专利名称：彩色滤光片基板的曝光方法
技术领域：
本发明涉及一种用于液晶显示装置等的彩色滤光片基板的曝光方法。
背景技术：
近年来，随着液晶显示装置的大型化，用于液晶显示装置的彩色滤光片也随之大型化。彩色滤光片的制造エ序中，通过光刻法对着色层进行图案化，但大型光掩膜非常高价，导致彩色滤光片的制造成本提高。因此，正在研讨各种使用小型掩膜的新曝光方法。
作为使用小型光掩膜的曝光方法，已知的方式是使用将尺寸比基板小的光掩膜装设于曝光头上的曝光机，一边搬运基板，一边对作为曝光对象的基板整面重复进行曝光(以下称为“小型掩膜连续曝光方式”)。图15是示出小型掩膜连续曝光方式的曝光方法的俯视图，图16是示出基板、光掩膜及遮光板(blind shutter)之间的位置关系的侧面图。如图15所示，光掩膜130相对于基板120而配置。例如，在光掩膜上设有与点状的着色像素或光间隔物(photo spacer，以下称为“PS”)对应的多个开ロ 131。一边在图的箭头方向上搬运基板120，ー边通过开ロ 131对基板120上的显示区域依次进行晒图，从而形成着色像素或光间隔物(未图示)。基板120具有形成有着色像素的显示区域140以及包围显示区域140外周的非显示区域150。形成于显示区域140的PS用于在彩色滤光片基板110与作为相对基板的TFT基板贴合时，使两个基板的间隔保持一定。PS会有设于非显示区域150 (以下，将设于非显示区域150的PS称为“伪PS” )的情況。在彩色滤光片基板110与TFT基板贴合时，伪PS在使显示区域140外侧的两个基板之间的间隔保持一定，稳定液晶层间隙(cell gap)(装进液晶的液晶层的间隙)方面发挥重要的作用。一般来说，PS (包含伪PS)并不是配置于彩色滤光片基板内的所有部分，为了不妨碍与TFT布线之间的接触或基板的剪切，彩色滤光片基板上局部地存在没有形成伪PS的区域。在彩色滤光片基板与TFT基板贴合吋，由于该没有形成伪PS的区域导致基板弯曲，从而贴合时，在显示区域的应カ与在其周围的应力不同。于是，除了要对显示区域内的PS进行调整之外，根据彩色滤光片基板与TFT基板贴合时所产生的应カ分布，来对伪PS的配置密度、大小、高度另外进行调整。此外，为了避开与在彩色滤光片基板的制造エ序中所需的对准标记(alignment mark)等之间的干扰，将伪PS以不规则的间距配置在非显示区域上。然而，上述的小型掩膜连续曝光方式由于在基板搬运方向上使相同的图案重复晒图，所以在中途不能切换图案的形状或图案的排列间距。此外，如图15所示，虽然在I片基板120有多个彩色滤光片110被曝光，但此时，夹在排列于基板搬运方向上的显示区域140的部分，不通过与显示区域140相同的光掩膜来进行曝光。于是，如图16所示，设置与基板同步移动的遮光板139，对显示区域140间的区域进行遮光。由此，存在的问题是，不能够对非显示区域150上、沿与基板搬运方向正交的边的部分的伪PS进行曝光。专利文献
专利文献I日本特开2006-292955号公报
发明内容
故而，本发明的目的在于提供一种曝光方法，使用小型掩膜连续曝光方式，能够在彩色滤光片基板的显示区域外侧的非显示区域上有效地形成伪PS。本发明涉及ー种彩色滤光片基板的曝光方法，彩色滤光片基板具有矩形状的显示区域、ー对第一非显示区域以及ー对第二非显示区域，在显示区域上设置多个着色像素及多个PS，在第一非显示区域及第ニ非显示区域上设置多个伪PS，显示区域具有在第一方向上延伸的ー对边、以及在与第一方向正交的第二方向上延伸的ー对边，第一非显示区域沿着第一方向上的各边，第二非显示区域沿着第二方向上的各边。为了形成该彩色滤光片，该曝光方法具备以下エ序形成第一层的エ序，ー边在第一方向上搬运涂布有第一颜色的光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，在第一非显不区域内形成第一层，该第一层由与、构成第一颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成伪PS ;以及形成第二层的エ序，ー边在第二方向上搬运涂布有第二顔色的光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，在第ニ非显示区域内形成第二层，该第二层由与形成第二颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成伪PS。形成第一层的エ序和形成第二层的エ序按任意顺序进行。[发明效果]根据本发明，使用小型掩膜连续曝光方式，能够在位于彩色滤光片基板的显示区域四边的外侧的整个非显示区域上，对伪PS进行曝光。
