微透镜阵列以及使用该微透镜阵列的扫描曝光装置制造方法

微透镜阵列以及使用该微透镜阵列的扫描曝光装置制造方法
【专利摘要】在微透镜阵列中，其反转成像位置的六边视野光圈的配置，即，微透镜的配置，在垂直于扫描方向的方向上配置有多个而构成微透镜列。而且关于其3列的微透镜列，微透镜列以使六边视野光圈的三角形部分在扫描方向上重叠的方式分别在垂直于扫描方向的方向上偏移长度S的量进行配置。进而，关于由该3列的微透镜列构成的微透镜列组，微透镜列组例如在垂直于扫描方向的方向上偏移微小移位量F而配置，例如，偏移2μm。由此，在使用微透镜阵列的曝光装置中，即使对于垂直于扫描方向的方向也能防止产生曝光不均。
【专利说明】微透镜阵列以及使用该微透镜阵列的扫描曝光装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及通过以二维方式排列有微透镜(microlens)的微透镜阵列(microlensarray)在基板上对掩模图案进行曝光的曝光装置，以及在该曝光装置中使用的微透镜阵列。
【背景技术】
[0002]在薄膜晶体管液晶基板和滤色镜基板等中，对形成在玻璃基板上的抗蚀剂膜等进行多次、重合曝光，形成规定的图案。另外，最近提出了使用以二维方式配置有微透镜的微透镜阵列的扫描曝光装置(专利文献I )。在该扫描曝光装置中，在一个方向上排列多个微透镜阵列，通过在与该排列方向垂直的方向上使微透镜阵列和曝光光源相对于基板和掩模相对地移动，从而使曝光光扫描掩模，将形成在掩模的孔的曝光图案成像在基板上。微透镜阵列在厚度例如为4_的4片玻璃板的各自的表面和背面形成凸透镜上的微透镜，将像这样构成的4片单位微透镜阵列以各微透镜的光轴一致的方式进行重叠而在光轴方向上配置8个透镜，由此，将正立等倍像曝光在基板上。
[0003]图4是示出使用微透镜阵列的曝光装置的纵截面图，图5是示出由该微透镜阵列得到的曝光状态的截面图，图6是示出微透镜阵列的配置状态的立体图，图7是示出单位微透镜阵列的一部分的截面图，图8是示出微透镜的六边视野光圈的图，图9是示出微透镜的六边视野光圈的配置的平面图，图10是示出球面像差的图。
[0004]如图4所示，从曝光光源4射出的曝光光经由包括平面镜的光学系统21被引导至掩模3，对掩模3进行透射的曝光光照射到微透镜阵列2，形成在掩模3上的图案通过微透镜阵列2成像在基板I上。在该光学系统21的光路上配置有二向色镜22，来自照相机23的观察光在二向色镜22反射,与来自曝光光源4的曝光光同轴地朝向掩模3。另外,该观察光被微透镜阵列2会聚在基板I上，经已经形成在基板I的基准图案反射，该基准图案的反射光经由微透镜阵列2、掩模3以及二向色镜22入射到照相机23。照相机23检测该基准图案的反射光，将该检测信号输出到图像处理部24。图像处理部24对基准图案的检测信号进行图像处理，得到基准图案的检测图像。控制部25基于该检测图像进行基板1、微透镜阵列2、掩模3以及曝光光源4的位置匹配。微透镜阵列2和曝光光源4以及光学系统21能成为一体在固定的方向上移动，基板I和掩模3被固定地配置。而且，通过基板I和掩模3在一个方向上移动，从而曝光光在基板上扫描，在从玻璃基板制造出I片基板的所谓单片制取的基板的情况下，通过上述的一次扫描对基板的整个面进行曝光。或者，还能构成为玻璃基板I和掩模3被固定，微透镜阵列2和光源4成为一体在固定的方向上移动。在该情况下，曝光光在基板上移动，扫描基板表面。
