专利名称：一种阵列基板的制作方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示器面板制造技术领域，具体涉及ー种阵列基板。
背景技术：
液晶显示器(IXD)通过控制液晶分子的旋转方向和角度来控制穿透液晶层的光量，从而显示各种灰度的图像，因此液晶显示器内必须有一层均匀取向的定向层，从而确保液晶分子是均匀排列的。
在各种液晶显示器定向层的制造方法中，摩擦法(Rubbing)是最为常用的方法。采用摩擦法制造液晶显示器定向层的制造方法如下涂覆了定向层的阵列(Array)基板放置在基台上，滚轮上缠绕了摩擦布，与基板接触并且高速转动，同时基台向某一方向移动从而实现对整块基板的摩擦处理。基板上的定向层经过这样的摩擦处理后，形成了均匀的微槽，具有了定向液晶分子的能力。现有技术中，液晶基板定向层的边缘会设置测试元件组(TEG, Test ElementGroup)，图I为现有技术中TEG边缘设计的剖面图，由图I可以看出，第一金属层11、第二金属层12以及第三金属层13的边缘基本在ー个垂直线上，形成的边缘坡度非常陡峭，采用这种边缘形状的基板进行摩擦时，摩擦布与基板直接接触，在摩擦时TEG的边缘会对摩擦布带来损伤，使用带有损伤的摩擦布制造出来的定向层不能保证液晶分子均匀排列，进而影响液晶显示效果。
发明内容
本发明提供一种阵列基板，以解决在液晶显示器定向层的制造时，基板边缘容易对摩擦布产生损伤的问题。本发明提供的一种阵列基板，在该阵列基板上表面形成有用于减小对摩擦布损伤的阶梯结构。具体的，所述阶梯结构可以是由测试元件组TEG所形成，该TEG包括至少两独立膜层和至少ー覆盖膜层，至少一组相邻独立膜层一端从下至上缩进形成有阶梯状，外部的覆盖膜层对应独立膜层一端的阶梯状处也形成阶梯状。具体的，所述阶梯结构可以为与TEG具有相同的膜层的结构层，该结构层包括至少两独立膜层和至少ー覆盖膜层，至少一组相邻独立膜层一端从下至上缩进形成有阶梯状，外部的覆盖膜层对应独立膜层一端的阶梯状处也形成阶梯状，该结构层与TEG之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。具体的，所述阶梯结构可以为TEG以及该阵列基板上的至少ー个结构层形成，各结构层的厚度按照与TEG的距离不同而变化，与TEG间距离越远的结构层的厚度越小，而且两个相邻的结构层的相邻边缘之间、与TEG相邻的结构层与TEG的相邻边缘之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。具体的，所述阶梯结构可以为该阵列基板上的至少两个结构层形成，各结构层的厚度按照与TEG的距离不同而变化，与TEG间距离越远的结构层的厚度越小，与TEG相邻的结构层与TEG具有相同的膜层，而且两个相邻的结构层的相邻边缘之间、与TEG相邻的结构层与TEG的相邻边缘之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。在上述方案中，所述阶梯结构还可以为与TEG具有相同的膜层的结构层，该结构层包括至少两独立膜层和至少ー覆盖膜层，至少一组相邻独立膜层一端从下至上缩进形成有阶梯状，外部的覆盖膜层对应独立膜层一端的阶梯状处也形成阶梯状。所述设定距离大于曝光机的对准精度，并且小于摩擦布毛纤维直径。所述结构层上端的平台的长度大于摩擦布毛纤维直径。 本发明在阵列基板上表面形成有用于减小对摩擦布损伤的阶梯结构，減少了现有技术中基板上TEG对摩擦布产生的损伤，不仅降低了摩擦不良的发生率，而且延长摩擦布的使用寿命节约生产成本。
图I为现有技术中TEG边缘设计的剖面示意图；图2为本发明实施例一所述的TEG边缘设计剖面示意图；图3为本发明实施例ニ所述的TEG边缘设计剖面示意图；图4为本发明实施例三所述的TEG边缘设计剖面示意图；图5为本发明实施例四所述的TEG边缘设计剖面示意图。