图I是示出本发明的各实施方式通用的基本曝光方法的俯视图。图2是示出本发明的各实施方式通用的光掩膜的开ロ配置例的俯视图。图3是示出本发明的各实施方式通用的基本曝光方法的俯视图。图4是示出本发明的各实施方式通用的基本曝光方法的俯视图。图5是本发明的各实施方式通用的彩色滤光片的俯视图。图6是图5所示的B部分的放大图。图7是第一实施方式所涉及的彩色滤光片基板上的PS及伪PS的剖面图。图8是示出第一实施方式所涉及的彩色滤光片基板的曝光方法的俯视图。图9是第二实施方式所涉及的彩色滤光片基板上的PS及伪PS的剖面图。图10是示出第二实施方式所涉及的彩色滤光片基板的曝光方法的俯视图。图11是第三实施方式所涉及的彩色滤光片基板上的PS及伪PS的剖面图。图12是示出第三实施方式所涉及的彩色滤光片基板的曝光方法的俯视图。图13是第四实施方式所涉及的彩色滤光片基板上的PS及伪PS的剖面图。图14是示出第四实施方式所涉及的彩色滤光片基板的曝光方法的俯视图。图15是示出小型曝光掩膜连续曝光方式的曝光方法的俯视图。图16是示出基板、光掩膜及遮光板的位置关系的侧视图。(附图标记说明)10彩色滤光片基板
20基板
30、35光掩膜
31、32、36开ロ排列 40 显示区域
51第一非显示区域
52第二非显示区域
53、54周边部伪PS形成区域
61黒色矩阵
62着色层
63ITO膜 71、72 伪PS
81第一层
82第二层
83第三层
84第四层
85第五层
86第六层 90 PS 91、 92 层
具体实施例方式(基本结构)图I是示出本发明的各实施方式通用的基本曝光方法的俯视图。图2是示出本发明的各实施方式通用的基本光掩膜的开ロ配置的俯视图，是图I的A部分的放大图。在图I中，右下斜影线所示的区域是排 列有显示像素的显示区域，右上斜影线所示的区域是后述的第一非显示区域。此外，在以后的各图中，为了便于说明，用互相正交的X方向及Y方向来确定基板的朝向。具体而言，X方向是与显示区域的长边对边平行的方向，Y方向是与显示区域的短边对边平行的方向(以下的图中也同样)。如图I所示，光掩膜30a 301分别装设于多个曝光头部，并在X方向上排成两行而配置。更详细而言，光掩膜30a、30c、30e、30g、30i、30k隔着规定间隔配置在第一行(基板20的投入侧)，光掩膜30b、30d、30f、30h、30j、301对应于第一行的光掩膜的间隔部分而
相间地配置在第二行上。在光掩膜30a 301上设有与显示区域40中的多个着色像素、多个PS相对应的开ロ，并且，在光掩膜30a的左端、30e的右端、30f的左端及30k设置与形成于后述的第一非显示区域51的多个伪PS相对应的开ロ。在此，如图2所示，开ロ排列31及32分成2个区域而形成于光掩膜30a(图示虽然省略，但其他的光掩膜30b 301也同样)。这是为了能够用I片光掩膜来形成两种图案的缘故。其使用方法是，在Y方向上搬运基板20的情况下，使用开ロ 31来进行曝光，在后述的X方向上搬运基板20的情况下，使用开ロ 32来进行曝光。在将基板搬运方向X及Y方向之间进行切换时，通过使光掩膜上下移动，来选择性地使开ロ排列31或32与光源相对，从而切换到要使用的开ロ排列。 在图I的例子中，8个彩色滤光片基板10形成于基板20上。如图I所示，在曝光时，使基板20相对于如图I所不那样排列的光掩膜30a 301而设置,并使基板20的Y方向与搬运方向一致，ー边以规定的速度搬运基板20，一边间歇地进行多次曝光，对基板20上的显示区域40的着色像素及PS依次进行图案化，并在沿着显示区域40Y方向上的各边的ー对区域(以下称为“第一非显示区域”)51对伪PS依次进行图案化。在该过程中，使用遮光板来对基板搬运方向上邻接的显示区域40间的区域进行遮光。图3是示出本发明的各实施方式通用的基本曝光方法的俯视图，其示出与图I的曝光方法进行组合的曝光方法。在图3中，右下斜影线所示的区域是显示区域，右上斜影线所示的区域是后述的第二非显示区域。