专利名称：正型感射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法
技术领域：
本发明涉及正型感射线性组合物、显示元件用层间绝缘膜及其形成方法。
背景技术：
在显示元件中，一般以将层状配置的配线之间绝缘为目的而设置有层间绝缘膜。作为层间绝缘膜的形成材料，广泛使用正型感射线性组合物，这是因为得到必要的图案形状的エ序数少，而且具有充分的平坦性是优选的。作为这样的显示元件,例如使用层间绝缘膜的TFT型液晶显示元件等的显示元件，是经过在层间绝缘膜上形成透明电极膜，再于其上形成液晶配向膜的エ序而制造。此时，层间绝缘膜由于在透明电极膜的形成エ序中暴露于高温条件下，故需有充分的耐热性。另外近年来，TFT型液晶显示元件正在进行大画面化、高亮度化、高精细化、高速响应化、薄型化等，配线图案的微细化也显著。除了透明性、折射率的提高，随之也希望提高抗蚀剂图案的微细化技术。在将抗蚀剂图案微细化时，在基于蚀刻气体的干蚀刻处理工序中，哪怕处理时间比最合适时间稍长，也容易发生抗蚀剂的削去或剥落。再者，由于具备显示元件的显示装置大型化，为了均匀处理被处理面的整个面，必须延长干蚀刻处理时间，或必须提高蚀刻气体的浓度，对如此严苛的干蚀刻条件，要求层间绝缘膜的耐干蚀刻性及表面硬度要提高。为实现上述高性能，有各种解决方案。例如，有提案使用能产生羧基的丙烯酸类聚合物、与具有和羧基反应的官能基的聚合物(參照日本特开2009-98673号公报)，或将在丙烯酸类树脂中加入有聚硅氧烷类材料的成分当作感射线性树脂组合物的成分的技术(參照日本特开2009-98661号公报、日本特开2009-116223号公报)。然而，即使这些技术中，也尚未得到下述感射线性树脂组合物，该组合物能形成除了高的耐干蚀刻性、还具有良好的耐热性、透明性、表面硬度、折射率的显示元件用层间绝缘膜，而且具有充分的射线敏感度。
背景技术：
文献专利文献专利文献I日本特开2009-98673号公报专利文献2日本特开2009-98661号公报专利文献3日本特开2009-116223号公报
发明内容
发明要解决的技术问题本发明是以上述情况为基础而完成的，其目的在于提供正型感射线性组合物、由该组合物所形成的显示元件用层间绝缘膜以及该层间绝缘膜的形成方法，该组合物能形成具有充分表面硬度、折射率、耐热性、透明性，以及高的耐干蚀刻性的显示元件用层间绝缘膜，而且具有充分的射线敏感度。解决问题的手段为了解决上述问题而完成的本发明是一种正型感射线性组合物，其含有[A]在同一或不同的聚合物分子中包含具有下述式(I)所示的基团的结构单元
(I)与含环氧基的结构单元(II)的聚合物(以下也称为[A]聚合物)，[B]硅氧烷聚合物，及[C]光酸产生体，
权利要求
1.一种正型感射线性组合物，其含有 [A]在同一或不同的聚合物分子中包含具有下述式(I)所示的基团的结构单元(I)与含环氧基的结构单元(II)的聚合物， [B]硅氧烷聚合物，及 [C]光酸产生体，
2.如权利要求I所述的正型感射线性组合物，其中[B]硅氧烷聚合物是下述式(2)所示的水解性硅烷化合物的水解缩合物，
3.如权利要求I所述的正型感射线性组合物，其中，[A]聚合物与[A]聚合物和[B]硅氧烧聚合物的合计量的质量比为5质量％以上95质量％以下。
4.如权利要求I所述的正型感射线性组合物，其用于形成显示元件用层间绝缘膜。
5.一种显示元件用层间绝缘膜的形成方法，其具有 (1)在基板上形成权利要求4记载的正型感射线性组合物的涂膜的エ序， (2)对上述涂膜的至少一部分照射射线的エ序， (3)将上述照射射线后的涂膜显影的エ序，及 (4)将经上述显影的涂膜加热的エ序。
6.一种显示元件用层间绝缘膜，其由权利要求4记载的正型感射线性组合物所形成。
全文摘要
本发明公开了一种正型感射线性组合物，含有[A]在同一或不同的聚合物分子中具有含下述式(1)所示的基团的结构单元(I)与含环氧基的结构单元(II)的聚合物、[B]硅氧烷聚合物及[C]光酸产生体。[B]硅氧烷聚合物优选为下述式(2)所示的水解性硅烷化合物的水解缩合物。[A]聚合物与[A]聚合物和[B]硅氧烷聚合物的合计量的质量比优选为5质量%以上95质量%以下。
文档编号G03F7/039GK102870047SQ201180021318
公开日2013年1月9日 申请日期2011年4月18日 优先权日2010年4月28日
发明者一户大吾 申请人:Jsr株式会社