处理装置的制作方法

专利名称：处理装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及对平板状构件执行规定处理的处理装置。
背景技术：
以往，在利用作为处理装置的加热处理装置来对玻璃基板等处理对象构件进行加热处理时，利用升降销机构的不动销(固定销)和可动销来支撑处理对象构件(例如，参照专利文献1、2)。在专利文献I所公开的升降销机构中，利用可动销和固定销来交替地支撑基板。另一方面，在专利文献2所公开的升降销机构中，可动销在上下方向和水平方向上移动。利用上升的可动销来支撑处理对象构件并使其在水平方向上移动，并且，使可动销下降以利用不动销来支撑处理对象构件。通过反复该动作，使可动销和不动销与处理对象构件相接触的位置时常发生变化，由此抑制因与销接触而引起的处理对象构件的温度不均。此外，作为公开了升降销机构的文献，具有专利文献3、4。另外，本申请人已提出了能够对处理对象构件均匀地执行加热处理等的构件处理装置。在该技术中，利用叉(fork)来使处理对象构件从待机位置开始前进至处理位置，并使叉相对移动至多根支撑线材的下方，由此利用并排配置的多根支撑线材来将处理对象构件支撑在处理位置上。在该状态下，利用叉移动机构来将位于多根支撑线材的下方的叉从处理位置开始后退至待机位置。在这样的状态下，对利用多根支撑线材支撑在处理位置上的对象构件利用板式加热器执行加热处理(专利文献5)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平10 — 76211号公报专利文献2 :日本特开2006 - 061755号公报专利文献3 :日本特开2009 - 94182号公报专利文献4 :国际公开W02008 / 029943的小册子专利文献5 :日本特开2010 — 149953号公报

发明内容
但是，在专利文献I 4的处理装置中，利用升降销机构的可动销和不动销来在多处以点状地将平板状的处理对象构件支撑为水平。因此，由于应力及传热以点状集中到可动销和不动销对处理对象构件的支撑位置上，因而难以对处理对象构件均匀地执行加热处理或减压干燥等规定处理。另外，在专利文献5的构件处理装置中，利用多根支撑线材来将处理对象构件支撑在处理位置上，因此与如专利文献I 4那样利用销支撑的情况相比，能够对处理对象构件均匀地执行加热处理或减压干燥等规定处理。但是，尽管如此，在由支撑线材支撑的部分和未支撑的部分之间，在执行加热处理及减压干燥等规定处理时产生不均匀。本发明是鉴于如上述问题而做出的，其目的在于，提供一种能够对处理对象构件均匀地执行加热处理或减压干燥等规定处理的处理装置。根据本发明，提供一种处理装置，该处理装置将平板状构件配置在处理位置上并对该平板状构件执行处理，该处理装置具有第一线材部及第二线材部，用于对所述平板状构件从下方侧进行支撑，并且在俯视下，所述平板状构件配置成横跨第一线材部及第二线材部；驱动部，使所述第一线材部相对于所述第二线材部在上下方向上相对移动，来使在上下方向上的所述第一线材部和所述第二线材部之间的位置关系反转；移位机构，使所述第一线材部相对于所述第二线材部在水平方向上相对移动；处理部，对支撑在所述第一线材部或所述第二线材部上的所述平板状构件实施处理。如上所述的本发明的处理装置具有驱动部，使第一线材部相对于第二线材部在上下方向上相对移动；移位机构，使第一线材部相对于第二线材部而在水平方向上相对移动。因此，例如，在使第一线材部支撑作为处理对象的平板状构件之后，通过使第一线材部相对移动到第二线材部的下方，能够使第二线材部支撑平板状构件。由此，防止利用支撑部来支撑平板状构件的同一部位。并且，在利用第二线材部来支撑平板状构件的期间，能够使第一线材部相对于第二线材部在水平方向上移动。此后，如果使第一线材部相对于第二线材部移动到上方，就能够利用第一线材部来支撑平板状构件。在利用第二线材部来支撑所述构件的工序的前后，利用第一线材部来支撑所述构件，但在利用第二线材部来支撑所述构件的工序的前后，利用第一线材部来支撑的部位变得不同。这样，也能够防止利用线材部来支撑平板状构件的同一部位。 此外，在以上的说明中，在利用第二线材部来支撑平板状构件的期间，使第一线材部相对于第二线材部在水平方向上移动，但并不限定于此，也可以在利用第一线材部来支撑平板状构件的期间，使第二线材部相对地在水平方向上移动。此外，在本发明中，在第一线材部由多根线材来构成的情况下，只要将至少一部分线材相对于构成第二线材部的线材在上下方向上进行驱动，由此切换构成第一线材部的线材的位置和构成第二线材部的线材的位置之间的在上下方向上的位置关系即可。另外，使所述第一线材部相对于所述第二线材部在上下方向上相对移动是指，可以使第一线材部在上下方向上移动，也可以使第二线材部在上下方向上移动，还可以使第一线材部及第二线材部这双方在上下方向上移动。此外，本发明的各种结构要素未必各自独立地存在，也可以以如下方式等构成,这些方式是指多个结构要素形成为一个构件的方式；一个结构要素由多个构件来形成的方式；某个结构要素是其他结构要素的一部分的方式；某个结构要素的一部分和其他结构要素的一部分重复的方式。并且，在以下的实施方式中，规定了前后左右上下方向，但这是为了便于简单地说明本发明的结构要素的相对关系而规定的，并不限定在实施本发明的情况下的制造时及使用时的方向。另外，前后左右上下方向不需完全以几何学的方式垂直，只要是相对的前后左右上下的方向即可，例如，各方向可以向任意方向倾斜。例如，在本发明中所提及的在上下方向上相对移动是指，作为移位的结果移动到在上下方向上不同的位置上，移位方向自身不需严格地沿着上下方向。发明效果根据本发明的处理装置，能够对作为处理对象的构件均匀地执行加热处理或减压干燥等规定处理。


