专利名称：漏光检测基板及漏光检测装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及显示技术领域，特别涉及一种漏光检测基板及漏光检测装置。
背景技术：
目前，TFT-1XD (英文全称Thin Film Transistor,中文全称薄膜晶体管液晶显示)面板的阵列基板通过各层金属、非金属薄膜形成一定的图形沉积在玻璃上形成晶体管驱动液晶旋转，随着社会进步及科技发展，TFT-LCD已经成为当今时代显示领域的主流产品，在工业生产、日常生活中起到了至关重要的作用，越来越受到人们的青睐。但是目前TFT-1XD的图像显示品质一直以来都是制约TFT-1XD发展的重要因素，影响显示品质的原因很多，例如原材料的污染、液晶污染、PI污染、生产线洁净程度的好坏等，这些都影响着TFT-1XD的显示品质；除此以外，液晶显示器还受到外界环境的影响，例如曝光在强紫外光的条件下，显示品质也会大大受到影响，这主要是因为，强紫外光能够影响液晶显示器中的a-si TFT (非晶硅薄膜晶体管)，使a-si (非晶硅)在强紫光外的作用下产生不可逆的破坏，此外，强紫外光也会破坏TFT-LCD显示区域的液晶材料，使液晶分子和混合液晶当中的其他混合物产生未知的副反应，从而导致严重的残像。在目前液晶显示器制造过程中TFT-LCD面板的封框胶固化过程需要使用封框胶UV (紫外光)固化设备，该设备主要包括紫外光照射装置、传送装置、通风装置、检测结果单元及系统控制单元；在生产过程中，为了避免强紫外光照射到面板的显示区域，先将TFT-LCD面板放置在漏光检测基板及漏光检测装置的基台上，再在TFT-1XD面板上面放置一个UVmask层(紫外光掩膜设备)，UVmask层的作用是将TFT-LCD面板的显示区域遮挡住，使除封框胶之外的其他区域都被遮挡；同时仅将封框胶部分全部暴露在强紫外光之下。因此，封框胶固化工艺对UVmask层设计的精准度要求相当高，若将显示区域暴露在UVmask层外，封框胶虽能固化完全，但会产生种种显示问题，若封框胶没有完全暴漏在外，则会导致封框胶固化不完全，有可能导致封框胶断裂等不良问题；这些问题不能被及时发现，后果是导致大批量TFT-1XD面板出现质量问题，造成巨大经济损失。目前，现有的UV固化装置在进行UV固化工艺时，并不能直接显示固化过程实时监测是否有紫外光照射到面板的显示区域，更不可能检测出哪些显示区域被照射；因此，生产人员只能等待最终产品生产出来，并对其进行品质检测，当发现品质问题后再回头检讨UVmask的设计问题；这样的漏光检测装置使用起来不仅使UV固化过程费时费力、且增加了TFT-LCD的生产成本，不利于TFT-LCD的发展；不仅是紫外线固化设备，在需要其他需要精准曝光的设备使用中，都会遇上上述类似问题，因此，需要提供一种漏光检测基板、漏光检测装置以及具有漏光检测功能的曝光设备如紫外线固化装置，以解决提高精准度、减少损耗。
发明内容本实用新型所解决的技术问题是无法在曝光之前对设备的漏光进行准确地检测，导致曝光不精准以及曝光设备如掩膜版成本消耗高的问题。[0004]本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的一种漏光检测基板，所述漏光检测基板包括衬底基板和形成于所述衬底基板上的光致变色材料层。还包括第二基板，覆盖在所述光致变色材料层上。所述衬底基板和所述第二基板通过基板边缘区域的封框胶粘结固定，所述封框胶的厚度不小于所述光致变色材料层的厚度。上述欧光检测基板是用于对紫外光掩膜设备进行漏光检测，所述光致变色材料层的材料至少包括光致变色螺吡喃聚合物、螺-恶嗪聚合物、二芳基乙烯光致变色聚合物、偶氮苯类光致变色聚合物、苯氧基萘并萘醌光致变色聚合物、俘精酰亚胺光致变色共聚物、硫靛光致变色共聚物、双硫腙光致变色聚合物、二氢吲嗪光致变色聚合物、WO3、MoO3或Ti02中的一种。