专利名称：表面处理图纹退镀工艺(ppvd)的制作方法
技术领域：
本发明涉及塑胶外壳，玻璃，陶瓷等表面处理，尤其涉及电子产品塑胶外壳的表面处理图纹退镀工艺(PPVD)。
背景技术：
表面处理在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法。表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。对于金属铸件，我们比较常用的表面处理方法是，机械打磨，化学处理，表面热处理，喷涂表面，表面处理就是对工件表面进行清洁、清扫、去毛刺、去油污、去氧化皮等。目前，相近的塑胶表面处理技术有I).电镀。(缺点效果单一，无法呈现图案)2).儀雕。(缺点图案粗糖，不精细)3).丝印,移印(缺点图案无金属质感,无镜面效果)。
发明内容
本发明的目的是为了克服背景技术的不足，而提供一种塑胶外壳的表面处理同时达到电镀的金属质感和镜面效果，及镭雕所达不到的精度和流畅图案效果的表面处理图纹退镀工艺(PPVD)。为了实现上述目的，本发明采用的技术方案是表面处理图纹退镀工艺(PPVD)，包括以下步骤I)在素材表面涂布UV底漆或超声波清洗素材，并对素材表面进行电镀；2)喷涂或丝印感光油墨；3)将菲林放置喷涂或感光油墨的素材表面，定位，并进行真空曝光；4)将素材置于碱性溶剂浸泡显影；5)用清水清洗浸泡显影后的素材并进行酸性溶剂浸泡蚀刻；6)用清水清洗蚀刻后的素材并进行碱性溶剂退膜；7)纯水清洗，烤箱烘烤，烘烤时间10-30分钟，至水考干为止；8)再依次涂布UV中漆PU中漆，UV面漆或橡胶漆，得出成品。优选地，所述素材为塑胶外壳或者是玻璃或者是陶瓷；所述涂布底漆时膜厚18-20um，温度45至60度，烘烤时间3_5分钟，UV能量700-800焦耳。优选地，所述电镀可以是蒸发镀或者是溅射镀或者是光学镀；所述蒸发镀是将鍍材，铟，锡，铝等置于真空室内的蒸发源中，在高真空条件下，通过蒸发源加热使其蒸发，凝结于塑胶表面上，形成金属膜；所述溅射镀是靶材在高真空条件下，通过辉光放电冲撞靶材表面，使靶材表面粒子溅射，沉积于素材上形成金属膜；所述光学镀是将真空舱内放置离子枪轰击素材表面，进行减反射膜的镀膜。优选地，所述喷涂或丝印感光油墨时膜厚5-10um，温度60_70度，烘烤时间10_20分钟。优选地，所述碱性溶剂显影时浸泡时间30-40秒，鼓泡5-10秒。优选地，所述酸性溶剂蚀刻时浸泡30秒-40秒。优选地，所述涂布UV中漆时中漆膜厚10-20um，温度55至65度，烘烤时间3_5分钟，UV能量700-900焦耳；所述涂布I3U中漆时中漆膜厚10-20um，温度60-80度，烘烤时间20-30分钟。优选地，所述涂布UV面漆时面漆膜厚10-15um，温度45至65度，烘烤时间3_5分钟，UV能量800-1200焦耳；所述涂布橡胶漆时漆膜厚40-50um，温度70-80度，烘烤时间30分钟。
本发明的有益效果是可以在镀层表面实现精美的图案效果，图案通过菲林真空曝光实现，精确度可以达到纳米级，塑胶外壳的表面处理同时达到电镀的金属质感和镜面效果，及镭雕所达不到的精度和流畅图案效果。
具体实施例方式下列实施例仅用来阐明本发明，毫无限制本发明保护范围之意。实施例I :素材表面Uv底漆(底漆膜厚18-20um，温度45至60度，烘烤时间3_5分钟，uv能量700-800焦耳)-蒸发镀(将镀材，铟，锡，铝等置于真空室内的蒸发源中，在高真空条件下，通过蒸发源加热使其蒸发，凝结于塑胶表面上，形成金属膜)-感光油墨(膜厚5-lOum，温度60-70，烘烤时间20分钟)-菲林曝光(菲林放置产品表面，定位，真空曝光)-碱性溶剂显影(浸泡时间30-40秒，鼓泡10秒)-清水清洗-酸性溶剂蚀刻(浸泡30秒-40秒)-清水清洗-碱性溶剂退膜-纯水清洗-烤箱烘烤(烘烤时间30分钟，水考干为止)-uv中漆(中漆膜厚10-20um，温度55至65度，烘烤时间3-5分钟，uv能量700-900焦耳)或I3U中漆(中漆膜厚10-20um，温度60-80度，烘烤时间20-30分钟)-uv面漆(面漆膜厚10-15um，温度45至65度，烘烤时间3-5分钟，uv能量800-1200焦耳)或橡胶漆(膜厚40_50um，温度70-80度，烘烤时间30分钟)。实施例2 素材表面uv底漆(底漆膜厚18-20um，温度45至60度，烘烤时间3_5分钟，uv能量700-800焦耳)或超声波清洗素材-溅射镀(靶材在高真空条件下，通过辉光放电冲撞靶材表面，使靶材表面粒子溅射，沉积于素材上形成金属膜)-感光油墨(膜厚5-10um，温度60-70，烘烤时间20分钟)_菲林曝光(菲林放置产品表面，定位，真空曝光)_碱性溶剂显影(浸泡时间30-40秒，鼓泡10秒)-清水清洗-酸性溶剂蚀刻(浸泡30秒-40秒)-清水清洗-碱性溶剂退膜-纯水清洗-烤箱烘烤(烘烤时间30分钟，水考干为止)-uv中漆(中漆膜厚10-20um，温度55至65度，烘烤时间3-5分钟，uv能量700-900焦耳)或I3U中漆(中漆膜厚10-20um，温度60-80度，烘烤时间20-30分钟)-uv面漆(面漆膜厚10_15um，温度45至65度，烘烤时间3-5分钟，uv能量800-1200焦耳)或橡胶漆(膜厚40_50um，温度70-80度，烘烤时间30分钟)。