通过下面叙述的优选的实施方式及附加的以下附图，来进一步明确说明上述目的及其他目的、特征及优点。图1是示出了本发明的实施方式的处理装置的内部构造的示意性立体图。图2是示出了处理装置的内部构造的示意性立体图。图3是示出了处理装置的内部构造的示意性俯视图。图4是示出了驱动部的构造的侧视图。图5是示出了处理装置的动作的示意性工序图。图6是示出了处理装置的动作的示意性工序图。
具体实施例方式下面，参照附图来说明本发明的第一实施方式。此外，在本实施方式中，如图示那样除了上下方向以外还规定前后左右方向来进行说明。但是，这是为了便于简单地说明结构要素的相对关系而规定的。因此，并不是对在制造及使用实施本发明的产品时的方向进行限定。此外，前后左右方向是沿水平方向的方向，前后方向与左右方向垂直。首先，说明本实施方式的处理装置100的概要。处理装置100是所谓预烘焙(pre back)装置。在处理装置100中，将平板状的处理对象构件GB配置到处理位置BP上来进行作为规定处理的加热处理，其中，平板状的处理对象构件GB是在液晶面板中使用的玻璃基板或印刷电路布线基板等基板。该处理装置100将平板状构件(处理对象构件GB)配置到处理位置BP (参照图5)上来执行处理。如图1及图2所示，该处理装置100具有第一线材部112及第二线材部122，在俯视下处理对象构件GB横跨第一线材部112及第二线材部122来配置，并且第一线材部112及第二线材部122从下方侧支撑处理对象构件GB ;驱动部(上下机构)113，使第一线材部112相对于第二线材部122在上下方向上相对移动；移位机构(移位机构部132、134)，使所述第一线材部112相对于所述第二线材部122在水平方向上相对移动；处理部130，对支撑在第一线材部112或第二线材部122上的处理对象构件GB实施处理。接着，详细说明本实施方式的处理装置100。第一线材部112具有多根(在本实施方式中是四根)第一线材112A。如图1、2所示，多根第一线材112A相互平行，并且在前后方向上延伸。各第一线材112A拉紧架设在对向配置的一对第一轴(上下处理轴)111的上端。对向配置的一对第一轴111分别设置在对向配置的一对支撑台117 (第一单元部)上。在各支撑台117上以从各支撑台117突出的方式设置有多个轴111。换言之，由多根第一线材112A、分别架设第一线材112A的多对第一轴111以及一对支撑台117来构成第一单元110。设置在各支撑台117上的多个轴111在左右方向上排列并平行配置。在本实施方式中，第一单元110在左右方向上隔开配置有多个。在处理装置100中，各第一线材112A彼此平行配置。第一线材112A例如具有200°C以上的耐热性，由将间位系芳纶纤维或聚酰亚胺纤维等人造纤维或金属芯线插入到氟类树脂管中而得到的线、或者将前述的人造纤维或金属芯线利用氟类树脂实施了涂层而得到的线等构成。因此，第一线材112A由与长度方向垂直的截面的面积足够小的线材构成，在物理性质上热容量也比处理对象构件GB足够小。此外，后述的构成第二线材部122的第二线材也可以由与第一线材112A同样材料的线来构成，另外，第二线材也可以由与第一线材112A不同的材料的线构成，例如由热容量比第一线材112A的热容量大的材料的线来构成。图4所示的驱动部113用于在上下方向上驱动第一线材部112。如图4所示，驱动部113具有与各第一轴111相连接的偏心凸轮115、用于驱动该偏心凸轮115的驱动轴114、用于对驱动轴114进行驱动的驱动马达116 (参照图1、2)。一根驱动轴114穿过在左右方向上排列的多个支撑台117，并且与一个驱动马达116相连接。另外，在支撑台117的内部收纳有多个偏心凸轮115，例如收纳有四个偏心凸轮115，在每个偏心凸轮115上固定有第一轴111。因此，第一轴111以在上下方向上自由移位的方式设置在支撑台117上。换言之，分别支撑多个第一单元110的多根第一线材112A的一个端部的多个第一轴111，分别经由偏心凸轮115固定在同一驱动轴114上。另外，分别支撑多个第一单元110的多根第一线材112A的另一端部的多个第一轴111，分别经由偏心凸轮115固定在另一个同一所述驱动轴114上。就驱动部113而言，在各第一单元110中，选择性地使多对第一轴111 一对一对地上升或下降。并且，如图3所示，在本实施方式中，处理对象构件GB划分为多个区域HS和区域DS。区域HS是在进行热处理后被利用的部分(处理对象区域)，区域DS是在进行热处理后不被利用的部分。