投影单元和用于控制投影单元的方法

投影单元和用于控制投影单元的方法
【专利摘要】本发明公开了一种投影单元和一种用于控制该投影单元的方法，投影单元（1）带有发射光线的灯（2），特别是放电灯。光线发射到孔径（14）内。投影单元具有调节单元（8，10），通过该调节单元所发射的光线的光强分布或者说是热点至少在相对于孔径的轴（18）的方向（xyz）上是能够调节的。光强分布的调节能够根据灯的燃烧持续时间来实现。附加的或可替换的能够设置测量单元（20），借助测量单元能够确定在放电灯（2）的燃烧持续时间上的热点和光强分布的改变。如果确定此类改变，则通过调节单元（8，10）根据这种改变实现光强分布以及热点的位置的调节。
【专利说明】投影单元和用于控制投影单元的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种投影单元和一种用于控制投影单元的方法。
【背景技术】
[0002]在现有技术中已知许多投影单元。其中特别是在用于视频投影的投影单元和用于广告应用和娱乐应用的投影单元之间做出区分，用于视频投影的投影单元例如是液晶显示器(LCD)投影单元，数字光处理(DLP)投影单元或者硅基液晶(LCoS)投影单元，它们例如用于视频投影或者数字电影投影，用于广告应用和娱乐应用的投影单元例如是可动头(Movinghead)投影单元或者图形化光学薄板(Gobo)投影单元。这种投影单元通常使用放电灯用于产生光线。
[0003]放电灯的放电容器和在电极之间构造的电弧轴向地定位在抛物线的反射器或者椭圆形的反射器内。灯和相关的反射器的装置在下面也称为反射器-灯-装置(Reflektor-Lampen-Anordnung)。在使用椭圆形的反射器时,通常用于光福射的均勻化的光线积分器连接在该反射器下游。在光线积分器后面跟随的是投影单元的成像元件以及投影光学系统。因此光线从定位在反射器内的放电灯经由孔径发射到投影光学系统。孔径例如在DLP投影机中是光线积分器的光线入射开口的表面。多年来的趋势是投影单元的尺寸越来越小，而孔径的大小也缩小。为了能够继续实现高系统效率，所使用的放电灯的电弧越来越短，也就是说电极间距越来越短。这种趋势也适用于GoBo投影机和数字电影投影。此夕卜，更多地使用的带有越来越高的功率的放电灯。
[0004]这里的缺点是，由于电极的磨损在放电灯的运转时间上改变它的反射特征(例如在电极以及电极的光密度分布之间的电弧的空间位置和形状)，因此发射的光线的光强分布也相对于孔径改变，因此可以在孔径平面内以及垂直于孔径平面地移动，或者说是变化。这反过来又导致，射入到孔径内的放电灯的光通量部分通常在运转时间上由于这一改变和移动明显地减少，尽管由放电灯发射的总光通量几乎没有改变。