实施例3 超声波清洗素材-光学镀(将真空舱内放置离子枪轰击素材表面，进行减反射膜的镀膜)_感光油墨(膜厚5-10um，温度60-70，烘烤时间20分钟)-菲林曝光(菲林放置产品表面，定位，真空曝光)-碱性 溶剂显影(浸泡时间30-40秒，鼓泡10秒)-清水清洗-酸性溶剂蚀刻(浸泡30秒-40秒)-清水清洗-碱性溶剂退膜-纯水清洗-烤箱烘烤(烘烤时间30分钟，水考干为止)-uv中漆(中漆膜厚10-20um，温度55至65度，烘烤时间3_5分钟，uv能量700-900焦耳)或PU中漆(中漆膜厚10-20um，温度60-80度，烘烤时间20-30分钟)-uv面漆(面漆膜厚10-15um，温度45至65度，烘烤时间3_5分钟，uv能量800-1200焦耳)或橡胶漆(膜厚40-50um，温度70-80度，烘烤时间30分钟)。
权利要求
1.表面处理图纹退镀工艺(PPVD)，其特征在于，包括以下步骤 1)在素材表面涂布UV底漆或超声波清洗素材，并对素材表面进行电镀； 2)喷涂或丝印感光油墨； 3)将菲林放置喷涂或感光油墨的素材表面，定位，并进行真空曝光； 4)将素材置于碱性溶剂浸泡显影； 5)用清水清洗浸泡显影后的素材并进行酸性溶剂浸泡蚀刻； 6)用清水清洗蚀刻后的素材并进行碱性溶剂退膜； 7)纯水清洗,烤箱烘烤,烘烤时间10-30分钟,至水考干为止； 8)再依次涂布UV中漆PU中漆，UV面漆或橡胶漆，得出成品。
2.根据权利要求I所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD)，其特征在于， 所述素材为塑胶外壳或者是玻璃或者是陶瓷；所述涂布底漆时膜厚18-20um，温度45至60度，烘烤时间3-5分钟，UV能量700-800焦耳。
3.根据权利要求I所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD)，其特征在于， 所述电镀可以是蒸发镀或者是溅射镀或者是光学镀；所述蒸发镀是将镀材，铟，锡，铝等置于真空室内的蒸发源中，在高真空条件下，通过蒸发源加热使其蒸发，凝结于塑胶表面上，形成金属膜；所述溅射镀是靶材在高真空条件下，通过辉光放电冲撞靶材表面，使靶材表面粒子溅射，沉积于素材上形成金属膜；所述光学镀是将真空舱内放置离子枪轰击素材表面，进行减反射膜的镀膜。
4.根据权利要求I所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD)，其特征在于， 所述喷涂或丝印感光油墨时膜厚5-10um，温度60-70度，烘烤时间10-20分钟。
5.根据权利要求I所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD)，其特征在于， 所述碱性溶剂显影时浸泡时间30-40秒，鼓泡5-10秒。
6.根据权利要求I所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD)，其特征在于， 所述酸性溶剂蚀刻时浸泡30秒-40秒。
7.根据权利要求I所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD)，其特征在于， 所述涂布UV中漆时中漆膜厚10-20um，温度55至65度，烘烤时间3_5分钟，UV能量700-900焦耳；所述涂布I3U中漆时中漆膜厚10-20um，温度60-80度，烘烤时间20-30分钟。
8.根据权利要求I所述的表面处理图纹退镀工艺(PPVD)，其特征在于， 所述涂布UV面漆时面漆膜厚10-15um，温度45至65度，烘烤时间3_5分钟，UV能量800-1200焦耳；所述涂布橡胶漆时漆膜厚40-50um，温度70-80度，烘烤时间30分钟。
全文摘要
本发明公开了表面处理图纹退镀工艺(PPVD)，在塑胶外壳，玻璃，陶瓷等表面电镀后，喷涂或丝印感光油墨，通过菲林曝光，碱性溶剂显影，酸性溶剂蚀刻，碱性溶剂退膜，纯水清洗后形成表面金属质感，镜面效果的高度精密的图案。本发明可以在镀层表面实现精美的图案效果，图案通过菲林真空曝光实现，精确度可以达到纳米级，塑胶外壳的表面处理同时达到电镀的金属质感和镜面效果，及镭雕所达不到的精度和流畅图案效果。
文档编号G03F7/09GK102616083SQ201210099739
公开日2012年8月1日 申请日期2012年4月6日 优先权日2012年4月6日
发明者林其松 申请人:深圳市联懋塑胶有限公司