区域HS在水平方向上、具体而言是在前后方向及左右方向上隔开规定间隔而配置，区域HS之间的部分成为区域DS。多根第一线材112A配置在支撑多个区域HS的位置上。构成第二线材部122的第二线材主要位于支撑区域DS的位置，但也可以配置在支撑区域HS的位置上。并且，本实施方式的处理装置100具有第二线材部122。在本实施方式中，第二线材部122由一根第二线材构成。而且，第二线材的端部固定在一对第二轴121上，架设在一对第二轴121之间。一对第二轴121分别设置在对向配置的支撑台127上。在各支撑台127上以从支撑台127突出的方式设置有一根第二轴121。第二轴121以在上下方向上自由移位的方式支撑在支撑台(第二单元部)127上。换言之，由第二线材、架设第二线材的一对第二轴121以及一对支撑台127来构成第二单元120。
在本实施方式中，第二单元120在与区域DS相对应的位置上在左右方向上隔开配置有多个。多个第二单元120的第二线材彼此平行配置。另外，在本实施方式中，在左右方向上交替配置第二单元120和第一单元110。而且，第一线材112A和第二线材彼此平行地配置。并且，处理装置100具有用于在上下方向上驱动第二线材的驱动部(未图示)。具体而言，具有螺线管(Solenoid)等驱动机构，该驱动机构用于对架设一根第二线材的对向配置的一对第二轴121进行上下驱动。由该螺线管等驱动机构和驱动部113，来构成使第一线材部112和第二线材部112在上下方向上相对移动的驱动部。并且，如图1及图2所示，本实施方式的处理装置100具有移位机构部132，该移位机构部132具有一个第一基座131，其搭载有多个第一单元110，并且能够在左右方向上自由滑动；马达(移动单元)132A，其使第一基座131在左右方向上移位。移位机构部132用于使第一线材部112相对于第二线材部122在水平方向(在本实施方式中，是左右方向)上移动。例如，移位机构部132具有脉冲马达132A ;进给丝杠132B，其通过脉冲马达132A来进行旋转；第一基座131，其通过进给丝杠132B的旋转来在左右方向上直线移动。第一基座131是俯视呈矩形形状的平板状构件，在该第一基座131上搭载有多个第一单元110。沿着第一基座131的对向的一对边来分离配置支撑台117。此外，第一基座131在未图示的导轨上移动。例如，可以在第一基座131上设置作为滚动体的轮或滚子，由此使第一基座131在导轨上滚动移动。另外，第一基座131也可以通过空气在悬浮在导轨上的状态下在导轨上移动。这样，能够抑制因使第一基座131移动引起的颗粒(particle)的产生。移位机构部132使第一线材部112在水平方向上移动,但第一线材部112主要在处理对象构件GB的下方的区域内移动。但是，在进行热处理时，也可以以使该第一线材部112从处理对象构件GB露出的方式在水平方向上移动第一线材部112。另外，本实施方式的处理装置100具有移位机构部134，移位机构部134具有一个第二基座133，其搭载有第二单元120，并且在左右方向上自由滑动；马达134A，其使第二基座133在左右方向上移位。移位机构部134用于使第二线材部122相对于第一线材部112在水平方向(在本实施方式中，是左右方向)上移动。例如，移位机构部134具有脉冲马达134A ;进给丝杠134B，其通过脉冲马达134A来进行旋转；第二基座133，其通过进给丝杠134B的旋转来在左右方向上直线移动。第二基座133是俯视呈矩形形状的平板状构件，在该第二基座133上搭载有多个第二单元120。沿着第二基座133的对向的一对边来分离配置支撑台127。此外，第二基座133在未图示的导轨上移动。例如，可以在第二基座133上设置作为滚动体的轮或滚子，由此使第二基座133在导轨上滚动移动。另外，第二基座133也可以通过空气在悬浮在导轨上的状态下在导轨上移动。这样，能够抑制因使第二基座133移动而引起的颗粒的产生。移位机构部134使第二线材部122在水平方向上移动，但第二线材部122在处理对象构件GB的下方的区域内移动。即，在进行热处理时，不会以使第二线材部122从处理对象构件GB露出的方式使第二线材部122在水平方向上移动。
并且，如图3及图5所示，本实施方式的处理装置100具有叉140，其利用形成为能够通过被拉紧架设的多个第一线材部112之间的间隙的形状的至少一对爪(claw)141来将处理对象构件GB支撑为大致水平；前后移动机构(未图示)，其使叉140在待机位置WP和处理位置BP之间前后移动。使叉140至少在处理位置BP上相对移动到多个第二线材部122的第二线材的上方和下方。更加具体地，如图5 (c)所示，驱动部通过使配置于叉140的下方的初始位置上的第二线材部122的第二线材上升，来从叉140上接收处理位置BP上的处理对象构件GB。但是，也可以通过使第二线材部122的第二线材预先上升，并且使搬入到上升后的第二线材的上方的叉140下降，来将处理对象构件GB支撑到第二线材部122的第二线材上(未图示)。另外，本实施方式的处理装置100还具有板式加热器130，该板式加热器130对利用多根第一线材112A来支撑在处理位置BP上的处理对象构件GB执行作为规定处理的加热处理。