在Y方向上进行扫描曝光后，使结束了第一非显示区域51的曝光的基板20从图I所示的状态旋转90度，以使基板20如图3所示那样相对于光掩膜30a 301而设置(基板的搬运方向与基板的X方向一致)。图3所示的曝光吋，需要根据基板20的朝向改变应曝光的图案，本发明可以通过使用分别设置于光掩膜30a 301的另ー个的开ロ排列32(參见图2)，来取代更换各整个光掩膜。此外，在光掩膜30a 301设有与显示区域40的多个着色像素、多个PS相对应的开ロ，并且，在光掩膜30a的左端、30c的右端、30d的左端、30f的右端、30g的左端、30i的右端、30j的左端及301的右端设置有与形成于第二非显示区域52的多个伪PS相对应的开ロ。使基板20的X方向与搬运方向一致，ー边以规定的速度搬运基板20，一边间歇地进行多次曝光，对基板20上的显示区域40的着色像素及PS依次进行图案化，并在沿着显示区域40X方向上的各边的ー对区域(以下称为“第二非显示区域”)52对伪PS依次进行图案化。在该过程中，使用遮光板来对基板搬运方向上邻接的显示区域40之间的区域进行遮光。此外，显示区域40内的同一顔色的着色像素及构成PS的同一顔色的层既可以通过X方向或Y方向的一次扫描来进行曝光，也可以通过分成X及Y方向的两次扫描来进行曝光。图4是示出本发明的第一及三实施方式通用的基本曝光方法的俯视图，其示出与图I及3的曝光方法进行组合的曝光方法。在图4中，右下斜影线所示的区域是显示区域，右上斜影线所示的区域是第一及第ニ非显示区域。此外，双点划线的外框表示光掩膜的外形，双点划线的内框的内部表示形成有开ロ排列的区域。沿X及Y方向进行扫描曝光后，使能够对彩色滤光片基板10的区域进行一井曝光的光掩膜35，相对于已对第一非显示区域51及第ニ非显示区域52进行了曝光的基板20而配置。由此，开ロ排列36形成为能够对显示区域40、非显示区域50 (包含第一非显示区域51及第ニ非显示区域52)进行一井曝光。在这样配置有光掩膜35的状态下，用接近式(proximity)方法来对基板20左侧列的第一排的彩色滤光片基板10的区域进行一次曝光(以下将使用该方法的曝光称为“近接曝光”)。通过该曝光，同时对基板20上的显示区域40内的着色像素及PS、第一非显示区域51内的伪PS、第二非显示区域52内的伪PS进行图案化。曝光后，使光掩膜35移动到相邻的彩色滤光片基板10 (例如左侧列中从上数第2排)的区域，再进行同样的近接曝光。
重复进行该近接曝光，对基板20上的所有彩色滤光片基板10的区域(4排X 2列)进行曝光。图5是曝光后的彩色滤光片基板的俯视图，图6是图5的B部分的放大图。彩色滤光片基板10在沿X及Y方向进行了小型掩膜连续曝光、或沿X及Y方向进行了小型掩膜连续曝光及近接曝光后，在显示区域40具有着色像素(未图示)和PS90，并在第一非显示区域51及第ニ非显示区域52具有多个伪PS71及72。并且，如图5及6所示，在第一非显示区域51及第ニ非显示区域52形成伪PS71及伪PS72的同吋，也可以在位于第一非显示区域51及第ニ非显示区域52外侧的周边部伪PS形成区域53及54形成伪PS71及72。周边部伪PS形成区域53及54的伪PS与第一及第ニ非显示区域51及52的伪PS具有相同的结构，两者的不同之处仅在干，一个是伪PS形成于基板，一个是伪PS形成于黑色矩阵。以下，參照图6及图7 14，来说明各实施方式的曝光方法。<第一实施方式>图7是第一实施方式所涉及的彩色滤光片基板的部分剖面图，具体而言，图7(a)是相当于沿图6的I-I线部分的剖面图，图7 (b)是相当于沿图6的II-II线部分的剖面图，图7(c)是相当于沿图6的III-III线部分的剖面图。在第一非显示区域51中，如图7 (a)所示，构成伪PS71的第一层81及第三层83形成于表面形成有黒色矩阵61的基板20上。在第二非显示区域52上，如图7(b)所示，构成伪PS72的第二层82及第四层84形成于表面形成有黒色矩阵61的基板20上。在显示区域40上，如图7 (c)所示，黒色矩阵61及着色层62层积于基板20上。然后，在黒色矩阵61上的着色层62上层积有构成PS90的层91及92。并且，形成ITO膜63，以覆盖图7 (a) (c)所示的显示区域40、第一非显示区域51及第ニ非显示区域52全部。本实施方式中，第ー层81由与红色的着色层62相同的材料构成，第二层82及层91由与緑色的着色层相同的材料构成，第三层83、第四层84及层92由与蓝色的着色层相同的材料构成。