[0005]接下来，对由微透镜阵列得到的曝光状态更详细地进行说明。如图5所示，在玻璃基板等被曝光基板I的上方配置有以二维方式配置微透镜2a而构成的微透镜阵列2，进而，在该微透镜阵列2上配置有掩模3,在掩模3的上方配置有曝光光源4。在掩模3中，在透明基板3a的下表面形成有由Cr膜3b构成的遮光膜,曝光光透射形成在该Cr膜3b的孔，通过微透镜阵列2会聚在基板上。如上所述，在本实施方式中，例如，基板I和掩模3被固定，微透镜阵列2和曝光光源4同步地在箭头5方向上移动，由此，来自曝光光源4的曝光光透射掩模3在箭头5方向上对基板I上进行扫描。该微透镜阵列2和曝光光源4的移动由适宜的移动装置的驱动源来驱动。
[0006]如图6所示，在支承基板6上，在垂直于扫描方向5的方向上配置有两列例如各4个微透镜阵列2，这些微透镜阵列2在扫描方向5上观察，在前段的4个微透镜阵列2相互之间分别配置有后段的4个微透镜阵列2中的3个，两列微透镜阵列2配置成交错状。由此，通过两列微透镜阵列2对基板I中的垂直于扫描方向5的方向上的曝光区域的整个区域进行曝光。
[0007]如图7所示，各微透镜阵列2的各微透镜2a例如为4片8透镜结构，具有层叠4片单位微透镜阵列2 — 1、2 — 2、2 -3,2-4的构造。各单位微透镜阵列2 — I等由通过两个凸透镜表现的光学系统构成。由此，曝光光在单位微透镜阵列2 - 2和单位微透镜阵列2 — 3之间临时会聚，进而在单位微透镜阵列2 - 4下方的基板上成像。而且，在单位微透镜阵列2 - 2和单位微透镜阵列2 - 3之间配置有六边视野光圈12，在单位微透镜阵列
2— 3和单位微透镜阵列2 — 4之间配置有圆形的开口光圈10。开口光圈10限制各微透镜2a的NA (开口数)，并且六边视野光圈12在接近成像位置处呈六边形缩窄视野。按每个微透镜2a设置有这样的六边视野光圈12和开口光圈10，对于各微透镜2a，通过开口光圈10将微透镜2a的光透射区域整形为圆形，并且将曝光光在基板上的曝光区域整形为六边形。六边视野光圈12例如如图8所示，在微透镜2a的开口光圈10中形成为六边形的开口。因而，通过该六边视野光圈12，当设扫描停止时，透射微透镜阵列2的曝光光在基板I上只照射到图9所示的被围成六边形的区域。此外，六边视野光圈12和圆形开口光圈10能利用Cr膜作为不透射光的膜而形成图案。
[0008]图9是为了示出各微透镜阵列2中的各微透镜2a的配置状态而将微透镜2a的配置状态作为微透镜2a的六边视野光圈12的位置示出的图。如该图9所示，微透镜2a相对于扫描方向5依次稍微向横方向(垂直于扫描方向5的方向)偏离地配置。六边视野光圈12被分成中央的矩形部分12a和在其扫描方向5上观察在中央矩形部分12a两侧的三角形部分12b、12c。在图9中，虚线是在扫描方向5上连结六边视野光圈12的六边形的各角部的线段。如该图9所不,关于垂直于扫描方向5的方向上的各列,这些微透镜2a以如下方式配置，即，当对扫描方向5观察3列的六边视野光圈12的列时，某个特定的第一列的六边视野光圈12的右侧的三角形部分12c与邻接在扫描方向后方的第二列六边视野光圈12的左侧的三角形部分12b重叠，第一列六边视野光圈12的左侧的三角形部分12b与第三列六边视野光圈12的右侧的三角形部分12c重叠。这样，关于扫描方向5，3列的微透镜2a配置成一个集(set)。即，关于垂直于扫描方向5的方向，第四列的微透镜2a被配置在与第一列的微透镜2a相同的位置。此时，在3列六边视野光圈12中，当将邻接的2列六边视野光圈12的三角形部分12b的面积和三角形部分12c的面积相加时，在该扫描方向5上重叠的两个三角形部分12b、12c的合计面积的线密度与中央的矩形部分12a的面积的线密度相同。