该板式加热器(构件处理机构)130形成为与处理对象构件GB同等的平板状(俯视呈矩形形状)，如图3所示，在该板式加热器130的前后方向的缘部，在左右方向上排列有五对第二单元120和四对第一单元110。上述的板式加热器130从下方对利用多根第一线材112A来支撑在处理位置BP上的处理对象构件GB进行加热处理至例如80 150°C。此外，板式加热器130设置在基座131的上部，但与基座131隔开。板式加热器130是固定的，不伴随基座131等的移动而移动。在如上述那样的结构中，本实施方式的处理装置100如前述那样将平板状的处理对象构件GB从后方的待机位置WP搬入到处理位置BP上，并对处理对象构件GB执行加热处理。参照图5及图6进行说明。图5是与左右方向垂直地观察图1的处理装置100时的图，图6是与前后方向垂直地观察图1的处理装置100时的图。更加详细地，就本实施方式的处理装置100而言，如图5 (a)所示，在初始状态下，第二线材部122以及构成第一线材部112的所有的第一线材112A处于下降的状态。而且，利用位于这些线材的上方的待机位置WP上的叉140来将处理对象构件GB大致支撑为水平。接着，如图5 (b)所示，该叉140通过叉移动机构来从待机位置WP前进至处理位置BP。此时，叉140位于第二线材部122以及构成第一线材部112的所有的第一线材112A的上方。接着，如图5 (C)、图6 (a)所示，所有的第二轴121上升，由此使在左右方向上排列的多个第二线材部122向上方一致地移动。由此，如图3所示，处理对象构件GB在区域DS的位置被第二线材部122的第二线材支撑(处理SI)。在这样的状态下，如图5 (C)所示，叉140从处理位置BP退避至待机位置WP。接着，如图5 (d)及图6 (b)所示，第二轴121下降，伴随于此，支撑处理对象构件GB的第二线材部122下降。另一方面，第一轴111上升，使第一线材112A上升，由此处理对象构件GB在区域HS的位置被第一线材112A支撑。在此，在各第一单元110中，对向的一对轴111上升，由此使一根第一线材112A上升。在各第一单元110中，其他的第一线材112A不上升。另外，在各第一单元110中，位于相同位置上的例如从右侧起第一个第一线材112A上升。另外，优选地，在将支撑在第二线材部122上的处理对象构件GB交给第一线材112A时，不使处理对象构件GB的高度位置发生变动。即，优选地，在使第一线材部112A上升至支撑处理对象构件GB的第二线材部112的高度之后，使第二线材部122下降。此外，在后面的工序中也同样，即，在第二线材部122及第一线材112A之间交接处理对象构件GB时，不使处理对象构件GB的高度位置发生变动。在这样的状态下利用板式加热器130来对处理对象构件GB进行加热处理。但是，在各第一单元110中，就支撑处理对象构件GB的区域HS的四根第一线材112A而言，一根一根地依次上升而其他三根处于下降的状态。不会利用一根第一线材112A来持续支撑处理对象构件GB。若更加详细地说明，则如图6(b)、(c)所示，在各第一单元110中，利用多根第一线材112A中的第一根第一线材112A来支撑处理对象构件GB。接着，使架设有未支撑处理对象构件GB的第二根第一线材112A的一对第一轴111上升，由此利用上升的第一线材112A来支撑处理对象构件GB。另一方面，支撑处理对象构件GB的第一根第一线材112A下降，从而成为未支撑处理对象构件GB的状态。接着，使架设有未支撑处理对象构件GB的第三根第一线材112A的一对第一轴111上升，由此利用上升的第一线材112A来支撑处理对象构件GB。另一方面，支撑处理对象构件GB的第二根第一线材112A下降，从而成为未支撑处理对象构件GB的状态。接着，使架设有未支撑处理对象构件GB的第四根第一线材112A的一对第一轴111上升，由此利用上升的第一线材112A来支撑处理对象构件GB。另一方面，支撑处理对象构件GB的第三根第一线材112A下降，从而成为未支撑处理对象构件GB的状态(处理S2)。这样,使多根第一线材112A依次一根一根地上升,并且一根一根地下降。此外，在各第一单元110中，使位于相同位置上的第一线材112A同步地上升或下降。另外，优选地，在将支撑在一根第一线材112A上的处理对象构件GB交给其他的第一线材112A时，不使处理对象构件GB的高度位置发生变动。即，优选地，在使其他的第一线材112A上升至支撑处理对象构件GB的一根第一线材112A的高度之后，使一根第一线材112A下降。在此，在利用第一线材部112来支撑处理对象构件GB的期间，第二线材部122处于下降的状态。而且，在未利用第二线材部122来支撑处理对象构件GB的状态下，如图6(c)所示，利用移位机构部134来使全部的第二线材部122在左右方向上滑动移动。在本实施方式的处理装置100中，定期地使第二线材部122上升来支撑处理对象构件GB，但在通过使第二线材部122上升来支撑处理对象构件GB时，在与前一次(滑动之前)不同的位置上支撑处理对象构件GB (参照图6 (d))。