专利名称：一种烘烤架及具有其的烘烤箱的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及加热设备领域，具体而言，涉及一种烘烤架及具有其的烘烤箱。
背景技术：
匀胶铬版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料(相当于照相用的感光胶卷)。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射沉积上氮化铬-氮氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。即匀胶铬版分为玻璃基版层、镀氮化铬-氮氧化铬薄膜层、匀胶层。一个典型的匀胶过程(涂敷光刻胶的过程)包括滴胶、高速旋转以及干燥(溶剂 挥发)几个步骤。干燥的过程目前主要有两种方式，一种为热板烘烤方式，另一种为烘箱烘烤方式。如图I所示，现有技术在烘箱中烘烤时基板51采用直立摆放形式，在夹具42的接触处因烘烤箱中的循环风沿箭头D所示方向从后往前送风的时候易被夹具42挡住而容易导致基板51胶面均匀性变差，而且在送入烤架本体41的时候，烤架本体41与烘烤箱摩擦产生颗粒，颗粒因自重，易往下落，粘附在基版的胶面上，烘干后难以去除。
实用新型内容本实用新型旨在提供一种烘烤架及具有其的烘烤箱，以解决现有技术中基板胶面均匀性差和颗粒粘附在基板的胶面的技术问题。为了实现上述目的，本实用新型提供了一种烘烤架，用于烘干涂覆于基板表面的胶面时支撑所述基板，包括烤架本体，烤架本体包括相对设置的上表面和下表面；定位块，多个定位块设置于烤架本体的上表面，每个定位块包括支撑面，支撑面用于与上表面具有间隔地支撑所述基板。进一步地，每个定位块还包括定位面，多个定位块的各定位面对基板相对于烤架本体的横向位置进行定位。进一步地，定位面垂直于烤架本体的上表面。进一步地，定位面包括两个相互垂直的定位平面。进一步地，烘烤架还包括滚动装置。进一步地，滚动装置包括底部滚动装置，设置于烤架本体的下表面；侧边滚动装置，设置于烤架本体的侧表面。进一步地，每个定位块的支撑面与基板点接触。进一步地，支撑面包括向烤架本体的中心并向靠近上表面的方向倾斜的倾斜面。本发明还提供一种烘烤箱，通过送风方式烘干涂覆于基板表面的胶面，包括支撑基板的上述烘烤架。进一步地，烘烤架沿送风方向水平放置。[0016]进一步地，基板为大尺寸匀胶铬版。应用本实用新型的技术方案，通过设置位于烤架本体上表面的定位块，使基板在定位块支撑面的支撑下与烤架本体上表面之间形成一定的距离；利用定位块支撑的方法，减少了夹具对基板烘干效果的影响，可有效的改善胶面的均匀性。进一步地，在每个定位块上设置定位面，对基板相对于烤架本体的横向位置进行定位。进一步地，设置滚动装置，在烘烤架本体放入烘烤箱的时候，可有效减小烘烤架本体下表面和侧表面与烘烤箱箱壁的摩擦，减少或避免箱壁颗粒吸附在基板上。进一步地，在定位块上设置倾斜面，当基板放置定位块上时，各定位块与基板均为点接触，减小定位块对胶面的影响。
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中图I为现有技术中的烤箱烘烤方法的结构示意图；图2为根据本实用新型实施例的烘烤架的整体结构示意图；图3为根据本实用新型实施例的烘烤架的主视结构示意图；图4为根据本实用新型实施例的烘烤架的定位块结构示意图。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。如图2所示，本实用新型实施例中的烘烤架包括烤架本体I、定位块2以及滚动装置3。烤架本体I包括相对设置的上表面和下表面；四个定位块2设置于烤架本体I的上表面，每个定位块2上都设置有支撑面，用于与上表面有间隔地支撑匀胶铬版。滚动装置3包括设置于烤架本体I下表面的底部滚动装置和设置于烤架本体I侧表面的侧边滚动装置。如图3所示，根据本实用新型实施例中的烘烤架，底部滚轮31为底部滚动装置，侧边滚轮32为侧边滚动装置。