此夕卜，所谓该线密度，是在垂直于扫描方向5的方向上的单位长度平均的六边视野光圈12的开口面积。即，三角形部分12b、12c的合计面积是以三角形部分12b、12c的底边为长度，以三角形部分12b、12c的高度为宽度的矩形部分的面积。该矩形部分与矩形部分12a的长度为相同的长度，因此，当以关于垂直于扫描方向5的方向上的单位长度平均的开口面积(线密度)进行比较时，三角形部分12b、12c的线密度与矩形部分12a的线密度相同。因此，当基板I受到3列微透镜2a的扫描时,关于垂直于该扫描方向5的方向，在其整个区域受到均匀的光通量的曝光。因此，在各微透镜阵列2中，关于扫描方向5配置有3的整数倍列的微透镜2a，由此，基板通过一次扫描就在其整个区域受到均匀的光通量的曝光。
[0009]现有技术文献 专利文献
专利文献1:特开2007 - 3829。

【发明内容】

[0010]发明要解决的课题
然而，在该以往的扫描曝光装置中存在以下所示的问题。如图10所示，在各微透镜2a中，在该透镜的周边部分存在球面像差，透射周边部分的光的光通量比透射中心部分的光的光通量降低。因此，在第二片单位微透镜阵列2 - 2和第三片单位微透镜阵列2 — 3之间设置六边视野光圈12，遮挡透射微透镜2a的周边部的光，防止微透镜2a周边部的球面像差。
[0011]然而，虽然透镜周边部的球面像差能利用六边视野光圈12在某种程度上去除，但是，在透射该六边视野光圈的光中，也具有光通量从六边视野光圈12的中心朝向周边部降低那样的光通量分布。关于该光通量分布，因为微透镜2a对微透镜阵列2的扫描方向5相对地移动，所以，光通量分布被平均化而平坦化，在基板上的特定的位置不会残留光通量分布的影响，但是，微透镜2a并不对垂直于微透镜阵列2的扫描方向5的方向相对地移动，因此，光通量的分布通过一个微透镜2a的球面像差而残留在基板I。因此，在现有技术中，存在对垂直于该扫描方向的方向产生曝光不均的问题。
[0012]本发明是鉴于这样的问题而完成的，其目的在于，提供一种在使用微透镜阵列的曝光装置中即使对垂直于扫描方向的方向也能够防止产生曝光不均的微透镜阵列以及使用该微透镜阵列的扫描曝光装置。
[0013]用于解决课题的方案
本发明的微透镜阵列是相互层叠多片以二维方式配置有多个微透镜的单位微透镜阵列而构成，所述微透镜阵列的特征在于，在所述单位微透镜阵列间的反转成像位置配置有具有多边形的开口的多边视野光圈，所述微透镜在第一方向上隔开适当长度间隔排列有多个而构成列，该多个微透镜列在与第一方向正交的第二方向上隔开适当长度间隔进行配置，在将由所述多边视野光圈规定的视野区域分解成矩形和其两侧的三角形时，该一侧的三角形部分、矩形部分和另一侧的三角形部分在所述第一方向上相连，在多个所述微透镜列中的每一个中，所述微透镜以使其一侧的所述三角形部分与对于该微透镜在第二方向上邻接的另一个微透镜的另一侧的所述三角形部分关于所述第二方向重叠的方式，在所述第一方向上偏移地进行配置，由所述多个微透镜列构成的微透镜列组相对于在其所述第二方向上邻接的另一个微透镜列组在所述第一方向上偏移比所述视野区域的所述第一方向上的长度短的距离的量进行配置。