接着，在各第一单元110中，在利用第一根第一线材112A到第四根第一线材112A依次支撑了处理对象构件GB之后，第二线材部122上升(处理S3)。其后，使第四根第一线材112A下降。由此，利用第二线材部122来支撑处理对象构件GB。此后，如图6(d)所示，利用移位机构部132来使全部的第一线材部112在左右方向上滑动移动。接着，如图6(e)所示，通过使第一根第一线材112A上升，并且使第二线材部122下降，来利用第一根第一线材112A来在与滑动之前不同的位置上支撑处理对象构件GB。但是，第一线材112A在处理对象构件GB的区域HS内支撑处理对象构件GB。而且，与处理S2同样地，通过使多根第一线材112A依次一根一根地上升,并且一根一根地下降，来在第一线材112A之间交接处理对象构件GB (处理S4)。在成为使第二线材部122下降而第二线材部122不支撑处理对象构件GB的状态后，如图6 (f)所示，利用移位机构部134来使全部的第二线材部122在左右方向上滑动移动(处理S5)。接着，在通过使第二线材部122上升来支撑处理对象构件GB时，在与前一次(滑动之前)不同的位置上支撑处理对象构件GB。此后，反复执行处理SI 处理S5的工序。其中，还存在第二线材部122通过滑动来在处理对象构件GB的区域HS内支撑处理对象构件GB的情况。在如上述那样对处理对象构件GB的加热处理结束时，通过反过来执行前述的图5Ca) (d)的动作，来将进行了加热处理的处理对象构件GB搬出到待机位置WP上。接着，说明本实施方式的效果。在本实施方式中，在利用第一线材112A来支撑了处理对象构件GB之后，使第一线材112A下降，并且使第二线材部122上升。其后，使基座131滑动。接着，通过使第二线材部122下降，并且使第一线材112A上升，能够使在利用第二线材部112支撑处理对象构件GB的工序的前后的第一线材112A的位置错开。由此，能够防止利用第一线材112A来支撑处理对象构件GB的相同的位置的情况，从而能够对处理对象构件GB均匀地执行加热处理。并且，在利用第一线材112A来支撑处理对象构件GB的期间，通过使基座133滑动，能够使第二线材部122的在左右方向上的位置移位，由此也能够对处理对象构件GB均匀地执行加热处理。在本实施方式的处理装置100中，如上所述,使多根第一线材112A —根一根地依次上升，并且依次下降。由此，防止利用一根第一线材112A来持续支撑处理对象构件GB的情况。因此,能够对处理对象构件GB均匀地执行加热处理。并且，在第一线材112A之间交接处理对象构件GB，因而支撑处理对象构件GB时的应力不会集中到局部。因此，处理对象构件GB在不会因应力集中产生变形等的情况下被执行加热处理。在各第一单元中只有一根第一线材的情况下，在考虑对处理对象构件GB的应力负担等时，需要在第一线材部和第二线材部之间频繁地交接处理对象构件GB。相对于此,在本实施方式中，通过在各第一单兀110上设置有多根第一线材112A,并能够在第一线材112A之间交接处理对象构件GB，因而不需在第一线材部112和第二线材部122之间频繁地交接处理对象构件GB。另外，在各第一单元中只有一根第一线材的情况下，为了防止在相同的位置支撑处理对象构件GB，需要使第一线材部及第二线材部频繁地滑动，会导致处理装置的操作性变差。相对于此,在本实施方式中，通过在各第一单兀110上设置有多根第一线材112A,在第一线材112A之间交接处理对象构件GB的期间，能够在充裕的时间内使第二线材部122在左右方向上滑动，从而不需使第一线材部112及第二线材部122频繁地滑动，因而能够实现操作性优良的装置。并且，能够利用第二线材部122在热处理之后不被利用的区域DS支撑搬入到处理位置BP上的处理对象构件GB，因而能够使第二线材部122的支撑对在热处理后被利用的区域HS的影响停留在最小限度。而且，如前述那样第一线材112A的截面面积和热容量足够小，因而降低了热传导。因此，能够抑制利用板式加热器130来进行加热处理的处理对象构件GB的温度分布的偏差，从而能够对处理对象构件GB均匀地执行加热处理。并且，在本实施方式的处理装置100中，利用一个驱动马达116来在多个第一单元110使四根第一轴111同样地进行上下移动，因而其构造简单并且第一线材112A的上下移动的同步性可靠。另外，在本实施方式中，使第一线材部112、第二线材部122中的未支撑处理对象构件GB的线材部在水平方向上移动。因此，能够防止与线材部的水平方向的移动相伴地会使处理对象构件GB移动的情况，从而能够使处理对象构件GB在加热处理中停留在相同的位置上。除此之外，在第一线材部112和第二线材部122之间交接处理对象构件GB时以及在第一线材112A之间交接处理对象构件GB时，处理对象构件GB的高度位置不发生变动。因此，能够防止因使处理对象构件GB移动而在周围产生对流，导致使处理对象构件GB的温度分布发生变化的情况，从而能够高效地对处理对象构件GB进行加热处理。并且，在本实施方式中，在左右方向上交替配置第一单元110和第二单元120。由此，能够稳定地支撑处理对象构件GB。另外，在本实施方式中，将第一单元110搭载在第一基座131上，将第二单元120搭载在第二基座133上。