专利名称：基板处理设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及液晶显示技术，尤其涉及一种基板处理设备。
背景技术：
液晶显示器(LCD)是目前常用的平板显示器，液晶面板是液晶显示器中的重要部 件，液晶面板包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，其间填充液晶。在液晶显示器的制造过程中，在很多工艺流程中都需要向玻璃基板表面喷淋液体 以对玻璃基板表面进行处理，例如对玻璃基板表面清洗、剥离、湿法刻蚀等工艺流程，在这 些工艺流程中，均需要使玻璃基板表面充分、均勻地接触液体，以保证对玻璃基板表面的处 理效果。以湿法刻蚀工艺为例，湿法刻蚀是利用化学药品对金属的腐蚀性，在沉积金属层的 玻璃基板表面喷淋化学药品，以实现在玻璃基板表面保留部分金属图案，去掉多余金属的 目的，因此，在湿法刻蚀工艺中，需要保证化学药品均勻地分布在玻璃基板表面。现有的基板处理设备，其结构通常如图1所示，玻璃基板4由多行传送轮1传送， 玻璃基板4在传送方向上前后规律移动；玻璃基板4的上方设置有多条滑轨2，滑轨2上设 置有多个喷嘴3，喷嘴3在滑轨2上沿与传送方向垂直的方向来回规律移动多个喷嘴3沿相 互交叉的方向向玻璃基板4上喷淋液体。然而，采用现有的基板处理设备，由于玻璃基板的面积较大，而玻璃基板表面各处 喷淋的液体流量和压力不均勻，尤其是玻璃基板中间部分聚集的液体通常要多于边缘部分 聚集的液体，这将导致导致玻璃基板表面各处的处理效果不同。仍以湿法刻蚀工艺为例，一 旦玻璃基板中间部分聚集的化学药品多于边缘部分，将导致玻璃基板表面各处的刻蚀效果 不同，甚至导致玻璃基板中间部分可能出现过刻蚀现象，从而导致玻璃基板表面的线电阻 出现差异，各区域颜色异常。
实用新型内容本实用新型提供一种基板处理设备，以解决现有技术中玻璃基板表面各处喷淋的 液体不均勻，从而导致玻璃基板表面各处处理效果不同的问题，使玻璃基板表面各处的处
理效果趋于一致。本实用新型提供一种基板处理设备，包括多个传送轮，所述多个传送轮成排设 置，用于传送玻璃基板；多个滑轨，设置于所述玻璃基板上方；多个喷嘴，设置于所述滑轨 上，用于在所述滑轨上滑动，并向所述玻璃基板上喷淋液体；每排传送轮从所述玻璃基板的 边缘至中部，直径依次递增，使所述玻璃基板表面呈中间高边缘低的弧形。如上所述的基板处理设备，所述传送轮包括轮体和套设在所述轮体外部的保护 层。如上所述的基板处理设备，所述多个传送轮的轮体直径相等，每排传送轮从所述 玻璃基板的边缘至中部，所述保护层的厚度依次递增，使玻璃基板表面呈中间高边缘低的 弧形。[0010] 如上所述的基板处理设备，所述多个传送轮的所述保护层厚度相等，每排传送轮 从所述玻璃基板的边缘至中部，轮体的直径依次递增，使所述玻璃基板表面呈中间高边缘 低的弧形。 如上所述的基板处理设备，所述滑轨呈向下弯曲的弧形。如上所述的基板处理设备，所述滑轨所呈的弧度与所述玻璃基板表面所呈的弧度 相匹配。如上所述的基板处理设备，所述多个喷嘴呈向下弯曲的弧形排列。如上所述的基板处理设备，所述多个喷嘴排列所呈的弧度与所述玻璃基板表面所 呈的弧度相匹配。本实用新型提供的基板处理设备，每排传送轮的直径从玻璃基板的边缘至中部依 次递增，使传送轮传送的玻璃基板表面呈中间高边缘低的弧形。使玻璃基板表面各处喷洒 的液体流量和压力更加均勻，从而使玻璃基板表面各处的处理趋于相同。
图1为现有的基板处理设备的结构示意图；图2为本实用新型第一实施例提供的基板处理设备的结构示意图；图3为本实用新型第二实施例提供的基板处理设备的结构示意图。附图标记1-传送轮；2-滑轨；3-喷嘴；4-玻璃基板。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新 型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描 述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施 例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于 本实用新型保护的范围。