具体实施例方式本发明提供的阵列基板，在该阵列基板上表面形成有用于减小对摩擦布损伤的阶梯结构，从而减少摩擦エ艺中对摩擦布的损伤。作为第一种实施方式，所述阶梯结构可以是由测试元件组TEG所形成，即形成边缘为阶梯状的TEG，该TEG包括至少两独立膜层和至少ー覆盖膜层，至少一组相邻独立膜层一端从下至上缩进形成有阶梯状，外部的覆盖膜层对应独立膜层一端的阶梯状处也形成阶梯状。例如，參见图2所示，第一层金属薄膜层21到第二层金属薄膜层22再到第三层金属或透明电极薄膜层23的一端逐级递减形成阶梯结构，TEG边缘也形成了阶梯状，TEG膜层坡度得到降低，从而可以减少对摩擦布的损伤。另外，作为第二种实施方式，所述阶梯结构可以不是由TEG形成，而是新形成位于该液晶显示器基板上的结构阵列基板，所述阶梯结构为与TEG具有相同的膜层的结构层，该结构层包括至少两独立膜层和至少ー覆盖膜层，其中，至少ー组相邻独立膜层一端从下至上缩进形成阶梯状，外部的覆盖膜层对应独立膜层一端的阶梯状处也形成阶梯状，该结构层与TEG之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。例如，參见图3所示，在TEG34边缘外一定的距离，用ー个与TEG具有相同膜层的结构层30形成阶梯结构，该结构层所包括的独立膜层即第一层金属薄膜层31、第二层金属薄膜层32以及第三层金属或透明电极薄膜层33 —端逐级缩进形成阶梯结构，该结构层外围的覆盖膜层对应各金属层形成阶梯结构的一端的边缘也形成了阶梯状，结构层30与TEG具有相同的膜层，并且TEG 34与结构层30相邻边缘之间的距离并不会对摩擦布造成损伤，这样既可以降低对摩擦布的损伤，对TEG自身也不会造成影响。本例中，该结构层30与TEG34之间的设定距离是指结构层30上端的平台右端与TEG34上端平台的左端之间的长
度每个结构层还可以具有与TEG不相同的膜层，但是不论膜层是否相同，每个结构层的厚度可以按照与TEG间的距离不同而变化，与TEG间距离越远的结构层的厚度越小，这样也可以形成阶梯结构。作为第三实施例，所述阶梯结构可以为TEG以及该阵列基板上的至少ー个结构层形成，各结构层的厚度按照与TEG的距离不同而变化，与TEG间距离越远的结构层的厚度越小，而且两个相邻的结构层的相邻边缘之间、与TEG相邻的结构层与TEG的相邻边缘之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。举例说明，如图4所示，在TEG 43边缘外一定的距离，用与TEG 43具有不同的膜层的结构层40形成阶梯结构，结构层40的膜层为膜层42，TEG 43的膜层为膜层41，结构层40的厚度比TEG 43的厚度要小，且TEG 43与结构层40相邻边缘之间的距离并不会对摩擦布造成损伤，这样既可以降低对摩擦布的损伤，对TEG自身也不会造成影响。本例中，该结构层40与TEG43之间的设定距离是指结构层40上端的平台右端与TEG43上端平台的左端之间的长度。作为第四实施例，所述阶梯结构可以为该阵列基板上的至少两个结构层形成，各结构层的厚度按照与TEG的距离不同而变化，与TEG间距离越远的结构层的厚度越小，与TEG相邻的结构层与TEG具有相同的膜层，而且两个相邻的结构层的相邻边缘之间、与TEG相邻的结构层与TEG的相邻边缘之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。在上述第四实施例中，所述与TEG相邻的结构层本身也可以形成阶梯结构，即所述阶梯结构还可以为与TEG具有相同的膜层的结构层，该结构层包括至少两独立膜层和至少ー覆盖膜层，至少一组相邻独立膜层一端从下至上缩进形成有阶梯状，外部的覆盖膜层对应独立膜层一端的阶梯状处也形成阶梯状。如图5所示，TEG 50具有第一层金属薄膜层51、第二层金属薄膜层52以及第三层金属或透明电极薄膜层53。TEG 50与第一结构层56以及第二结构层55形成阶梯结构，第一结构层56的膜层为膜层54,其与TEG50具有相同的膜层，其本身也为阶梯结构，第二结构层55的厚度比TEG 50的厚度要小，且TEG50与第一结构层56相邻边缘之间的距离，第一结构层56与第二结构层55相邻边缘之间的距离并不会对摩擦布造成损伤，这样既可以降低对摩擦布的损伤，对TEG自身也不会造成影响。另外，本发明实施例中对形成阶梯结构的阶梯个数不做限定，只要形成阶梯结构即可。需要说明的是，在图案的形成过程中，图案的精度主要与曝光机的精度有关，因此曝光机的对位精度与各个膜层的边缘关系很大。