[0014]本发明的使用微透镜阵列的扫描曝光装置，具有:微透镜阵列，配置在应曝光的基板的上方，相互层叠多片分别以二维方式配置有多个微透镜的单位微透镜阵列而构成；掩模，配置在该微透镜阵列的上方，形成有规定的曝光图案；曝光光源，对该掩模照射曝光光；以及移动装置，使所述微透镜阵列或所述基板以及所述掩模在一个方向上相对地移动，所述扫描曝光装置的特征在于，在所述单位微透镜阵列间的反转成像位置配置有具有多边形的开口的多边视野光圈，所述微透镜在第一方向上隔开适当长度间隔排列有多个而构成列，该多个微透镜列在与第一方向正交的第二方向上隔开适当长度间隔进行配置，在将由所述多边视野光圈规定的视野区域分解成矩形和其两侧的三角形时，该一侧的三角形部分、矩形部分和另一侧的三角形部分在所述第一方向上相连，在多个所述微透镜列中的每一个中，所述微透镜以使其一侧的所述三角形部分与对于该微透镜在第二方向上邻接的另一个微透镜的另一侧的所述三角形部分关于所述第二方向重叠的方式，在所述第一方向上偏移地进行配置，由所述多个微透镜列构成的微透镜列组相对于在其所述第二方向上邻接的另一个微透镜列组在所述第一方向上偏移比所述视野区域的所述第一方向上的长度短的距离的量进行配置。
[0015]在使用该微透镜阵列的扫描曝光装置中，例如，所述移动装置以能使所述微透镜阵列和光源相对于所述基板和所述掩模在所述第二方向上移动的方式构成。
[0016]发明效果
根据本发明，在使用微透镜阵列的曝光装置中，例如，按3列的微透镜列组的每一个，将微透镜列在第一方向上偏移比所述视野区域的所述第一方向上的长度短的距离的量进行配置，因此，能使在微透镜产生的第一方向上的光通量分布按3列的微透镜列组的每一个在第一方向上稍微地偏离，所以，当受到由多个微透镜列组进行的扫描时，能消除基板上的第一方向上的光通量分布，能防止曝光不均。
【专利附图】

【附图说明】
[0017]图1是示出本发明的实施方式的微透镜阵列的微透镜的配置的平面图。
[0018]图2是示出相同的微透镜的配置的平面图。
[0019]图3是示出本发明的效果的曲线图。
[0020]图4是示出使用微透镜阵列的曝光装置的示意图。
[0021]图5是示出相同的该曝光装置的微透镜阵列的部分的纵截面图。
[0022]图6是示出排列有多个该微透镜阵列的状态的立体图。
[0023]图7是示出4片结构的微透镜的图。
[0024]图8是示出微透镜的光圈形状的图。
[0025]图9是示出微透镜的六边视野光圈的配置的平面图。
[0026]图10是示出微透镜的球面像差的图。
[0027]图11是示出本发明的效果的图，(a)示出两个六边视野光圈中的光通量变化，(b)示出多个组的微透镜列中的光通量变化。
[0028]图12的(a)是示出3列结构的微透镜配置的图，(b)是示出4列结构的微透镜配置的图。
【具体实施方式】[0029]以下，参照附图对本发明的实施方式具体地进行说明。图1是示出本发明的实施方式的微透镜阵列2的微透镜2a的配置的平面图。一个微透镜2a在圆形的开口光圈10内配置有六边视野光圈12，曝光光只透射该六边视野光圈12的区域。在该微透镜阵列2中，在垂直于扫描方向5的方向上以透镜间距P配置有多个微透镜2a而构成微透镜列。在垂直于该扫描方向5的方向上延伸的微透镜列中，邻接的微透镜列彼此以移位量S在垂直于该扫描方向5的方向上偏移。由3列的微透镜列构成的微透镜列组对扫描方向5以间距P5进行配置，各微透镜列组中的微透镜2a的配置方式是相同的。
[0030]如在图9中说明的那样，在各微透镜列组中，邻接的微透镜列彼此的关于扫描方向5的重叠量L与六边视野光圈12中的三角形部分12b和12c的高度相当。因此，当各微透镜列组(3列的微透镜列)在扫描方向5上扫描基板时,关于垂直于扫描方向5的方向,基板名义上(在没有球面像差的情况下)受到均匀光通量的曝光。