一种漏光检测装置，包括如上述中任一项所述的漏光检测基板；所述漏光检测装置包括图案采集单元，所述图案采集单元用于获取所述漏光检测基板上的图案信息。还包括检测结果单元，所述检测结果单元与所述图案采集单元连接以显示所述图案采集单元所采集到的图案信息。所述图案采集单元为照相机。还包括紫外光照射装置，用于发出用于固化封框胶的紫外光，将所述紫外光照射到待检测的紫外光掩膜设备上，其中透过所述紫外光掩膜设备的紫外光照射到所述漏光检测基板上。还包括紫外光挡板，所述紫外光挡板设置在所述紫外光照射装置、所述漏光检测基板以及所述图案采集单元的外围。还包括通风装置，位于所述紫外光挡板的壁上，用于对所述紫外光挡板所围的空间进行通风。还包括传送装置，所述传送装置用于将待检测的紫外光掩膜设备传送到所述漏光检测基板的光入射一侧。还包括系统控制单元，与所述紫外光照射装置和所述图案采集单元连接，所述系统控制单元用于控制所述紫外光照射装置发出所述紫外光，以及控制所述图案采集单元获取所述漏光检测基板上的图案信息。本实用新型与现有技术相比具有以下的优点1、本实用新型采用漏光检测基板的设计，利用光致变色材料层在强紫外光照射下的颜色可逆性，可有效检测出曝光设备是否存在曝光不准确的区域区域，如漏光区域或光不足区域，并以此调整曝光设备的设计；当根据漏光情况调整曝光设备设计并更换上调整后，光致变色材料层则不会出现变色情况由于可逆特性，光致变色层能实现重复利用。2、本实用新型采用图案采集单元的设计，利用照相机随时对固化过程中的漏光检测基板进行拍照取样；同时将图像信息通过系统控制单元传送至检测结果单元进行显像，生产人员能够通过观察图片，及时获知待曝光器件的应曝光区域是否被光照射到，并通过观察漏光检测基板上的显色图案、显色位置，找到具体的曝光不准确的区域，从而有针对性地调整曝光设备的设计，提升产品的优良率及显示品质。
[0019]
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。图1是本实用新型中实施例一的结构示意图；图2是本实用新型中实施例二的结构示意图。
具体实施方式
实施例一参见图1所示，为本实施例所提供的一种漏光检测基板，所述漏光检测基板包括衬底基板I和形成于所述衬底基板上的光致变色材料层2。上述具有光致变色材料层2的漏光检测基板具有能够检测紫外光掩膜设备的精准度如是否漏光的功能，其使用方式可以为在对紫外光掩膜设备，例如紫外光固化设备中的UVmask层进行漏光检测时，将所述漏光检测基板置于所述UVmask层下方，优选置于用于放置待固化的面板的位置处，紫外光由UVmask层的上方照射，由于光致变色材料的光致变色特性，漏光检测基板上将形成图案，通过检查该图案，可检测出UVmask层是否精准，如是否产生漏光现象。优选地，本实施例中为使漏光检测基板整体结构更加平整、牢靠，可在所述衬底基板上设置第二基板3，覆盖在所述光致变色材料层上。本实施例中所述衬底基板和所述第二基板通过基板边缘区域的封框胶4以真空对盒的工艺将其对齐粘结固定，所述封框胶的厚度不小于所述光致变色材料层的厚度。本实施例中所述衬底基板和第二基板优选由玻璃材料、石英材料或透明高分子材料其中之一制成；所述的透明高分子材料如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚醚醚酮(PEEK)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚丁二酸乙烯(PES)、聚丙烯氧化物(PPO)等；对于衬底基板要求具备紫外光高透过率，且与光致变色材料不相互作用，能够抵抗高强度紫外光照射。