图8是示出第一实施方式所涉及的彩色滤光片基板的曝光方法的俯视图。此外，为了简化说明，只图示基板整面中对应于I个彩色滤光片基板的区域。此外，图8的上方是基板的搬运方向。首先，通过公知的方法，在基板20上形成黑色矩阵61，并在基板20上涂布红色的光阻剂，通过一边在图8 (a)所示的Y方向上搬运基板20，一边进行小型掩膜连续曝光，来在显示区域40内形成红色的着色层62，并在第一非显示区域51内形成第一层81。其次，在基板20上涂布绿色的光阻剂，通过一边在图8 (b)所示的X方向上搬运基板20，一边进行小型掩膜连续曝光，来在显示区域40内形成緑色的着色像素和层91，并在第二非显示区域52内形成第二层82。其次，在基板20上涂布蓝色的光阻剂，如图8 (C)所示，对基板20进行一次近接曝光，在第一非显示区域51内的第一层81上形成第三层83，同时在第二非显示区域52内的第二层82上形成第四层84，并在显示区域40内的层91上形成层92。此外，与此同时，形成显示区域40内的蓝色的着色像素。最后，形成ITO膜63，以覆盖显示区域40、第一非显示区域51及第ニ非显示区域52的全部。如上所述，通过在直行的两个方向上对基板20进行小型掩膜连续曝光后，再进行一次近接曝光，能够在第一非显示区域51及第ニ非显示区域52上分別形成所期望的配置 间距及形状的由2个层构成的伪PS71及72，该2个层分别由与形成着色像素的材料相同的材料形成。此外，通过在曝光エ序的一部分采用近接曝光方式，使用能够同时对非显示区域整体进行曝光的光掩膜，从而获得的效果是，能够降低整体的曝光次数，并且不増加处理时间(tact)就能够进行曝光エ序。<第二实施方式>图9是第二实施方式所涉及的彩色滤光片基板上的PS及伪PS的剖面图。具体而言，图9 (a)是相当于沿图6的I-I线部分的剖面图，图9 (b)是相当于沿图6的II-II线部分的剖面图，图9(c)是相当于沿图6的III-III线部分的剖面图。在第一非显示区域51上，如图9 (a)所示，构成伪PS71的第一层81及第三层83形成于表面形成有黒色矩阵61的基板20上。在第二非显示区域52上，如图9(b)所示，构成伪PS72的第二层82及第四层84形成于表面形成有黒色矩阵61的基板20上。在显示区域40上，如图9 (c)所示，黒色矩阵61及着色层62层积于基板20上。然后，构成PS90的层91及92层积于黒色矩阵61上的着色层62上。并且，形成ITO膜63，以覆盖图9 (a) (c)所示的显示区域40、第一非显示区域51及第ニ非显示区域52的全部。本实施方式中，第一层81由与红色的着色层62相同的材料构成，第二层82及层91由与緑色的着色层相同的材料构成，第三层83、第四层84及层92由与蓝色的着色层相同的材料构成。图10是示出第二实施方式所涉及的彩色滤光片基板的曝光方法的俯视图。图10中也是上方向为基板的搬运方向。首先，通过公知的方法，在基板20上形成黑色矩阵61，并在基板20上涂布红色的光阻剂，通过一边在图10(a)所示的Y方向上搬运基板20，一边进行小型掩膜连续曝光，来在显示区域40内形成红色的着色层62，并在第一非显示区域51内形成第一层81。其次，在基板20上涂布绿色的光阻剂，通过一边在图10(b)所示的X方向上搬运基板20，一边进行小型掩膜连续曝光，来在显示区域40内形成緑色的着色像素和层91，并在第二非显示区域52内形成第二层82。其次，在基板20上涂布蓝色的光阻剂，通过一边在图10(c)所示的Y方向上搬运基板20，一边进行小型掩膜连续曝光，来在显示区域40内形成蓝色的着色层和层91上的层92，并在第一非显示区域51内的第一层上形成第三层83。