[0031]而且，在本实施方式中，按每个微透镜列组(3列的微透镜列)，微透镜关于垂直于扫描方向5的方向以微小移位量F偏移。扫描方向5上的两端部的微透镜列组彼此在垂直于扫描方向5的方向上以总移位量TF进行偏移，但是，当将微透镜列组的数量设为η时，该移位量TF成为nXF。此外，在图1中，R是六边视野光圈12的垂直于扫描方向5的方向上的最大长度。另外，PP是扫描方向5上的两端部的微透镜列组彼此的间距。
[0032]在该情况下，当设各微透镜的最大曝光区域R为150 μ m左右时，优选按每个微透镜列组(按每个3列的微透镜列)在垂直于扫描方向5的方向上偏移的微小移位量F例如为2μπι左右。在通常的微透镜阵列2中，微透镜列组在扫描方向5上配置有例如75组。这样，扫描方向5上的两端部的微透镜列组之间的垂直于扫描方向5的方向上的偏移成为2(ym)X75=150 (Um)0因此，使微透镜列组的整体偏移与各微透镜的最大曝光区域R相同程度的尺寸的量。顺便，因为各微透镜列组的间距Ρ5例如为1.35mm，所以，扫描方向5上的两端部的微透镜列组间的间距PP为1.35 (mm) X75=101.25 (mm),因此，微透镜阵列2在扫描方向5上的长度为PP+P5=102.6mm。
[0033]而且，在邻接的微透镜列彼此的微透镜在垂直于扫描方向5的方向上的偏移S例如为150 μ m的情况下，在一个微透镜列组中，因为存在两组邻接的微透镜列，所以，其间的偏移为150 ( μ m)X 2=300 ( μ m)，因为最后的微透镜列与邻接的微透镜列组之间的偏移也为150μπι，所以，在一个微透镜列组中，微透镜偏移合计450μπι的量。而且，因为在邻接的微透镜列组彼此之中，微透镜在垂直于扫描方向5的方向上偏移微小偏移F(例如,2 μ m)的量，所以，在邻接的微透镜列组间，微透镜偏移450+2=452 ( μ m)的量。
[0034]此外，除该微透镜阵列2的微透镜2a的配置方式以外的微透镜阵列2和曝光装置的结构能与图4至图9所示的结构同样地构成。
[0035]接下来，对如上述那样构成的本实施方式的微透镜阵列和曝光装置的动作进行说明。例如，固定基板I和掩模3,使微透镜阵列2和光源4相对于基板I和掩模3在扫描方向5上移动。这样，在基板I上关于垂直于扫描方向5的方向，首先，受到对微透镜排列在垂直于该扫描方向5的方向上的一列微透镜列的六边视野光圈12进行透射的曝光光的照射，接着，受到透射其后列的微透镜列的六边视野光圈12的曝光光的照射，进而，受到透射其后列的微透镜列的六边视野光圈12的曝光光的照射。此时，在基板中，关于垂直于扫描方向5的方向，通过该3列的微透镜列，像I个矩形部分、2个三角形部分、I个矩形部分、2个三角形部分、I个矩形部分、…那样，这些部分连续地受到曝光光的照射。因为两个三角形部分的合计面积与具有相当于该三角形部分的高度的宽度的矩形部分的面积相等，所以，结果是，基板通过3列的微透镜列(微透镜列组)关于垂直于扫描方向5的方向连续地受到均匀的光通量的曝光。以往如图9所示，由该3列的微透镜列构成的整个微透镜列组关于垂直于扫描方向5的方向对同一基板位置进行曝光。