上述漏光检测基板可以用于对紫外光掩膜设备进行漏光检测，本实施例中所述光致变色材料层的材料至少包括光致变色螺吡喃聚合物、螺-恶嗪聚合物、二芳基乙烯光致变色聚合物、偶氮苯类光致变色聚合物、苯氧基萘并萘醌光致变色聚合物、俘精酰亚胺光致变色共聚物、硫靛光致变色共聚物、双硫腙光致变色聚合物、二氢吲嗪光致变色聚合物、W03、Mo03或Ti02中的一种。可使所述光致变色材料层显色的紫外光波长范围在300-500nm之间。本实施例中所述光致变色材料层的变色机理是由其所掺杂的光致变色材料的种类所决定的，常见光致变色材料的变色机理可分为链的异裂和均裂，质子转移互变异构、顺反异构反应，氧化还原反应、周环反应等；以螺-恶嗪材料层为例，当其受紫外光激发后会变为蓝色，其变色机理取决于螺-恶嗪光致变色化合物；在强紫外光照射下，光致变色材料螺-恶嗪Spirooxazine (SO)分子中螺C-O键发生异裂，引起分子的结构以及电子组态发生异构化和重排，通过螺C原子连接的两个环系由正交变为共平面，形成一个大的共轭体系photomerocyanine (PMC),在可见光区有吸收峰,在可见光或热的作用下，PMC发生关环反应回到S0，构成一个典型的光致变色体系，这个过程是可逆的。螺-恶嗪光致变色材料在强紫外光照射下，会由无色透明变为清晰的蓝色，当紫外光不再照射时则蓝色会逐渐褪去，同时，颜色的深浅会随着紫外光强度的变化而变化，紫外光光越强，则显色越深。[0030]本实用新型采用漏光检测基板的设计，利用光致变色材料层在强紫外光照射下的颜色可逆性，可有效检测出UVmask层是否存在漏光区域，并以此调整UVmask层的设计；当UVmask层有漏光现象时，光致变色材料层在相对应位置会出现变色情况；当根据漏光情况调整UV mask设计并更换上调整后的UV mask时，光致变色材料层则不会出现变色情况；光致变色层仅在紫外光照下呈现变色态，当去除紫外光照射，则光致变色层颜色会逐渐褪去，这样，光致变色层则能实现重复利用。作为一种优选实施方式，本实施例中所述漏光检测基板的制造工艺如下例如以有机物二芳基乙烯为光致变色材料层，以0. 7t的玻璃材料为衬底基板和
第二基板；1、将0. 7t的衬底基板2张，清洗干净，并烘干，衬底基板和第二基板的尺寸为IlOOmmX 1300mm (主要配合第五代液晶面板生产线)；2、以ODF工艺(液晶滴下工艺)将二芳基乙烯溶液滴注在衬底基板上；3、在第二基板上涂覆封框胶，封框胶中混合有glass fiber (玻璃纤维)，该封框胶尺寸50微米，可起支撑盒厚的作用。同时，以真空对盒的工艺将上下两基板对盒，形成漏光检测基板。又例如以无机物过渡金属氧化物W03为光致变色材料层，以2张厚度为2_的石英板为衬底基板和第二基板，衬底基板和第二基板的尺寸为2200X2500 (配合第八代液晶面板生产线)；1、以旋涂工艺将W03的溶胶液涂覆到衬底基板上面；2、在160°C下对涂覆过W03的石英衬底基板加热，待完其全干燥固化；3、在第二基板上涂覆封框胶，封框胶中混合有glass fiber (玻璃纤维)，该封框胶尺寸50微米，可起支撑盒厚的作用。同时，以真空对盒的工艺将上下两基板对盒，形成漏光检测基板。实施例二 本实施例中的漏光检测装置是一种包括实施例一中所述的漏光检测基板的漏光检测装置；实施例一中公开的技术内容不重复描述，实施例一公开的内容也属于本实施例公开的内容。参见图2所示，为本实施例所提供的一种漏光检测装置，该漏光检测装置包括漏光检测基板11和图案采集单元12，所述漏光检测基板11如前一实施例所述，所述图案采集单元12用于获取所述漏光检测基板上的图案信息。所述图案采集单元12优选可以为照相机等具有图像摄制功能的设备，其将漏光检测基板上形成的图案采集下来用于图案的比对和检查，以判断紫外光掩膜设备是否有漏光现象。