专利名称：感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及印刷电路板的制造方法
技术领域：
本发明涉及感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及印刷电路板的制造方法。
背景技术：
在印刷电路板的制造领域中，作为用于蚀刻或镀覆等的抗蚀材料，广泛使用感光性元件(层叠体)，所述感光性元件具有以下结构在支持薄膜上形成感光性树脂组合物或含有该感光性树脂组合物的层(以下称为“感光性树脂组合物层”)后，在感光性树脂组合物层上配置保护膜的结构。以往，使用上述感光性元件，例如按照以下的顺序来制造印刷电路板。S卩，首先，在镀铜薄膜层叠板等电路形成用基板上层叠感光性元件的感光性树脂组合物层。此时，与接触于感光性树脂组合物层的支持薄膜的面(以下，称为感光性树脂组合物层的“下面”)相反侧的面(以下，称为感光性树脂组合物层的“上面”)，密合于形成电路形成用基板的电路的面。因此，在感光性树脂组合物层的上面配置保护膜时，一边剥离保护膜一边进行该层叠的操作。另外，通过将感光性树脂组合物层加热压接于底层的电路形成用基板来进行层叠 (常压层叠法)。接着，通过掩模等将感光性树脂组合物层进行图案曝光。此时，在曝光前或曝光后的任一时间剥离支持薄膜。其后，通过显影液来溶解或分散除去感光性树脂组合物层的未曝光部分。接着，实施蚀刻处理或镀覆处理来形成图案，最后剥离除去固化部分。在这里所谓蚀刻处理，是通过蚀刻除去没有被显影后形成的固化抗蚀剂被覆的电路形成用基板的金属面后，剥离固化抗蚀剂的方法。另一方面，所谓镀覆处理，是通过对没有被显影后形成的固化抗蚀剂被覆的电路形成用基板的金属面进行铜及焊料等的镀覆处理后，除去固化抗蚀剂并对通过该抗蚀剂被覆的金属面进行蚀刻的方法。作为上述的图案曝光的手法，以往，利用使用水银灯作为光源通过光掩模进行曝光的方法。另外，近年来作为新曝光技术提出了称为DLP (数字光学处理)的方案，即，直接将图案的数字数据在感光性树脂组合物层进行描画的直接描画曝光法。该直接描画曝光法与通过光掩模的曝光方法相比，位置配合精度良好、而且可得到良好图案，因此正在为高密度封装基板制作的而导入。为了提高生产能力，图案曝光中必须尽可能缩短曝光时间。在上述的直接描画曝光法中，如果使用与以往通过光掩模的曝光方法中使用的感光性树脂组合物相同程度的灵敏度的组合物，则通常需要较多的曝光时间。因此，必须提高曝光装置侧的照度或感光性树脂组合物的灵敏度。此外，除上述感度外，分辨率和抗蚀剂的剥离特性也优异，对于感光性树脂组合物来说，也是很重要的。如果感光性树脂组合物可以提供分辨率优异的抗蚀图案，则能够充分减少电路间的短路或断路。此外，如果感光性树脂组合物可以形成剥离特性优异的抗蚀剂， 则缩短了抗蚀剂的剥离时间，因而提高了抗蚀图案的形成效率，并且，还减小了抗蚀剂剥离片的尺寸，从而抗蚀剂的剥离残余物变少，电路形成的成品率提高。对于这种要求，已提出了使用特定的粘合剂聚合物、光聚合引发剂等并且感度、分辨率和抗蚀剂剥离特性优异的感光性树脂组合物(例如，参见专利文献1、2)。专利文献1 日本特开2006-2:34995号公报专利文献2 日本特开2005-122123号公报
发明内容
发明要解决的问题然而，上述专利文献1和2所记载的感光性树脂组合物，其分辨率和抗蚀剂剥离特性仍然不足。因此，本发明目的在于提供一种具有充分提高分辨率和抗蚀剂剥离特性效果的感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及印刷电路板的制造方法。解决问题的方法本发明人等为了解决上述问题，着眼于粘合剂聚合物，进行了积极研究。结果发现，通过使用特定结构的粘合剂聚合物，可以得到具有充分提高分辨率和抗蚀剂剥离特性效果的感光性树脂组合物，由此完成本发明。也就是说，本发明是一种感光性树脂组合物，其含有(A)具有下述通式(I)表示的二价基团和下述通式(II )表示的二价基团和下述通式(III)表示的二价基团和下述通式(IV )表示的二价基团的粘合剂聚合物；(B)光聚合性化合物；以及(C)光聚合引发剂，
权利要求
1. 一种感光性树脂组合物，其含有(A)具有下述通式(I)表示的二价基团和下述通式(II)表示的二价基团和下述通式 (III)表示的二价基团和下述通式(IV)表示的二价基团、且重均分子量为20000 50000 的粘合剂聚合物，(B)光聚合性化合物，以及(C)光聚合引发剂，
2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，所述(A)粘合剂聚合物，相对于其总量100质量份，具有10 60质量份所述通式(I )表示的二价基团、10 60质量份所述通式(II )表示的二价基团、20 50质量份所述通式(III)表示的二价基团、1质量份以上且小于15质量份的所述通式(IV )表示的二价基团。
3.—种感光性树脂组合物，其含有(A)具有苯乙烯或苯乙烯衍生物结构单元和(甲基)丙烯酸苄酯或(甲基)丙烯酸苄酯衍生物结构单元和(甲基)丙烯酸结构单元和(甲基)丙烯酸烷基酯结构单元、且重均分子量为20000 50000的粘合剂聚合物，(B)光聚合性化合物，以及(C)光聚合引发剂。