实施例一参见图2，本实用新型提供一种基板处理设备，包括多个传送轮1，多个传送轮1 成排设置，用于传送玻璃基板4 ；多个滑轨2，设置于玻璃基板4上方；多个喷嘴3，设置于滑 轨2上，用于在滑轨2上滑动，并向玻璃基板4上喷淋液体；每排传送轮1从玻璃基板4的边缘至中部，直径依次递增，使玻璃基板4表面呈中 间高边缘低的弧形。本实施例提供的基板处理设备，每排传送轮的直径从玻璃基板的边缘至中部依次 递增，使传送轮传送的玻璃基板表面呈相应的弧形。使玻璃基板表面各处喷洒的液体流量 和压力更加均勻，从而使玻璃基板表面各处的处理效果趋于一致。本实施例提供的基板处理设备可以应用于液晶显示器生产过程中涉及到的多种 工艺环节，例如对玻璃基板进行清洗，剥离玻璃基板表面的光刻胶，以及对玻璃基板表面 进行刻蚀等工艺流程。在这些工艺流程中，均需要向玻璃基板表面喷淋液体，以使玻璃基板表面充分接触液体，进而对玻璃基板表面进行相应处理。在基板处理设备中，用于传送待处理玻璃基板4的多个传送轮1，在传送方向上排 列成互相平行的几排，在对玻璃基板4进行处理的各种工艺流程中，传送轮1缓慢勻速转 动，来传送待处理的玻璃基板4。
喷嘴3在玻璃基板4上方的滑轨2上来回滑动，并且向玻璃基板4上喷淋液体。液 体喷淋到玻璃基板4后，其位置可能无法在短时间内改变，因此，有可能造成玻璃基板4表 面局部区域的液体堆积，而这种现象基板中间部位更加明显，这样会造成玻璃基板4中间 和边缘的处理效果存在差异。由于玻璃基板4的面积较大，并且具有较强的韧性，因此，为了解决玻璃基板4中 间和边缘处理效果差异的问题，可以使玻璃基板4的表面设置成中间高、边缘低的弧形。由 于传送轮1位于玻璃基板4的下方，并且在与传动方向垂直的方向上成排排列，因此，可以 采用直径大小不同的多个传送轮1，来实现玻璃基板4表面呈弧形。具体是，每排传送轮1从玻璃基板4的边缘至中部，可以将对应的传送轮1的直径 设置成依次递增，使直径大的传送轮1处对应的玻璃基板4表面高于直径小的传送轮1处 对应的玻璃基板4表面。从而实现玻璃基板4表面呈中间高边缘低的弧形。玻璃基板4中 间位置下方的传送轮1直径较大，越靠近边缘的传送轮1的直径越小。这样，使玻璃基板4 的表面也呈现弧形，从而在对玻璃基板4进行处理的各种工艺流程中，液体从玻璃基板4的 中间缓慢向边缘扩散，使玻璃基板4表面的额液体具有很好的置换性。另外，玻璃基板4表面所呈弧形的弧度可以根据玻璃基板4面积的大小以及液体 喷淋的量而具体确定。通常，玻璃基板4表面的弧度无需设置的过大，相应的，每排传送轮1 的直径从玻璃基板4边缘至中部，直径相差不必过大，以防止玻璃基板4损坏，只需使中间 区域略微高于边缘即可。以湿法刻蚀工艺流程为例，采用本实施例提供的基板处理设备进行湿法刻蚀的流 程中，多个喷嘴3向玻璃基板4表面喷淋化学药品，化学药品喷淋到玻璃基板4表面后，由 于玻璃基板4表面中间区域高于边缘区域，使得玻璃基板4表面中间区域堆积的化学药品 向边缘区域扩散，通过设置不同直径的传送轮1来实现玻璃基板4表面所呈弧形，使中间 区域的化学药品缓慢向边缘区域扩散，从而使玻璃基板4表面各区域的化学药品量趋于均 勻，从而使刻蚀效果趋于均勻，从而使玻璃基板4表面各区域沉积的金属层被腐蚀的程度 区域相同，玻璃基板4表面各处的刻蚀效果趋于相同。有效避免玻璃基板4表面出现过刻 蚀现象，防止玻璃基板4表面的线电阻出现差异以及颜色异常的问题。实施例二参见图3，本实用新型提供一种基板处理设备，包括多个传送轮1，多个传送轮1 成排设置，用于传送玻璃基板4 ；多个滑轨2，设置于玻璃基板4上方；多个喷嘴3，设置于滑 轨2上，用于在滑轨2上滑动，并向玻璃基板4上喷淋液体；每排传送轮1从玻璃基板4的边缘至中部，直径依次递增，使玻璃基板4表面呈中 间高边缘低的弧形。在前一实施例的基础上，传送轮1可以进一步包括轮体(图中未示出)和套设在 轮体外部的保护层(图中未示出)。该保护层通常采用橡胶等材料制成，以减少轮体表面磨 损，并且防止玻璃基板4表面受轮体摩擦而损坏。[0038]因此，一种优选的实施方式，多个传送轮1的轮体直径可以相等，每排传送轮1从 玻璃基板4的边缘至中部，保护层的厚度依次递增，从而使玻璃基板4表面呈中间高边缘低 的弧形。另外一种优选的实施 方式，可以设置多个传送轮1的保护层厚度相等，每排传送 轮1从玻璃基板4的边缘至中部，轮体的直径依次递增，使玻璃基板4表面呈中间高边缘低 的弧形。以上两种方式均可以是每排传送轮1的整体直径，从玻璃基板4边缘到中部依次 递增，从而使玻璃基板4表面呈中间高边缘低的弧形。