如果结构层与TEG相邻两个边缘距离小于或等于对位精度，结构层与TEG就可能连在一起。因此，在上述实施例中，所述设定距离需要大于曝光机的对准精度。同时，还要求所述设定距离(对应)小于摩擦布毛纤维直径，所述结构层上端的平台的长度(左右向尺寸)大于摩擦布毛纤维直径，以减小对摩擦布的损伤。因此，无论采用几个结构层与TEG形成阶梯结构，相邻的结构层之间，以及与TEG相邻的结构层与TEG之间的设定距离需要大于曝光机的对准精度，并且小于摩擦布毛纤维直径。而且，当结构层为阶梯时，结构层中每个平台的长度大于摩擦布毛纤维直径。本发明利用阶梯结构可减少现有技术中基板上TEG对摩擦布产生的损伤，不仅降 低了摩擦不良的发生率，而且延长摩擦布的使用寿命，节约生产成本。显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求
1.一种阵列基板，其特征在于，在该阵列基板上表面形成有用于减小对摩擦布损伤的阶梯结构。
2.根据权利要求I所述的阵列基板，其特征在于，所述阶梯结构是由测试元件组TEG所形成，该TEG包括至少两独立膜层和至少ー覆盖膜层，至少一组相邻独立膜层一端从下至上缩进形成有阶梯状，外部的覆盖膜层对应独立膜层一端的阶梯状处也形成阶梯状。
3.根据权利要求I所述的阵列基板，其特征在于，所述阶梯结构为与TEG具有相同的膜层的结构层，该结构层包括至少两独立膜层和至少ー覆盖膜层，至少一组相邻独立膜层ー端从下至上缩进形成有阶梯状，外 部的覆盖膜层对应独立膜层一端的阶梯状处也形成阶梯状，该结构层与TEG之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。
4.根据权利要求I所述的阵列基板，其特征在于，所述阶梯结构为TEG以及该阵列基板上的至少ー个结构层形成，各结构层的厚度按照与TEG的距离不同而变化，与TEG间距离越远的结构层的厚度越小，而且两个相邻的结构层的相邻边缘之间、与TEG相邻的结构层与TEG的相邻边缘之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。
5.根据权利要求I所述的阵列基板，其特征在于，所述阶梯结构为该阵列基板上的至少两个结构层形成，各结构层的厚度按照与TEG的距离不同而变化，与TEG间距离越远的结构层的厚度越小，与TEG相邻的结构层与TEG具有相同的膜层，而且两个相邻的结构层的相邻边缘之间、与TEG相邻的结构层与TEG的相邻边缘之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述阶梯结构为与TEG具有相同的膜层的结构层，该结构层包括至少两独立膜层和至少ー覆盖膜层，至少一组相邻独立膜层ー端从下至上缩进形成有阶梯状，外部的覆盖膜层对应独立膜层一端的阶梯状处也形成阶梯状。
7.根据权利要求3 6中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述设定距离大于曝光机的对准精度，并且小于摩擦布毛纤维直径。
8.根据权利要求3 6中任意一项所述的阵列基板，其特征在于，所述结构层上端的平台的长度大于摩擦布毛纤维直径。
全文摘要
本发明提供一种阵列基板，在该阵列基板上表面形成有用于减小对摩擦布损伤的阶梯结构；所述阶梯结构可以是边缘为阶梯状的测试元件组TEG，或者所述阶梯结构也可以为TEG以及该阵列基板上的至少一个结构层形成，还可以是该阵列基板上的至少两个结构层形成，其中，两个相邻的结构层的相邻边缘之间、与TEG相邻的结构层与TEG的相邻边缘之间具有设定距离，所述设定距离为不对摩擦布造成损伤的安全距离。本发明利用阶梯结构，可减少现有技术中基板上TEG对摩擦布产生的损伤，不仅降低了摩擦不良的发生率，而且延长摩擦布的使用寿命，节约生产成本。
文档编号G02F1/1337GK102645788SQ201110152260
公开日2012年8月22日 申请日期2011年6月8日 优先权日2011年6月8日
发明者吴松, 张南红 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 合肥鑫晟光电科技有限公司