上述滚动装置3用于减少烤架本体I与烘烤箱箱壁之间的摩擦，从而减少颗粒的产生。进一步地，上述匀胶铬版的胶面面向烤架本体I上表面向下设置。如图4所示，每个定位块2还包括定位面，上述定位面为垂直于烤架本体I上表面的两个相互垂直的定位平面。四个上述定位块的各定位面对上述匀胶铬版相对于烤架本体I的横向位置进行定位。进一步地，上述支撑面设置有向烤架本体I的中心并向靠近上表面方向倾斜的倾斜面21，倾斜面21与匀胶铬版为点接触。本实用新型还提供了一种通过送风方式烘干涂覆于匀胶铬版表面的胶面的烘烤箱，包括支撑上述匀胶铬版的上述烘烤架。进一步地，上述烘烤架沿送风方向水平放置。[0034]从以上的描述中，可以看出，本实用新型上述的实施例实现了如下技术效果通过设置位于烤架本体上表面的定位块，使匀胶铬版在定位块支撑面的支撑下与烤架本体上表面之间形成一定的距离；利用定位块支撑的方法，减少了夹具对匀胶铬版烘干效果的影响，可有效的改善胶面的均匀性。进一步地，在每个定位块上设置定位面，对匀胶铬版相对于烤架本体的横向位置进行定位。进一步地，设置滚动装置，在烘烤架本体放入烘烤箱的时候，可有效减小烘烤架本体下表面和侧表面与烘烤箱箱壁的摩擦，减少或避免箱壁颗粒吸附在匀胶铬版上。进一步地，匀胶铬版的胶面面向烤架本体上表面向下设置，也可减少或避免箱壁颗粒吸附于匀胶铬版胶面上。进一步地，在定位块上设置倾斜面，当匀胶铬版放置定位块上时，各定位块与匀胶铬版均为点接触，减小定位块对胶面的影响。以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1.一种烘烤架，用于烘干涂覆于基板表面的胶面时支撑所述基板，其特征在于，包括 烤架本体(I)，所述烤架本体(I)包括相对设置的上表面和下表面； 定位块(2)，多个所述定位块(2)设置于所述烤架本体(I)的所述上表面，每个所述定位块(2)包括支撑面，所述支撑面用于与所述上表面具有间隔地支撑所述基板。
2.根据权利要求I所述的烘烤架，其特征在于，每个所述定位块(2)还包括定位面，多个所述定位块(2)的各所述定位面对所述基板相对于所述烤架本体(I)的横向位置进行定位。
3.根据权利要求2所述的烘烤架，其特征在于，所述定位面垂直于所述烤架本体(I)的上表面。
4.根据权利要求3所述的烘烤架，其特征在于，所述定位面包括两个相互垂直的定位平面。
5.根据权利要求I所述的烘烤架，其特征在于，所述烘烤架还包括滚动装置(3)。
6.根据权利要求5所述的烘烤架，其特征在于，所述滚动装置(3)包括 底部滚动装置(31)，设置于所述烤架本体(I)的下表面； 侧边滚动装置(32)，设置于所述烤架本体(I)的侧表面。
7.根据权利要求I所述的烘烤架，其特征在于，每个所述定位块(2)的所述支撑面与所述基板点接触。
8.根据权利要求7所述的烘烤架，其特征在于，所述支撑面包括向所述烤架本体(I)的中心并向靠近所述上表面的方向倾斜的倾斜面(21)。
9.一种烘烤箱，通过送风方式烘干涂覆于基板表面的胶面，包括支撑所述基板的烘烤架，其特征在于，所述烘烤架为根据权利要求I至8中任一项所述的烘烤架。
10.根据权利要求9所述的烘烤箱，其特征在于，所述烘烤架沿送风方向水平放置。
11.根据权利要求9或10所述的烘烤箱，其特征在于，所述基板为大尺寸匀胶铬版。
专利摘要本实用新型提供了一种烘烤架及具有其的烘烤箱，该烘烤架用于烘干涂覆于基板表面的胶面时支撑基板，包括烤架本体，烤架本体包括相对设置的上表面和下表面；定位块，多个定位块设置于烤架本体的上表面，每个定位块包括支撑面，支撑面用于与上表面具有间隔地支撑基板。通过设置位于烤架本体上表面的定位块，使基板在定位块支撑面的支撑下与烤架本体上表面之间形成一定的距离；利用定位块支撑的方法，减少了夹具对基板烘干效果的影响，可有效的改善胶面的均匀性。
文档编号G03F7/40GK202758167SQ20122038433
公开日2013年2月27日 申请日期2012年8月3日 优先权日2012年8月3日
发明者李伟, 邓辉 申请人:湖南电子信息产业集团有限公司, 湖南普照信息材料有限公司