接着，使基板20旋转90度，通过ー边在图10(d)所示的X方向上搬运基板20，一边进行小型掩膜连续曝光，来在第二非显示区域52内的第二层82上形成第四层84。最后，形成ITO膜63，以覆盖显示区域40、第一非显示区域51及第ニ非显示区域52的全部。这样，在直行的两个方向上对基板20进行2次小型掩膜连续曝光的情况下，也能够在第一非显示区域51内形成具有所期望的配置间距及形状的伪PS71，在第二非显示区域52内形成具有所期望的配置间距及形状的伪PS72。此外，由于蓝色的光阻剂分别在X方向及Y方向分2次进行曝光，所以蓝色的着色像素及层92既可以通过在其中ー个方向上进行一次曝光来形成，也可分2次曝光来形成。<第三实施方式>图11是第三实施方式所涉及的彩色滤光片基板上的PS及伪PS的剖面图。具体 而言，图11 (a)是相当于沿图6的I-I线部分的剖面图，图11 (b)是相当于沿图6的II-II线部分的剖面图，图11 (c)是相当于沿图6的III-III线部分的剖面图。本实施方式所涉及的彩色滤光片基板与第一实施方式不同之处在干，除了红色、緑色、蓝色以外，还设有黄色的着色层。如图11(a)所示，在第一非显示区域51上，构成伪PS71的第一层81、第三层83及第五层85形成于表面形成有黑色矩阵61的基板20上。如图11 (b)所示，在第二非显示区域52上，构成伪PS72的第二层82、第四层84及第六层86形成于表面形成有黒色矩阵61的基板20上。如图11(c)所示，在显示区域40上，黑色矩阵61及着色层62层积于基板20上。然后，构成PS90的层91及层92形成于黑色矩阵61上的着色层62上。并且，形成ITO膜63，以覆盖图11(a) (c)所示的显示区域40和非显示区域51及52的全部。本实施方式中，第一层81由与红色的着色层62相同的材料构成，第二层82及层91由与緑色的着色层相同的材料构成，第三层83、第四层84及层92由与蓝色的着色层相同的材料构成，第五层85及第六层86由与黄色的着色层相同的材料构成。图12是示出第二实施方式所涉及的彩色滤光片基板的曝光方法的俯视图。图12中也是上方向为基板的搬运方向。首先，在图12(a) (C)中，进行与在图8(a) (C)中所说明的方法相同的曝光方法，在显示区域40内形成红色、緑色、蓝色的着色像素和层91及92，在第一非显示区域51内形成第一层81及第三层83，在第二非显示区域52内形成第二层82及第四层84。并且，在基板20上涂布黄色的光阻剂，如图12(d)所示，对基板20进行一次近接曝光，在第一非显示区域51内的第三层83上形成第五层，同时在第二非显示区域52内的第四层84上形成第六层86，并在显示区域40内形成黄色的着色像素。最后，形成ITO膜63，以覆盖显示区域40和非显示区域51及52的全部。这样，与在所有的曝光エ序中使用小型掩膜连续曝光方式的情况相比，通过在第ー实施方式的基础上还进行近接曝光，能够以较少的曝光次数在第一非显示区域51及第ニ非显示区域52这两个区域形成由3个层构成的伪PS，该3个层分别由与形成着色像素的材料相同的材料形成。此外，能够发挥不增加处理时间(tact)就能够实现曝光エ序的效果O〈第四实施方式〉
图13是第四实施方式所涉及的彩色滤光片基板上的PS及伪PS的剖面图。具体而言，图13(a)是相当于沿图6的I-I线部分的剖面图，图13(b)是相当于沿图6的II-II线部分的剖面图，图13(c)是相当于沿图6的III-III线部分的剖面图。如图13(a)所不,在第一非显不区域51上,构成伪PS71的第一层81及第三层83形成于表面形成有黒色矩阵61的基板20上。如图13(b)所示，在第二非显示区域52上，构成伪PS72的第二层82及第四层84形成于表面形成有黒色矩阵61的基板20上。如图13 (c)所示，在显示区域40上，黒色矩阵61及着色层62层积于基板20上。构成PS90的层91及层92形成于黑色矩阵61的着色层62上。并且，形成ITO膜63，以覆盖图13 (a) (c)所示的显示区域40、第一非显示区域51及第ニ非显示区域52的全部。本实施方式中，第一层81由与红色的着色层62相同的材料构成，第二层82及层91由与緑色的着色层相同的材料构成，第三层83及层92由与蓝色的着色层相同的材料构成，第四层84由与黄色的着色层相同的材料构成。图14是显示第三实施方式所涉及的彩色滤光片基板的曝光方法的俯视图。图14 中也是上方向为基板的搬运方向。首先，通过公知的方法，在基板20上形成黑色矩阵61，并在基板20上涂布红色的光阻剂，通过一边在图14(a)所示的Y方向上搬运基板20，一边进行小型掩膜连续曝光，来在基板20上的显示区域40内形成红色的着色层62，并在第一非显示区域51内形成第一层81。其次，在基板20上涂布绿色的光阻剂，通过一边在图14(b)所示的X方向上搬运基板20，一边进行小型掩膜连续曝光，来在显示区域40内形成緑色的着色层和层91，并在第二非显示区域52内形成第二层82。