4.根据权利要求3所述的感光性树脂组合物，其中，所述(A)粘合剂聚合物，相对于其总量100质量份，具有10 60质量份所述苯乙烯或苯乙烯衍生物结构单元、10 60质量份所述(甲基)丙烯酸苄酯或(甲基)丙烯酸苄酯衍生物结构单元、20 50质量份所述 (甲基)丙烯酸结构单元、1质量份以上且小于15质量份的所述(甲基)丙烯酸烷基酯结构单元。
5.根据权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，相对于(A)成分的总量100质量份，所述通式(I )表示的结构单元或者苯乙烯或苯乙烯衍生物结构单元的含有比例为15 55质量份。
6.根据权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，相对于(A)成分的总量100质量份，所述通式(I )表示的结构单元或者苯乙烯或苯乙烯衍生物结构单元的含有比例为20 50质量份。
7.根据权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，相对于(A)成分的总量100质量份，所述通式(I )表示的结构单元或者苯乙烯或苯乙烯衍生物结构单元的含有比例为20 40质量份。
8.根据权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，相对于(A)成分的总量100质量份，所述通式(II )表示的结构单元或者(甲基)丙烯酸苄酯或(甲基)丙烯酸苄酯衍生物结构单元的含有比例为15 55质量份。
9.根据权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，相对于(A)成分的总量100质量份，所述通式(II )表示的结构单元或者(甲基)丙烯酸苄酯或(甲基)丙烯酸苄酯衍生物结构单元的含有比例为20 50质量份。
10.根据权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，相对于(A)成分的总量100质量份，所述通式(II )表示的结构单元或者(甲基)丙烯酸苄酯或(甲基)丙烯酸苄酯衍生物结构单元的含有比例为25 45质量份。
11.根据权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，所述(B)光聚合性化合物含有在分子内具有乙二醇链和丙二醇链这两者的聚亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸
12.根据权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，所述(B)光聚合性化合物含有双酚A类(甲基)丙烯酸酯化合物。
13.根据权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，所述(C)光聚合引发剂含有六芳基联咪唑化合物。
14.根据权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，进一步含有(D)增感色素。
15.根据权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，进一步含有(E)胺系化合物。
16.根据权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物，其中，相对于(A)成分和 (B)成分的总量100质量份，含有所述(A)成分的粘合剂聚合物30 70质量份、所述(B) 成分的光聚合性化合物30 70质量份、所述(C)成分的光聚合引发剂0. 1 10质量份。
17.—种感光性元件，其具有支持膜和在该支持膜上形成的含有权利要求1 4中任一项所述的感光性树脂组合物的感光性树脂组合物层。
18.—种抗蚀图案的形成方法，其具有在电路形成用基板上，层叠含有权利要求1 4 中任一项所述的感光性树脂组合物的感光性树脂组合物层的层叠工序；对所述感光性树脂组合物层的规定部分照射活性光线使曝光部光固化的曝光工序；以及从层叠了所述感光性树脂组合物层的电路形成用基板除去所述感光性树脂组合物层的所述曝光部以外的部分的显影工序。
19.一种印刷电路板的制造方法，其具有对通过权利要求18所述的抗蚀图案的形成方法形成有抗蚀图案的电路形成用基板进行蚀刻或镀覆来形成导体图案的工序。
全文摘要
本发明为感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及印刷电路板的制造方法。本发明的感光性树脂组合物含有(A)具有下述通式(Ⅰ)表示的二价基团和下述通式(Ⅱ)表示的二价基团和下述通式(Ⅲ)表示的二价基团和下述通式(Ⅳ)表示的二价基团、且重均分子量为20000～50000的粘合剂聚合物，(B)光聚合性化合物，以及(C)光聚合引发剂，式(Ⅰ)、式(Ⅱ)、式(Ⅲ)及式(Ⅳ)中，R1、R3、R5及R6分别独立地表示氢原子或甲基，R2及R4分别独立地表示碳原子数1～3的烷基、碳原子数1～3的烷氧基、羟基或卤原子，R7表示碳原子数1～6的烷基，m或n分别独立地表示0～5的整数，m或n为2～5时，多个R2或R4相互可以相同或不同。
文档编号G03F7/00GK102393605SQ201110391729
公开日2012年3月28日 申请日期2007年11月22日 优先权日2006年12月27日
发明者南川华子, 宫坂昌宏, 村松有纪子 申请人:日立化成工业株式会社