[0036]在以往的如图9所示的微透镜的配置方式中，如果在微透镜不存在球面像差，就能对基板的整个区域无间隙地均匀地曝光。但是，如前所述，在各微透镜存在如图10所示的球面像差。即，随着从六边视野光圈12的中心朝向垂直于扫描方向5的方向的周边部，透射光通量降低。在扫描方向5上邻接的微透镜列中，六边视野光圈12的三角形部分对基板的同一部分重复曝光，因此，如图11 (a)所示，在该六边视野光圈12的周缘部，关于垂直于扫描方向5的方向，成为将曝光光通量降低的三角形部分和曝光光通量增大的三角形部分相加的光通量分布，因此，曝光光通量的变化稍微被抵消，如图11 (a)所示，虽然该光通量的变化的大小稍微变小，但是，成为关于垂直于扫描方向5的方向起伏的光通量分布。
[0037]如以往的图9那样，在排列有微透镜的情况下，各组的微透镜列组将与图11(a)的光通量分布相同的光通量分布按其原样地重叠而进行曝光，最终，基板上的曝光光的光通量分布按其原样地残留。然而，在本发明中，如图1和图2所示，因为在各组的微透镜列组中相邻接的组彼此偏移微小移位量F的量，所以，由各组造成的曝光光的光通量分布如图11(b)那样为图11 (a)的光通量分布按第I组、第2组、第3组…在垂直于扫描方向5的方向上依次各偏移F。因此，在图1的例如75组的微透镜列组全部对基板上进行曝光的情况下，如图11 (b)所示，曝光光的光通量分布的不均匀性被平坦化而被均匀化。因此，可在垂直于扫描方向5的方向上得到均匀的曝光光通量分布,能防止曝光不均。此外，对于扫描方向5，虽然在各微透镜中存在曝光光通量分布，但是，因为该光通量分布在扫描方向5上移动，所以，光通量分布的不均匀性被平坦化，因此，在扫描后的基板上不会残留光通量分布的不均匀性。
[0038]图3是在横轴上取总移位量TF，在纵轴上取曝光不均的比例(不均率)，对总移位量TF和不均率的关系进行仿真的曲线图。此外，图2所示的不均率的数值是对于在微透镜的配置关系为在图1中进行例示的尺寸的情况下的数值。如图3所示，相对于在微透镜列组没有移位的情况下(总移位量TF为O的情况下)存在6%以上的曝光不均率，在总移位量TF为150 μ m的情况下，即，在总移位量TF接近于各微透镜的最大曝光宽度R (=150 μ m)的情况下，曝光光通量的分布的不均匀性大致为0，曝光光通量的不均率极为接近0%。
[0039]另外，在总移位量TF为150 μ m的整数倍的情况下，曝光光通量的分布也大致为0，能防止曝光不均。这是因为，通过微透镜的位置在扫描方向5上整体中偏移微透镜的最大曝光宽度R或其整数倍的量，从而存在于微透镜的最大曝光宽度R内的曝光光通量的分布被抵消。当从该曝光光通量分布达到接近于O的值的微透镜的配置变成总移位量TF进一步增加的状态，即，增 添了微透镜列组的状态时，新出现与该增加的微透镜列组的量相应的量的曝光光通量的分布，因此，不均率增加。因此，优选以使总移位量TF与微透镜的最大曝光宽度R —致的方式决定微透镜的配置。
[0040]此外，在上述实施方式中，多边视野光圈是六边视野光圈12，微透镜列按每3列构成微透镜列组，但是，本发明不限于此，能采用各种方式。例如，通过微透镜规定基板上的视野的多边视野光圈不限于六边视野光圈，例如，也可以具有菱形、平行四边形或梯形等开口。例如，在该梯形(4边形)的视野光圈中，也能将视野区域分解为中央的矩形部分和其两侧的三角形部分。另外，构成一组微透镜列组的微透镜列不限于3列，例如，虽然在上述的梯形和平行四边形(横向长)的开口的情况下，每3列构成一个组，但是，在菱形和平行四边形(纵向长)的开口的情况下，变成每2列构成一个组。进而，图9所示的微透镜的排列如图12 (a)所不,关于扫描方向5以3列构成一个组,第4列的微透镜列与第I列微透镜列关于垂直于扫描方向5的方向配置在相同的位置，但是，根据所设计的透镜性能，透镜大小和视野宽度(六边视野光圈宽度)不同，因此，存在透镜间距间隔与视野宽度的比率变更的情况。在该情况下，如图12 (b)所示，当将透镜间距调整为视野宽度的整数倍时，也会产生不成为3列结构的情况。