而且，通过使第一基座131和第二基座133直线移动，来调整第一线材部112、第二线材部122的在水平方向上的位置。能够通过仅使基座131、133滑动来调整第一线材部112、第二线材部122的在水平方向上的位置，因而第一线材部112及第二线材部122的位置调整容易。另外，通过仅使基座131、133在水平方向上移动，能够调整第一线材部112、第二线材部122的在水平方向上的位置，还能够适宜简单地设定其滑动量。此外，本发明并不限定于本实施方式，在不脱离其宗旨的范围内容许各种变形。在上述方式中，例示了在热处理中不使处理对象构件GB在水平方向上滑动移动的例子，但也可以使该处理对象构件GB滑动移动。例如，可以在利用第一线材112A来支撑处理对象构件GB的状态下使基座131在水平方向上移动。另外，在上述方式中，如图3所示，由于对以2 X 4划分出处理对象区域HS的处理对象构件GB进行加热处理，因而例示了排列了五个第二单元120和四个第一单元110的例子。但是，显然，能够对这些单元与处理对象构件GB的划分相对应地实现各种布局。并且，以与多个类型的处理对象构件GB的划分相对应的方式，排列多个第二单元120和多个第一单元110，并且，通过使这些多个第二单元120和多个第一单元110选择性地进行动作，能够对应于多种处理对象构件GB (未图示)。并且，使多个第二单元120和多个第一单元110在左右方向上自由移动地排列这些多个第二单元120和多个第一单元110，通过变更这些多个第二单元120和多个第一单元110的位置，能够对应于多种处理对象构件GB (未图示)。此外，在上述方式中，例示了通过使第一线材112A的截面面积和热容量足够小来降低热传导，以抑制利用板式加热器130来进行加热处理的处理对象构件GB的温度分布的偏差的例子。显然，能够将容许的处理对象构件GB的温度分布的偏差以及用于支撑处理对象构件GB的强度及耐久性等作为条件，适宜地决定第一线材112A的截面面积及热容量。并且,在上述方式中，如图4所示,例示了驱动部113包括被共通的驱动轴114支撑的偏心凸轮115的例子，但也能够利用曲柄机构来形成驱动部。另外，在上述方式中，例示了处理装置100利用板式加热器130来对处理对象构件GB从下方执行加热处理的例子。但是，也能够实现利用板式加热器130来对处理对象构件GB从上方执行加热处理的处理装置，或者利用一对板式加热器130来对处理对象构件GB从上方和下方这双方进行加热处理的处理装置等(均未图示)。并且，在上述方式中，例示了将利用板式加热器130来对处理对象构件GB执行加热处理的预烘焙装置作为处理装置100的例子。但是，也能够将对处理对象构件GB进行减压干燥的减压干燥装置作为处理装置(未图示)。例如，将所述实施方式的处理装置100配置在与真空泵等减压单元相连接的腔室内，由此构成减压干燥装置。并且，在所述实施方式中，通过使基座131、133在水平方向上移动，使第一线材部112、第二线材部122在水平方向上移动，但并不限定于此。例如，也可以使用基座131来使第一线材部112相对于第二线材部122在水平方向上移动,而不设置基座133。另外，在所述实施方式中，第一线材部112由多根第一线材112A来构成，但并不限定于此，也可以由一根第一线材112A来构成。这样，能够实现装置的简单化。并且，第一线材112A是四根，但并不限定于此。在第一线材112A为多根的情况下，例如可以是五根，另外也可以是三根。并且，在所述实施方式中，使构成第一线材部112的多根第一线材112A依次上升及下降，但并不限定于此，也可以固定一部分第一线材112A并在上下方向上驱动另一部分第一线材112A。例如，利用一部分第一线材112A来支撑处理对象构件GB之后，以使另一部分第一线材112A位于一部分第一线材112A的上方的方式进行驱动，由此利用另一部分第一线材112A来支撑处理对象构件GB。此后，向下方驱动另一部分第一线材112A来将处理对象构件GB交接给一部分第一线材112A。并且，在所述实施方式中，在上下方向上驱动第一线材部112及第二线材部122这双方，但并不限定于此，也可以在上下方向上仅驱动某一个线材部。此外，显然，能够对上述实施方式及多个变形例，在其内容不相反的范围内进行组合。另外，在上述实施方式及变形例中，具体地说明了各部的构造等，但能够对其构造等在满足本申请的范围内实施各种变更。该申请基于2010年9月14日申请的日本专利申请特愿2010 — 205527、日本专利申请特愿2010 - 205528主张优先权，并将其所有的公开内容引入与此。
权利要求
1.一种处理装置，将平板状构件配置在处理位置上并对该平板状构件执行处理，其特征在于，具有 第一线材部及第二线材部，用于对所述平板状构件从下方侧进行支撑，并且在俯视下，所述平板状构件配置成横跨所述第一线材部及所述第二线材部； 驱动部，使所述第一线材部相对于所述第二线材部在上下方向上相对移动，并使在上下方向上的所述第一线材部和所述第二线材部之间的位置关系反转； 移位机构，使所述第一线材部相对于所述第二线材部在水平方向上相对移动； 处理部，对支撑在所述第一线材部或所述第二线材部上的所述平板状构件实施处理。