其次，在基板20上涂布蓝色的光阻剂，通过一边在图14(c)所示的Y方向上搬运基板20，一边进行小型掩膜连续曝光，来在显示区域40内形成蓝色的着色像素，并在层91上形成层92，并且在第一非显示区域51内的第一层81上形成第三层83。并且，在基板20上涂布黄色的光阻剂，通过一边在图14(d)所示的X方向上搬运基板20，一边进行小型掩膜连续曝光，来在显示区域40内形成黄色的着色像素，并在第二非显示区域52内的第二层82上形成第四层84。最后，形成ITO膜63，以覆盖显示区域40、非显示区域51及52全部。这样，在直行的两个方向上对基板20进行2次小型掩膜连续曝光，能够在第一非显示区域51内形成所期望的配置间距及形状的伪PS71，并在第二非显示区域52内形成所期望的配置间距及形状的伪PS72。此外，在上述第一实施方式中，将基板的曝光顺序确定为Y方向的扫描曝光、X方向的扫描曝光、近接曝光，在上述第二及第四实施方式中，将基板的曝光顺序确定为Y方向的扫描曝光、X方向的扫描曝光、Y方向的扫描曝光、X方向的扫描曝光，在上述第三实施方式中，将基板的曝光顺序确定为Y方向的扫描曝光、X方向的扫描曝光、近接曝光、近接曝光，但曝光顺序并不局限于此。在第一实施方式中，图8的(a)、(b)、(c)的顺序也可以按(a) (C)的6种组合中的任ー种进行，此外，在第二实施方式中，也可以按图10的(a)、(c)、(d)、(b)的顺序、图 10 的(b)、(a)、(c)、(d)的顺序、图 10 的(b)、(c)、(d)、(a)的顺序、图10的(c)、(d)、(a)、(b)的顺序、以及图10的(c)、(d)、(b)、(a)的顺序中的任ー顺序进行(而且，在各个顺序中，(C)与⑷的顺序也可以调换)，并且在第三及第四实施方式中，图12及14的(a)、(b)、(c)、(d)的顺序也可以按(a) (d)的24种组合中的任ー种进行。此外，上述第一 第四实施方式中，ー边形成非显示区域的伪PS，ー边形成显示区域的着色像素及PS，但本发明并不局限于此，着色像素及PS也可以在另外的エ序中制作。此外，上述第一 第四实施方式中确定了着色层的颜色和形成顺序，但颜色或形成顺序并不局限于上述实施方式中的例子，是任意的。[エ业实用性]本发明例如可应用于液晶显示装置或有机EL所使用的彩色滤光片基板的曝 光方法。
权利要求
1.一种彩色滤光片基板的曝光方法，上述彩色滤光片基板具有矩形状的显示区域、一对第一非显示区域以及一对第二非显示区域，在上述显示区域上设置多个着色像素及多个光间隔物，在上述第一非显示区域及上述第二非显示区域上设置多个伪光间隔物，上述显示区域具有在第一方向上延伸的一对边、以及在与上述第一方向正交的第二方向上延伸的一对边，上述第一非显示区域沿着上述第一方向上的各边，上述第二非显示区域沿着上述第二方向上的各边，该曝光方法具备以下工序 形成第一层的工序，一边在上述第一方向上搬运涂布有第一颜色的光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，在上述第一非显示区域内形成第一层，该第一层由与形成上述第一颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成第一伪光间隔物；以及 形成第二层的工序，一边在上述第二方向上搬运涂布有第二颜色的光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，在上述第二非显示区域内形成第二层，上述第二层由与形成上述第二颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成第二伪光间隔物。
2.根据权利要求I所述的彩色滤光片基板的曝光方法，其特征在于，还具备形成第三层及第四层的工序，通过对涂布有第三颜色的光阻剂的基板进行一次曝光，来形成与上述第一非显示区域内的上述第一层一起层积的第三层、及与上述第二非显示区域内的上述第二层一起层积的第四层，其中，上述第三层由与形成上述第三颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成上述第一伪光间隔物，上述第四层由与形成上述第三颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成第二伪光间隔物， 形成上述第一层的工序、形成上述第二层的工序、以及形成上述第三层及上述第四层的工序按任意顺序进行。
