 胶图形划分为nXn个阵列，测量每一个阵列图形的关键尺寸，得出所有阵列图形关键尺寸
的平均值，然后用各个阵列图形的关键尺寸与平均值想减，得出每个阵列图形关键尺寸与 平均值的差值，通过差值大小判断整个掩模板上光刻胶图形的均匀性，请参阅图1，图1表 示出了整个掩模板上各个阵列图形关键尺寸与关键尺寸平均值之间的差值，如图1所示， 黑色圆圈代表正差值，白色圆圈代表负差值，圆圈大小代表了差值的大小。由图l可看出， 掩模板上各个阵列图形反映关键尺寸均匀性的差值呈现一边(图示的右边)基本都为正 差，而另一边(图示的左边)基本均为负差的这样的边对边的误差，而掩模板光刻图形所呈 现的这种的边对边的误差是无法进行修复的，因而必须找到避免此种误差出现的方法。请 参看图2，通过试验，若将掩模板旋转90°进行曝光后烘焙，显影之后再依上述方法检查掩 模板上光刻胶图形的质量，会发现出现边对边误差的方向也发生了变化，变成了图示掩模 板的上边基本都为正差，而图示掩模板的下边基本都为负差。由此可判断出，对掩模板进行 的曝光后烘焙对掩模板光刻图形的均匀性具有一定的负面影响。而对掩模板进行曝光后烘 焙时，烘焙装置提供的烘焙温度的稳定性和均匀性是很好的，因而能够对掩模板光刻胶图 形的均匀性产生影响的只能是烘焙装置当中为烘焙装置提供正压得气流。
实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是提供一种光刻胶烘焙装置，以解决曝光后烘焙影 响光刻胶图形的均匀性，使光刻胶图形产生边对边误差的问题。 为解决上述技术问题，本实用新型提供一种光刻胶烘焙装置，包括外壳、热板、控
制系统、风扇，所述热板、控制系统及风扇设置于所述外壳内，所述控制系统控制所述热板
的加热温度，所述风扇设置于所述热板的上方，还包括挡风盖板，所述挡风盖板设置于所述
风扇与所述热板之间，所述档风盖板上设置多个通风孔洞。 可选的，所述热板及其控制系统均为一个。 可选的，所述档风盖板的形状依据所述外壳的形状设置。 可选的，所述挡风盖板通过螺丝 定于所述外壳上。[0009] 可选的，所述热板及其控制系统均为多个，每个所述热板之间通过挡板隔开，每个 所述热板之上设置一个所述挡风盖板。 可选的，所述档风盖板的形状依据所述热板四周的挡板的形状设置。 可选的，所述挡风盖板通过螺丝固定于所述热板四周的挡板上。 可选的，所述挡风盖板的材质为聚氯乙烯材质。 可选的，所述热板包括上热板和下热板。 可选的，所述挡板为聚氯乙烯材质。 本实用新型的光刻胶烘焙装置通过增加挡风盖板，降低了烘焙装置内风扇吹出的 气流对进行曝光后烘焙的掩模板的光刻胶图形的不利影响，提高了显影后整个光刻胶图形 关键尺寸的均匀性，使光刻胶图形的质量得到很好的改善。本实用新型增加的挡风盖板的 易于制作，成本较低，但取得的有益效果显著。
图1表示整个掩模板上各个阵列图形关键尺寸与关键尺寸平均值之间的差值分 布示意图； 图2表示将掩模板旋转90°进行曝光后烘焙后，整个掩模板上各个阵列图形关键
尺寸与关键尺寸平均值之间的差值分布示意图； 图3为本实用新型的光刻胶烘焙装置的结构示意图； 图4为本实用新型的挡风盖板的剖视结构示意图。
具体实施方式为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，
以下结合附图对本 实用新型的具体实施方式
做详细的说明。 本实用新型所述的光刻烘焙装置可广泛应用于多种光刻胶烘焙工艺过程中，并且 可以利用多种替换方式实现，下面是通过较佳的实施例来加以说明，当然本实用新型并不 局限于该具体实施例，本领域内的普通技术人员所熟知的一般的替换无疑地涵盖在本实用 新型的保护范围内。 其次，本实用新型利用示意图进行了详细描述，在详述本实用新型实施例时，为了 便于说明，示意图不依一般比例局部放大，不应以此作为对本实用新型的限定。 请参看图3，图3为本实用新型的光刻胶烘焙装置的结构示意图。如图3所示，本 实用新型的光刻胶烘焙装置包括外壳1、热板、控制系统2、风扇6以及挡风盖板7。所述热 板、控制系统2及风扇6设置于所述外壳1内。优选的，所述热板包括上热板3和下热板4， 掩模板5放置于所述上热板3和下热板4之间，通过上热板3和下热板4的共同均匀传热， 可使所述掩模板5上的光刻胶得到更好的均匀加热。所述控制系统2控制所述热板的加热 温度。