2.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于， 所述移位机构不使所述第一线材部及所述第二线材部中的支撑所述平板状构件的一个线材部在水平方向上移动，而使所述第一线材部及所述第二线材部中的未支撑所述平板状构件的另一个所述线材部在水平方向上移动。
3.如权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于， 在利用所述第一线材部来支撑所述平板状构件之后，利用所述驱动部来使所述第二线材部相对移动到所述第一线材部的上方，由此利用所述第二线材部来支撑所述平板状构件； 在利用所述移位机构来使所述第一线材部在水平方向上移动之后，利用所述驱动部来使所述第一线材部相对移动到所述第二线材部的上方，由此利用所述第一线材部来支撑所述平板状构件。
4.如权利要求3所述的处理装置，其特征在于， 所述第一线材部具有在俯视下平行配置的多根第一线材； 所述驱动部驱动多根第一线材中的一部分第一线材，使所述一部分第一线材相对于另一部分第一线材向下方及上方移动。
5.如权利要求4所述的处理装置，其特征在于， 该处理装置具有多个第一单元，该第一单元具有第一线材部和多对第一轴，所述第一线材部具有多根第一线材，所述多对第一轴分别架设所述第一线材； 多个第一单元以使不同的所述第一单元中的第一线材彼此相互平行的方式分离配置； 所述驱动部驱动各所述第一单元的多对所述第一轴中的至少一对第一轴，使所述至少一对第一轴相对于其他各对第一轴向下方及上方移动。
6.如权利要求5所述的处理装置，其特征在于， 分别支撑所述多个第一单元的多根第一线材的一个端部的多个第一轴，分别经由偏心凸轮固定在同一驱动轴上； 分别支撑所述多个第一单元的多根第一线材的另一端部的多个第一轴，分别经由偏心凸轮固定在另一个同一驱动轴上； 所述驱动部具有所述偏心凸轮和所述驱动轴。
7.如权利要求5或6所述的处理装置，其特征在于， 该处理装置具有第二单元，该第二单元具有第二线材部和至少一对第二轴，所述第二线材部具有至少一根第二线材，所述至少一对第二轴架设所述第二线材；所述第一单元和所述第二单元交替配置； 在俯视下所述第一线材和所述第二线材彼此平行配置。
8.如权利要求1至7中任一项所述的处理装置，其特征在于， 所述移位机构具有 搭载有所述第一线材部的基座； 搭载有所述第二线材部的基座； 使搭载有所述第一线材部的基座和搭载有所述第二线材部的基座相对地在水平方向上移动的移动单元。
9.如权利要求1至8中任一项所述的处理装置，其特征在于， 所述平板状构件是基板。
10.如权利要求1至9中任一项所述的处理装置，其特征在于， 所述处理部是对所述平板状构件进行加热的加热部。
11.如权利要求1至9中任一项所述的处理装置，其特征在于， 所述处理部是进行减压干燥的减压干燥器。
12.一种处理装置，将平板状的处理对象构件配置在处理位置上并对该处理对象构件执行规定处理，其特征在于，具有 多个第一单兀部，以在前后方向上成对的方式在左右方向上排列有多对； 第一轴，支撑在多个所述第一单元部中的每个所述第一单元部上，并且能够在上下方向自由移位； 多根第一线材，分别拉紧架设于在前后方向上成对的每一对所述第一轴的上端； 上下机构，通过使所述第一轴相对上升来利用所述第一线材将所述处理对象构件支撑在所述处理位置； 一个基座，搭载有多个所述第一单元部，并且能够在左右方向上自由滑动； 处理移位机构，使所述基座在左右方向上移位。
13.如权利要求12所述的处理装置，其特征在于， 所述处理对象构件至少在左右方向上被划分为多个处理对象区域； 多根所述第一线材配置在支撑多个所述处理对象区域的位置。
14.如权利要求12或13所述的处理装置，其特征在于， 多个所述第一单元部各自在左右方向上排列有多个所述第一轴； 该处理装置还具有上下机构，该上下机构使多个所述第一单元部的在左右方向上位于相同位置上的所述第一轴选择性地相对上升，以利用所述第一线材来将所述处理对象构件支撑在所述处理位置上。
15.如权利要求12至14中任一项所述的处理装置，其特征在于， 多个所述第一单元部被支撑为各自能够在左右方向自由移动。
16.如权利要求12至15中任一项所述的处理装置，其特征在于， 所述处理对象构件在左右方向上被划分为多个所述处理对象区域； 该处理装置还具有 多个第二单元部，位于与所述处理对象区域之间的区域相对应的位置上，并且以在前后方向上成对的方式在左右方向上排列有多对；第二轴，支撑在多个所述第二单元部中的每个所述第二单元部上，并且能够在上下方向上自由移位； 多根第二线材，分别拉紧架设于在前后方向上成对的每一对所述第二轴的上端；第二上下机构，通过使所述第二轴相对上升来由所述第二线材将所搬入的所述处理对象构件支撑在所述处理位置。
17.如权利要求16所述的构件处理装置，其特征在于， 该处理装置还具有 一个第二基座，搭载有多个所述第二单元部，并且能够在左右方向自由滑动； 移位机构，使所述第二基座在左右方向上移位。
18.如权利要求16或17所述的处理装置，其特征在于， 多个所述第二单元部被支撑为各自能够在左右方向上自由移动。