如图2所述，优选地，所述漏光检测装置还紫外光照射装置7、用于承载基板的基台5、用于为外围遮挡紫外光的紫外光挡板6、与图案采集单元12连接并输出检测结果的检测结果单元8，以及控制各部分运行的系统控制单元9 ；在所述基台上由下至上依次(顺序可根据实际需要调整)设有UVmask层10、漏光检测基板11和图案采集单元12所述UVmask层和漏光检测基板呈层叠设置。本实施例中所述基台可以是架设在紫外光挡板内壁上的一个平面台，在该平面台对应叠放UVmask层漏光检测基板的部分采用透光度高的玻璃材料制成，也可采用其他高透光度的材料制成，本实施例中的UVmask层基台的结构属于本领域的现有技术，此处不再过多赘述。本实施例中所述图案采集单元用于获取所述漏光检测基板上的图案信息。所述图案采集单元包括一个对应设置在漏光检测基板上方的照相机14，该照相机通过连接杆15与所述装置主体内壁连接；该照相机上连接有数据传输线；所述照相机通过系统控制单元与所述检测结果单元电连接。本实用新型采用图案采集单元的设计，利用照相机随时对固化过程中的漏光检测基板进行拍照取样；同时将图像信息通过系统控制单元传送至检测结果单元进行显像，生产人员能够通过观察图片，及时获知紫外光的具体照射区域，通过观察漏光检测基板上的显色图案、显色位置，与在精准照射情况下应有的显色图案和显色位置相比较，找到不同之处，即具体的漏光区域或光不足区域，从而有针对性地精准调整UV mask的设计，提升产品的优良率及显示品质。本实施例中的紫外光照射装置主要包括UV灯管、灯罩，变压器、电容器；该装置安装在所述基台下方，与所述UVmask层、测试面板和漏光检测基板位置对应，该紫外光照射装置发射的强紫外光由下向上照射，以此对UVmask层进行紫外光照射作业；本实施例中所述的紫外光照射装置，可发出用于检测漏光的紫外光，将所述紫外光照射到待检测的UVmask层上，其中透过所述UVmask层的紫外光照射到所述漏光检测基板上；所述紫外光照射装置通过电线与所述系统控制单元连接，并由系统控制单元控制其工作。本实施例中所述紫外光挡板将漏光检测装置各部件装入其内，尤其是紫外光照射装置，由于紫外光照射装置可发射高强度紫外光；因此，为避免光线外泄，对外部的人或物产生高温烫伤，需在紫外光照射处多设紫外光挡板。本实施例中所述紫外光挡板设置在所述紫外光照射装置、所述漏光检测基板以及所述图案采集单元的外围，整体包围上述各装置。本实施例中所述检测结果单元与所述图案采集单元连接以显示所述图案采集单元所采集到的图案信息；并将所述图案信息与预先存储的标准信息进行比较，根据比较的结果输出漏光检测结果。关于本实施例中检测结果单元的型号、规格等属于本领域的现有技术，此处不再过多赘述。本实施例中所述的通风装置(属于现有技术，图中未显示)，位于所述紫外光挡板的壁上，用于对所述紫外光挡板所围的空间进行通风。本实施例中所述的传送装置(属于现有技术，图中未显示)，用于将待检测的UVmask层传送到所述漏光检测基板的光入射一侧。本实施例中所述系统控制单元可用来控制漏光检测装置各部件工作，主要控制紫外光照射装置、图案采集单元、检测结果单元、通风装置以及传送装置等部件的正常运行；本实施例中所述系统控制单元与所述紫外光照射装置和所述图案采集单元连接，所述系统控制单元用于控制所述紫外光照射装置发出所述紫外光，以及控制所述图案采集单元获取所述漏光检测基板上的图案信息。本实施例中关于本实施例中紫外光挡板、紫外光照射装置、检测结果单元、通风装置、传送装置以及系统控制单元的结构、型号、规格等属于本领域的现有技术，此处不再过多赘述。