[0041]产业上的可利用性
在如薄膜晶体管液晶基板和滤色镜基板等的扫描曝光那样需要对形成在玻璃基板上的抗蚀剂膜等进行多次、重合曝光来形成规定的图案的情况下，本发明即使对于垂直于扫描方向的方向也能防止产生曝光不均，因此，能应用于重合曝光。
[0042]附图标记说明
1:基板；
2:微透镜阵列；
2a:微透镜；
2— I~2 — 4:单位微透镜阵列；
3:掩模；
3a:透明基板；
3b:Cr 膜；
4:曝光光源；
5:扫描方向；
6:支承基板；
10:圆形开口光圈(透镜视野区域)；
12:六边视野光圈；
12a:矩形部分；
12b、12c:三角形部分。
【权利要求】
1.一种微透镜阵列，相互层叠多片以二维方式配置有多个微透镜的单位微透镜阵列而构成，所述微透镜阵列的特征在于， 在所述单位微透镜阵列间的反转成像位置配置有具有多边形的开口的多边视野光圈， 所述微透镜在第一方向上隔开适当长度间隔排列有多个而构成列，该多个微透镜列在与第一方向正交的第二方向上隔开适当长度间隔进行配置， 在将由所述多边视野光圈规定的视野区域分解成矩形和其两侧的三角形时，该一侧的三角形部分、矩形部分和另一侧的三角形部分在所述第一方向上相连， 在多个所述微透镜列中的每一个中， 所述微透镜以使其一侧的所述三角形部分与对于该微透镜在第二方向上邻接的另一个微透镜的另一侧的所述三角形部分关于所述第二方向重叠的方式，在所述第一方向上偏移地进行配置， 由所述多个微透镜列构成的微透镜列组相对于在其所述第二方向上邻接的另一个微透镜列组在所述第一方向上偏移比所述视野区域的所述第一方向上的长度短的距离的量进行配置。
2.一种使用微透镜阵列的扫描曝光装置，具有:微透镜阵列，配置在应曝光的基板的上方，相互层叠多片分别以二维方式配置有多个微透镜的单位微透镜阵列而构成；掩模，配置在该微透镜阵列的上方，形成有规定的曝光图案；曝光光源，对该掩模照射曝光光；以及移动装置，使所述微透镜阵列或所述基板以及所述掩模在一个方向上相对地移动，所述扫描曝光装置的特征在于， 在所述单位微透镜阵列间的反转成像位置配置有具有多边形的开口的多边视野光圈， 所述微透镜在第一方向上隔开适当长度间隔排列有多个而构成列，该多个微透镜列在与第一方向正交的第二方向上隔开适当长度间隔进行配置， 在将由所述多边视野光圈规定的视野区域分解成矩形和其两侧的三角形时，该一侧的三角形部分、矩形部分和另一侧的三角形部分在所述第一方向上相连， 在多个所述微透镜列中的每一个中， 所述微透镜以使其一侧的所述三角形部分与对于该微透镜在第二方向上邻接的另一个微透镜的另一侧的所述三角形部分关于所述第二方向重叠的方式，在所述第一方向上偏移地进行配置， 由所述多个微透镜列构成的微透镜列组相对于在其所述第二方向上邻接的另一个微透镜列组在所述第一方向上偏移比所述视野区域的所述第一方向上的长度短的距离的量进行配置。
3.根据权利要求2所述的 使用微透镜阵列的扫描曝光装置，其特征在于， 所述移动装置使所述微透镜阵列和光源相对于所述基板和所述掩模在所述第二方向上移动。
【文档编号】G02B5/00GK103907061SQ201280038389
【公开日】2014年7月2日 申请日期:2012年7月27日 优先权日:2011年8月3日
【发明者】水村通伸, 渡边由雄 申请人:株式会社V技术