19.如权利要求16至18中任一项所述的处理装置，其特征在于， 该处理装置还具有 叉，利用形成为能够通过被拉紧架设的多根所述第二线材之间的间隙的形状的至少一对爪来将所述处理对象构件支撑为大致水平， 前后移动机构，使所述叉在待机位置和所述处理位置之间前后移动； 所述第二上下机构能够使所述叉至少在所述处理位置相对于移动到多根所述第二线材的上方和下方。
20.如权利要求12至19中任一项所述的处理装置，其特征在于， 该处理装置还具有构件处理机构，该构件处理机构对由多根所述第一线材支撑在所述处理位置上的所述处理对象构件执行所述规定处理。
21.如权利要求20所述的处理装置，其特征在于， 所述构件处理机构对由多根所述第一线材支撑在所述处理位置上的所述处理对象构件进行加热处理。
22.如权利要求20所述的处理装置，其特征在于， 所述构件处理机构对由多根所述第一线材支撑在所述处理位置上的所述处理对象构件进行减压干燥。
23.一种处理装置，将平板状的处理对象构件配置在处理位置上并对该处理对象构件执行规定处理，其特征在于， 多个第二单元部，以在前后方向上成对的方式在左右方向上排列有多对； 第二轴，支撑在多个所述第二单元部中的每个所述第二单元部上，并且能够在上下方向上自由移位； 多根第二线材，分别拉紧架设于在前后方向上成对的每一对所述第二轴的上端；第二上下机构，通过使所述第二轴相对上升来使所述第二线材支撑所搬入的所述处理对象构件。
24.如权利要求23所述的处理装置，其特征在于， 所述处理对象构件在左右方向上被划分为多个处理对象区域； 多个所述第二单元部位于与所述处理对象区域之间的区域相对应的位置上，并且以在前后方向上成对的方式在左右方向上排列有多对；第二上下机构使所述第二线材在所述处理对象区域之间的区域支撑所述处理对象构件。
25.如权利要求23或24所述的处理装置，其特征在于， 该处理装置还具有 叉，其利用形成为能够通过被拉紧架设的多根所述第二线材之间的间隙的形状的至少一对爪来将所述处理对象构件支撑为大致水平， 前后移动机构，使所述叉在待机位置和所述处理位置之间前后移动； 所述第二上下机构，能够使所述叉至少在所述处理位置上相对移动到多根所述第二线材的上方和下方。
26.如权利要求23至25中任一项所述的处理装置，其特征在于， 该处理装置还具有 一个第二基座，搭载有多个所述第二单元部，并且能够在左右方向上自由滑动； 第二移位机构，使所述第二基座在左右方向上移位。
27.如权利要求23至26中任一项所述的处理装置，其特征在于， 多个所述第二单元部被支撑为各自能够在左右方向上自由移动。
28.如权利要求23至27中任一项所述的处理装置，其特征在于， 具有 多个第一单兀部，以在前后方向上成对的方式在左右方向上排列有多对； 多个第一轴，在左右方向上排列在多个所述第一单元部中的每个所述第一单元部上，并且各自被支撑为能够在上下方向上自由移位； 多根第一线材，分别拉紧架设于在前后方向上成对的每一对所述第一轴的上端；第一上下机构，通过使多个所述第一单元部的在左右方向上位于相同位置上的所述第一轴选择性地相对上升，来利用所述第一线材将所述处理对象构件支撑在所述对象处理位置上。
29.如权利要求28所述的处理装置，其特征在于， 所述处理对象构件在左右方向上被划分为多个处理对象区域； 多根所述第一线材配置在支撑多个所述处理对象区域的位置。
30.如权利要求28或29所述的处理装置，其特征在于， 该处理装置还具有 一个第一基座，搭载有多个所述第一单元部，并且能够在左右方向上自由滑动； 第一移位机构，使所述第一基座在左右方向上移位。
31.如权利要求28至30中任一项所述的处理装置，其特征在于， 多个所述第一单元被支撑为各自能够在左右方向上自由移动。
32.如权利要求23至31中任一项所述的处理装置，其特征在于， 该处理装置还具有构件处理机构，该构件处理机构对由多根所述第一线材来支撑在所述处理位置上的所述处理对象构件执行所述规定处理。
33.如权利要求32所述的处理装置，其特征在于， 所述构件处理机构对由多根所述第一线材支撑在所述处理位置上的所述处理对象构件进行加热处理。
34.如权利要求32所述的处理装置，其特征在于， 所述部处理机构对由多根所述第一线材支撑在所述处理位置上的所述处理对象构件进行减压干燥。
全文摘要
处理装置(100)具有第一线材部(112)及第二线材部(122)，在俯视下处理对象构件(GB)横跨第一线材部(112)及第二线材部(122)来配置，并且第一线材部(112)及第二线材部(122)从下方侧支撑处理对象构件(GB)；驱动部(上下机构)(113)，使第一线材部(112)相对于第二线材部(122)在上下方向上相对移动；移位机构(移位机构部(132)、(134))，使第一线材部(112)相对于第二线材部(122)在水平方向上相对移动。
文档编号G02F1/1333GK103052577SQ20118003794
公开日2013年4月17日 申请日期2011年9月8日 优先权日2010年9月14日
发明者三田一登 申请人:古河机械金属株式会社