3.根据权利要求I所述的彩色滤光片基板的曝光方法，其特征在于，还具备形成第三层及第四层的工序，通过一边在上述第一方向上搬运涂布有第三颜色的光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，来形成与上述第一非显示区域内的上述第一层一起层积的第三层，并通过一边在第二方向上搬运上述基板，一边间歇地进行多次曝光，来形成与上述第二非显示区域内的上述第二层一起层积的第四层，其中，上述第三层由与形成上述第三颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成第一伪光间隔物，上述第四层由与形成上述第三颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成上述第二伪光间隔物， 形成上述第一层的工序、形成上述第二层的工序、以及形成上述第三及上述第四层的工序按任意顺序进行。
4.根据权利要求2所述的彩色滤光片基板的曝光方法，其特征在于，还具备形成第五层及第六层的工序，通过对涂布有第四颜色的光阻剂的基板进行一次曝光，来形成与上述第一非显示区域内的上述第一层及上述第三层一起层积的第五层、及与上述第二非显示区域内的上述第二层及上述第四层一起层积的第六层，其中，上述第五层由与形成上述第四颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成上述第一伪光间隔物，上述第六层由与形成上述第四颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成上述第二伪光间隔物， 形成上述第一层的工序、形成上述第二层的工序、形成上述第三层及上述第四层的工序、以及形成上述第五及第六层的工序按任意顺序进行。
5.根据权利要求I所述的彩色滤光片基板之曝光方法，其特征在于，还具备下述工序 形成第三层的工序，通过一边在上述第一方向上搬运涂布有第三颜色的光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，来形成与上述第一非显示区域内的上述第一层一起层积的第三层，上述第三层由与形成上述第三颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成上述第一伪光间隔物；以及 形成第四层的工序，通过一边在上述第二方向上搬运涂布有第四颜色的光阻剂的基板，一边间歇地进行多次曝光，来形成与上述第二非显示区域内的上述第二层一起层积的第四层，上述第四层由与形成上述第四颜色的着色像素的材料相同的材料构成，并构成上述第二伪光间隔物； 形成上述第一层的工序、形成上述第二层的工序、形成上述第三层的工序及形成上述第四层的工序按任意顺序进行。
6.根据权利要求2或3所述的曝光方法，其特征在于 上述彩色滤光片基板的上述显示区域具有互不相同的第一至第三颜色的着色像素， 上述第一层与上述显示区域内的第一颜色的着色像素同时形成， 上述第二层与上述显示区域内的第二颜色的着色像素及构成光间隔物的第二颜色的层同时形成， 上述第三层及第四层与上述显示区域内的第三颜色的着色像素及构成光间隔物的第三颜色的层同时形成。
7.根据权利要求4所述的曝光方法，其特征在于 上述彩色滤光片基板的上述显示区域具有互不相同的第一至第四颜色的着色像素， 上述第一层与上述显示区域内的第一颜色的着色像素同时形成， 上述第二层与上述显示区域内的第二颜色的着色像素及构成光间隔物的第二颜色的层同时形成， 上述第三及第四层与上述显示区域内的第三颜色的着色像素及构成光间隔物的第三颜色的层同时形成， 上述第五及第六层与上述显示区域内的第四颜色的着色像素及构成光间隔物的第四颜色的层同时形成。
8.根据权利要求5所述的曝光方法，其特征在于 上述彩色滤光片基板的上述显示区域具有互不相同的第一至第四颜色的着色像素， 上述第一层与上述显示区域内的第一颜色的着色像素同时形成， 上述第二层与上述显示区域内的第二颜色的着色像素及构成光间隔物的第二颜色的层同时形成， 上述第三层与上述显示区域内的第三颜色的着色像素及构成光间隔物的第三颜色的层同时形成， 上述第四层与上述显示区域内的第四颜色的着色像素及构成光间隔物的第四颜色的层同时形成。