本实施方式中所提供的漏光检测基板可以应用于紫外光固化装置中，例如在紫外线固化装置对具有待固化封框胶的显示面板进行固化处理之前，先把所述漏光检测基板放置于待固化显示面板的位置处，经紫外光照射显示显色图案后，将显色图案与应有的准确图案相比较，或其他检查方式，找出误差的位置，即UVmask层的漏光位置或光不足位置，以对UVmask层进行调整，调整之后再将其用于真正的固化过程，即可提高固化处理的精准度，且提高生产效率；本实施方式中所提供的所述漏光检测装置还可以用作紫外光固化装置，如图2所述，所述紫外光固化装置还包括待固化面板13，待固化面板13被置于所述UVmask层10和所述漏光检测基板11之间，这样不仅能够实现对待固化面板13进行紫外线固化处理，还可以实现在对待固化面板13进行固化的过程中或之后对UVmask层10的精准度进行检测，也即对固化效果进行检测的目的。本实施例中所述的待固化面板13可以是TFT-1XD面板。
权利要求1.一种漏光检测基板，包括衬底基板和形成于所述衬底基板上的光致变色材料层。
2.根据权利要求1所述的漏光检测基板，其特征在于，还包括第二基板，覆盖在所述光致变色材料层上。
3.根据权利要求2所述的漏光检测基板，其特征在于，所述衬底基板和所述第二基板通过基板边缘区域的封框胶粘结固定，所述封框胶的厚度不小于所述光致变色材料层的厚度。
4.根据权利要求1所述的漏光检测基板，其特征在于，所述漏光检测基板是用于对紫外光掩膜设备进行漏光检测；所述光致变色材料层的材料至少包括光致变色螺吡喃聚合物、螺-恶嗪聚合物、二芳基乙烯光致变色聚合物、偶氮苯类光致变色聚合物、苯氧基萘并萘醌光致变色聚合物、俘精酰亚胺光致变色共聚物、硫靛光致变色共聚物、双硫腙光致变色聚合物、二氢吲嗪光致变色聚合物、W03、MoO3或Ti02中的一种。
5.一种漏光检测装置，包括如权利要求f 4任一项所述的漏光检测基板；其特征在于， 所述漏光检测装置包括图案采集单元，所述图案采集单元用于获取所述漏光检测基板上的图案信息。
6.根据权利要求5所述的漏光检测装置，其特征在于，还包括检测结果单元，所述检测结果单元与所述图案采集单元连接以显示所述图案采集单元所采集到的图案信息。
7.根据权利要求5所述的漏光检测装置，其特征在于，所述图案采集单元为照相机。
8.根据权利要求5所述的漏光检测装置，其特征在于，还包括紫外光照射装置，用于发出用于固化封框胶的紫外光，将所述紫外光照射到待检测的紫外光掩膜设备上，其中透过所述紫外光掩膜设备的紫外光照射到所述漏光检测基板上。
9.根据权利要求8所述的漏光检测装置，其特征在于，还包括紫外光挡板，所述紫外光挡板设置在所述紫外光照射装置、所述漏光检测基板以及所述图案采集单元的外围。
10.根据权利要求9所述的漏光检测装置，其特征在于，还包括通风装置，位于所述紫外光挡板的壁上，用于对所述紫外光挡板所围的空间进行通风。
11.根据权利要求5所述的漏光检测装置，其特征在于，还包括传送装置，所述传送装置用于将待检测的紫外光掩膜设备传送到所述漏光检测基板的光入射一侧。
12.根据权利要求8所述的漏光检测装置，其特征在于，还包括系统控制单元，与所述紫外光照射装置和所述图案采集单元连接，所述系统控制单元用于控制所述紫外光照射装置发出所述紫外光，以及控制所述图案采集单元获取所述漏光检测基板上的图案信息。
专利摘要本实用新型涉及一种漏光检测基板及漏光检测装置，特别涉及一种对UVmask层进行漏光检测的漏光检测基板及漏光检测装置；所述漏光检测基板，用于对紫外光掩膜设备进行漏光检测，所述漏光检测基板包括衬底基板和形成于所述衬底基板上的光致变色材料层；所述漏光检测装置，包括图案采集单元，所述图案采集单元用于获取所述漏光检测基板上的图案信息。本实用新型采用漏光检测基板的设计，利用光致变色材料层在强紫外光照射下的颜色可逆性，可有效检测出UVmask层是否存在漏光区域，并以此调整UVmask层的设计。
文档编号G02F1/13GK202837747SQ20122055794
公开日2013年3月27日 申请日期2012年10月26日 优先权日2012年10月26日
发明者石岳 申请人:京东方科技集团股份有限公司