所述风扇6设置于所述热板的上方，所述风扇6输出气体，使所述烘焙装置内始终保 证正压，即使所述烘焙装置内的气压大于外界气压。当掩模板上的光刻胶经过了曝光之后， 掩模板被放置在烘焙装置中进行曝光后烘焙时，由于风扇6输出的气体直接吹向了热板及 掩模板5，风扇6吹出的气流将影响正在热板上烘焙的掩模板的光刻胶图形的关键尺寸，因 此本实用新型的光刻胶烘焙装置在风扇6与热板之间还设置了挡风盖板7。请同时参看图4，图4为本实用新型的挡风盖板的剖视结构示意图。如图4所示，本实用新型的档风盖板 7上设置多个通风孔洞，使风扇6吹出的气流能够通过档风盖板7布满整个烘焙装置内，同 时使风扇6吹出的气流对热板及掩模板5的作用力由于挡风盖板7的阻挡作用而减弱，从 而使经过曝光后烘焙的掩模板光刻胶图形的关键尺寸的均匀性更好。所述挡风盖板7的材 质可以为聚氯乙烯(Polyvinylchloride，PVC)。上述光刻胶烘焙装置内可以只设置一个热 板及其控制系统，也可设置多个热板及其控制系统，每个热板之间通过挡板8隔开。所述的 挡板8同样可为聚氯乙烯(Polyvinylchloride，PVC)材质。对于只设置一个热板的烘焙装 置，挡风盖板7的形状可依据光刻胶烘焙装置的外壳1的形状设置，挡风盖板7通过螺丝固 定于该烘焙装置的外壳1上；对于设置多个热板的烘焙装置，每个所述热板之上设置一个 挡风盖板7，所述挡风盖板7的形状可依据所述热板四周的挡板的形状设置，所述挡风盖板 7通过螺丝固定于每个热板四周的挡板8上。 显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用 新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及 其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求一种光刻胶烘焙装置，包括外壳、热板、控制系统、风扇，所述热板、控制系统及风扇设置于所述外壳内，所述控制系统控制所述热板的加热温度，所述风扇设置于所述热板的上方，其特征在于，还包括挡风盖板，所述挡风盖板设置于所述风扇与所述热板之间，所述档风盖板上设置多个通风孔洞。
2. 如权利要求1所述的光刻胶烘焙装置，其特征在于，所述热板及其控制系统均为一个。
3. 如权利要求2所述的光刻胶烘焙装置，其特征在于，所述档风盖板的形状依据所述 外壳的形状设置。
4. 如权利要求2所述的光刻胶烘焙装置，其特征在于，所述挡风盖板通过螺丝固定于 所述外壳上。
5. 如权利要求1所述的光刻胶烘焙装置，其特征在于，所述热板及其控制系统为多个， 每个所述热板之间通过挡板隔开，每个所述热板之上设置一个所述挡风盖板。
6. 如权利要求5所述的光刻胶烘焙装置，其特征在于，所述档风盖板的形状依据所述 热板四周的挡板的形状设置。
7. 如权利要求5所述的光刻胶烘焙装置，其特征在于，所述挡风盖板通过螺丝固定于 所述热板四周的挡板上。
8. 如权利要求1至7中任一权利要求所述的光刻胶烘焙装置，其特征在于，所述挡风盖 板的材质为聚氯乙烯材质。
9. 如权利要求1至7中任一权利要求所述的光刻胶烘焙装置，其特征在于，所述热板包 括上热板和下热板。
10. 如权利要求5所述的光刻胶烘焙装置，其特征在于，所述挡板为聚氯乙烯材质。
专利摘要本实用新型提供一种光刻胶烘焙装置，包括外壳、热板、控制系统、风扇，所述热板、控制系统及风扇设置于所述外壳内，所述控制系统控制所述热板的加热温度，所述风扇设置于所述热板的上方，还包括挡风盖板，所述挡风盖板设置于所述风扇与所述热板之间，所述档风盖板上设置多个通风孔洞。本实用新型的光刻胶烘焙装置通过增加挡风盖板，降低了烘焙装置内风扇吹出的气流对进行曝光后烘焙的掩模板的光刻胶图形的不利影响，提高了显影后整个光刻胶图形关键尺寸的均匀性，使光刻胶图形的质量得到很好的改善。本实用新型增加的挡风盖板易于制作，成本较低，取得的有益效果显著。
文档编号G03F7/38GK201489273SQ20092020808
公开日2010年5月26日 申请日期2009年8月18日 优先权日2009年8月18日
发明者巫轶骏 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司