9.一种彩色滤光片基板，具有矩形状的显示区域、一对第一非显示区域以及一对第二非显示区域，上述矩形状的显示区域具有在第一方向上延伸的一对边及在与上述第一方向正交的第二方向上延伸的一对边，上述一对第一非显示区域沿着上述第一方向的各边，上述一对第二非显示区域沿着上述第二方向的各边，该彩色滤光片基板具备 形成于上述显示区域内的第一至第四颜色的着色像素；形成于上述显示区域内的光间隔物； 第一伪光间隔物，该第一伪光间隔物由第一层及第三层构成，上述第一层设置于上述第一非显示区域内，并由与形成第一颜色的着色像素的材料相同的材料形成，上述第三层层积于上述第一层，并由与形成第三颜色的着色像素的材料相同的材料形成；以及 第二伪光间隔物，该第二伪光间隔物由第二层及第四层构成，上述第二层设置于上述第二非显示区域内，并由与形成第二颜色的着色像素的材料相同的材料形成，上述第四层层积于上述第二层，并由与形成第三颜色的着色像素的材料相同的材料形成。
10.一种彩色滤光片基板，该彩色滤光片基板具有矩形状的显示区域、一对第一非显示区域以及一对第二非显示区域，上述矩形状的显示区域具有在第一方向上延伸的一对边及在与上述第一方向正交的第二方向上延伸的一对边，上述一对第一非显示区域沿着上述第一方向的各边，上述一对第二非显示区域沿着上述第二方向的各边，该彩色滤光片基板具备: 形成于上述显示区域内的第一至第四颜色的着色像素； 形成于上述显示区域内的光间隔物； 第一伪光间隔物，该第一伪光间隔物由第一层、第三层及第五层构成，上述第一层设置于上述第一非显示区域内，并由与形成第一颜色的着色像素的材料相同的材料形成，上述第三层层积于上述第一层，并由与形成第三颜色的着色像素的材料相同的材料形成，上述第五层层积于上述第三层，并由与形成上述第四颜色的着色像素的材料相同的材料形成；以及 第二伪光间隔物，该第二伪光间隔物由第二层、第四层及第六层构成，上述第二层设置于上述第二非显示区域内，并由与形成第二颜色的着色像素的材料相同的材料形成，上述第四层层积于上述第二层，并由与形成第四颜色的着色像素的材料相同的材料形成，上述第六层层积于上述第四层，并由与形成上述第四颜色的着色像素的材料相同的材料形成。
11.一种彩色滤光片基板，该彩色滤光片基板具有矩形状的显示区域、一对第一非显示区域以及一对第二非显示区域，上述矩形状的显示区域具有在第一方向上延伸的一对边及在与上述第一方向正交的第二方向上延伸的一对边，上述一对第一非显示区域沿着上述第一方向的各边，上述一对第二非显示区域沿着上述第二方向的各边，该彩色滤光片基板具备: 形成于上述显示区域内的第一至第四颜色的着色像素； 形成于上述显示区域内的光间隔物； 第一伪光间隔物，该第一伪光间隔物由第一层及第三层构成，上述第一层设置于上述第一非显示区域内，并由与形成第一颜色的着色像素的材料相同的材料形成，上述第三层层积于上述第一层，并由与形成第三颜色的着色像素的材料相同的材料形成；以及 第二伪光间隔物，该第二伪光间隔物由第二层及第四层构成，上述第二层设置于上述第二非显示区域内，并由与形成第二颜色的着色像素的材料相同的材料形成，上述第四层层积于上述第二层，并由与形成第四颜色的着色像素的材料相同的材料形成。
全文摘要
本发明提供一种彩色滤光片基板的曝光方法，使用小型掩膜连续曝光方式，能够在位于彩色滤光片基板的显示区域四边的外侧的非显示区域形成伪PS。如图8(a)所示，一边在Y方向上搬运基板20，一边对基板20上的第一非显示区域51(右上斜影线所示的区域)的第一层81进行曝光，一边对显示区域的层91进行曝光。接着，使基板20旋转90度，如图8(b)所示，一边在X方向上搬运基板20，一边对第二非显示区域52(右上斜影线所示的区域)的第二层82进行曝光。并且，如图8(c)所示，通过对基板20进行一次近接(proximity)曝光，来对第一非显示区域51内的第一层81上的第三层83进行曝光，并对第二非显示区域52内的第二层82上的第四层84进行曝光，同时对显示区域40的层92进行曝光。
文档编号G02B5/22GK102713695SQ20118000634
公开日2012年10月3日 申请日期2011年1月11日 优先权日2010年1月18日
发明者吉泽武德, 安井亮辅, 松井浩平, 田中惠一 申请人:凸版印刷株式会社, 夏普株式会社