进一步的，为了配合呈中间高边缘低的玻璃基板4的弧形表面，相应的，可以将玻 璃基板4上方的滑轨2也设置呈弧形，具体是呈向下弯曲的弧形，由于多个喷嘴3设置在滑 轨2上，因此，可以使滑轨2上的各个喷嘴3到玻璃基板4表面的垂直距离趋于相同，从而 使各个喷嘴3喷淋的液体到达玻璃基板4表面上的压力趋于相同，更有利于玻璃基板4表 面上的液体均勻分布。优选的，可以将玻璃基板4表面所呈弧度与滑轨2所呈弧度相匹配，从而使各个喷 嘴3距离对应的玻璃基板4表面区域相等，是各个喷嘴3垂直朝向玻璃基板4的表面，从而 使各个喷嘴3喷淋的液体达到基板上的压力相同。另一种可行的实施方式是，可以将多个喷嘴3呈向下弯曲的弧形排列，具体是，可 以调整各个喷嘴3在滑轨2上的安装角度，以使同一滑轨2上的多个喷嘴3呈向下弯曲的 弧形排列，或者使不同滑轨2上的多个喷嘴3成向下弯曲的互相排列，从而使各个喷嘴3到 玻璃基板4表面的垂直距离趋于相同，各个喷嘴3喷淋的液体到达玻璃基板4表面上的压 力趋于相同，更有利于玻璃基板4表面上的液体均勻分布。与前一种实施方式类似的，还可以将多个喷嘴3排列所呈的弧度设置成与玻璃基 板4表面所呈的弧度相匹配，从而使各个喷嘴3距离对应的玻璃基板4表面区域相等，使各 个喷嘴3喷淋的液体达到基板上的压力相同。本实施例提供的基板处理设备在液晶显示器生产过程中涉及到的多种工艺环节， 例如清洗、剥离或湿法刻蚀等工艺环节中，通过每排传送轮的直径从玻璃基板的边缘至中 部依次递增，使传送轮传送的玻璃基板表面呈中间高边缘低的弧形。从而使向玻璃基板表 面各处喷洒的各种液体流量和压力更加均勻，从而使玻璃基板表面各处的处理趋于相同。最后应说明的是以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制； 尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解 其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等 同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术 方案的精神和范围。
权利要求1.一种基板处理设备，包括多个传送轮，所述多个传送轮成排设置，用于传送玻璃基 板；多个滑轨，设置于所述玻璃基板上方；多个喷嘴，设置于所述滑轨上，用于在所述滑轨 上滑动，并向所述玻璃基板上喷淋液体；其特征在于，每排传送轮从所述玻璃基板的边缘至 中部，直径依次递增，使所述玻璃基板表面呈中间高边缘低的弧形。
2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其特征在于，所述传送轮包括轮体和套设在 所述轮体外部的保护层。
3.根据权利要求2所述的基板处理设备，其特征在于，所述多个传送轮的轮体直径相 等，每排传送轮从所述玻璃基板的边缘至中部，所述保护层的厚度依次递增，使玻璃基板表 面呈中间高边缘低的弧形。
4.根据权利要求2所述的基板处理设备，其特征在于，所述多个传送轮的所述保护层 厚度相等，每排传送轮从所述玻璃基板的边缘至中部，轮体的直径依次递增，使所述玻璃基 板表面呈中间高边缘低的弧形。
5.根据权利要求1-4任一项所述的基板处理设备，其特征在于，所述滑轨分别呈向下 弯曲的弧形。
6.根据权利要求5所述的基板处理设备，其特征在于，所述滑轨所呈的弧度与所述玻 璃基板表面所呈的弧度相匹配。
7.根据权利要求1-4所述的基板处理设备，其特征在于，所述多个喷嘴呈向下弯曲的 弧形排列。
8.根据权利要求7所述的基板处理设备，其特征在于，所述多个喷嘴排列所呈的弧度 与所述玻璃基板表面所呈的弧度相匹配。
专利摘要本实用新型公开了一种基板处理设备，包括多个传送轮，所述多个传送轮成排设置，用于传送玻璃基板；多个滑轨，设置于玻璃基板上方；多个喷嘴，设置于滑轨上，用于在滑轨上滑动，并向玻璃基板上喷淋液体；每排传送轮从所述玻璃基板的边缘至中部，直径依次递增，使所述玻璃基板表面呈中间高边缘低的弧形。本实用新型使玻璃基板表面各处喷洒的液体流量和压力更加均匀，从而使玻璃基板表面各处的处理效果趋于相同。
文档编号G02F1/1333GK201853680SQ201020592168
公开日2011年6月1日 申请日期2010年10月29日 优先权日2010年10月29日
发明者徐斌 申请人:北京京东方光电科技有限公司