【发明内容】

[0005]与【背景技术】相反，本发明的目的是提供一种投影单元，通过它的孔径的投影单元的光通量在它的运转时间上相对大。本发明的另一个目的是提供一种用于控制这种投影单元的方法。
[0006]该目的在投影单元方面通过权利要求1的特征来实现，在该方法方面通过权利要求14的特征来实现。
[0007]特别有利的设计在从属权利要求中。
[0008]根据本发明，投影单元具有发射光线的反射器-灯-装置，该装置作为产生光线的元件特别是具有放电灯，例如交流电或者直流电工作的卤素-金属蒸汽灯或者交流电工作的汞超高压灯或者惰性气体高压灯。放电灯布置在在孔径内聚焦的反射器装置内。因此由反射器-灯-装置发射的光线发射到孔径内。放电灯的放电容器可以固定地集成到外部的反射器内并且由该反射器围绕。放电灯优选地轴向地布置在反射器内，例如在带有氙短弧灯的电影投影灯(胶片以及数字的)中情况也是如此。对此可替代的是，放电容器布置在单独的反射器内或者在它的上游，也就是说放电容器不一定必须固定地与反射器连接。放电容器可以相对于反射器轴轴向地或者横向地布置。
[0009]设置调节单元，借助该调节单元，所发射的光线的光强分布相对于孔径是可调节的。光强分布的调节根据放电灯的燃烧持续时间来实现和/或设置测量单元，借助该测量单元，光强分布的至少一部分是可检测的，其中根据光强分布的改变或者由此导出的、测量该光强分布的测量单元的调节量或者是由此导出的特性参数实现相对于孔径的光强分布的调节。
[0010]这个解决方法具有这一优点，即相对于孔径的光强分布的改变，例如是由于放电灯的电极的磨损，通过借助调节单元调节相对于孔径的光强分布是可平衡的。对于具有较少燃烧持续时间的投影单元，发射的光线的最大光强位于孔径区域内，其中该区域被称为热点。该热点通常在燃烧持续时间上由于投影单元的电极磨损或者电极变形远离孔径，例如一侧地在孔径平面内。通过根据本发明的投影单元，所使用的放电灯的使用寿命并且进而投影装置的使用寿命相对于现有技术可以明显提高，因为热点通过调节单元再次在孔径方向移动。此外，借助根据本发明的解决方案，在大约保持相同的使用寿命内实现投影单元的进一步的超微型化，因为热点通过再调节与孔径相吻合。
[0011]调节单元优选地这样调节发射的光线相对于孔径的光强分布，使得光强分布的最大值基本上位于孔径内。
[0012]测量单元的优点是至少检测光通量的没有通过孔径发射的部分的光强分布的一部分。这导致，光通量的通过孔径发射的部分基本上没有受到测量单元的干扰，而可以完全地用于投影光学系统。也可以间接地测量光强分布或者是它的一侧的偏移，例如借助温度传感器，该温度传感器测量围绕孔径开口的支架的加热，因为在单侧的光线偏移情况下，相应的一侧被更强烈地加热。
[0013]在本发明的另一个设计方案中，设置控制单元用于控制调节单元，其中控制单元根据由测量单元检测到的光强分布和/或根据放电灯的燃烧持续时间控制调节单元。
[0014]更优选的是，测量单元具有多个传感器，它们布置在孔径的外部，特别是基本上在孔径平面内，因此光通量的没有通过孔径发射的部分以简单的方式可被测量单元检测到。测量单元例如涉及光传感器和/或温度传感器和/或照相机。照相机测量投影面上的有效光的分布。
[0015]为了调节相对于孔径的光强分布，反射器-灯-装置的位置和/或放电灯相对于反射器的位置，和/或反射器-灯-装置和孔径之间的光学元件，例如镜子或者透镜的位置，和/或孔径的位置通过调节单元是可改变的。
[0016]在一个简单的设计方案中，调节单元至少具有一个电动机，特别是步进式电机，为了调节光强分布，借助于该步进式电机能够改变反射器-灯-装置的位置和/或放电灯的位置相对于反射器的位置和/或光学元件的位置和/或孔径的位置。
[0017]调节单元可以设计为偏转单元，为了调节光强分布，借助于该偏转单元能够偏转反射器-灯-装置的位置和/或放电灯的位置相对于反射器的位置和/或光学元件的位置和/或孔径的位置。[0018]投影单元涉及数字光处理(DLP)投影单元或者液晶显示器(IXD)投影单元或者硅基液晶(LCOS)投影单元或者图形化光学薄板(GoBo)投影单元或者电影投影单元(胶片或者数字的)。
[0019]投影单元也可以设计为多灯系统，特别是双倍或者四倍灯装置(Doppel-oderVierfachlampenanordnung),即带有一个,两个,或者几个反射器-灯-装置的系统。
[0020]灯优选地具有电极，该电极的几何形状通过电子的电极再构造方法(再成形方法)，例如在W02010086222，W02008071232或者DE102009006338中所描述的，是可改变的。根据本发明的方法现在以简单的方式实现，根据再成形方法再次制造光强分布相对于孔径开口的最佳位置。
[0021]调节单元优选地以大约l/10mm的步幅在孔径平面内调节相对于孔径的光强分布。
[0022]用于控制根据本发明的投影单元的根据本发明的方法具有以下步骤:
[0023]-借助测量单元检测光强分布的至少一部分，
[0024]-借助用于检测光强分布的改变的评估单元评估光强分布，
[0025]-借助用于平衡光强分布的改变的调节单元调节发射的光线相对于孔径的光强分布，
[0026]和/或具有步骤:
[0027]-借助用于平衡光强分布的改变的调节单元根据使用寿命调节发射的光线相对于孔径的光强分布。
【专利附图】

【附图说明】
[0028]接下来参照实施例进一步解释本发明。图中示出:
[0029]图1以示意性的图示示出根据第一实施例的投影单元
[0030]图2以正视图示出图1中的投影单元的孔径
[0031]图3以示意性的图示示出在图2中的孔径的区域内的光强分布
[0032]图4以示意性的图示示出在图2中的孔径的区域内的光强分布
[0033]图5以示意性的图示示出根据第二实施例的投影单元
[0034]图6以示意性的图示示出根据第三实施例的投影单元
[0035]图7以示意性的图示示出根据第四实施例的投影单元
[0036]图8以示意性的图示示出根据第五实施例的投影单元
[0037]图9以正视图示出图8中的投影单元的孔径
【具体实施方式】
[0038]图1在示意性的图示中公开了根据第一实施例的投影单元I。在这里涉及数字光处理(DLP)投影单元I。这种DLP投影单元在现有技术下是足够已知的，因此在下面只示出对于理解本发明来讲重要的部分，和在现有技术下指出进一步的解释。
[0039]投影单元I使用布置在壳体6内的OSRAM P-VIP反射器-灯-装置作为照明模块2，由椭圆形的反射器4和在其中轴向地定位的汞蒸气超高压灯(没有示出)组成。这种放电灯例如由出版物DE102008019648A1中已知。灯壳体6与三个电动机8，10，特别是电动的步进式电动机有效连接，其中在图1中只示出出两个电动机8和10。灯壳体6通过在图1中左侧的电动机8在y方向(在图1中是垂直方向)，通过布置在下方的电动机10在z方向(在图1中是水平方向)是可移动的。灯壳体6通过没有示出的电动机大约垂直于图1中的绘图平面在X方向是可移动的。
[0040]由没有示出的放电灯发射的光线经由发射器4基本上在孔径14的孔径平面12内聚焦。孔径14形成积分器16的入射开口，该积分器大约与投影单元I的光轴18同轴地布置。孔径14基本上以工作距离d与反射器4的出射开口隔开，其中孔径的中点通常布置在光轴18的区域内。测量单元20布置在孔径14的外部，大约在孔径平面12内，以便检测由放电灯发射的光线的光强分布的改变。测量单元20和孔径14 一起接下来在图2中被进一步阐释。
[0041]测量单元20通过电线22与评估和控制单元(ASIC) 24连接。该单元再次通过电线26与电动机8和10和没有示出的电动机连接，以便控制该电动机。在积分器16和照明模块2之间布置有传统的且用于DLP投影单元的普遍的色轮28。
[0042]图2在正视图中示出了孔径14连同图1中的测量单元20。孔径14具有大约矩形的带有两个长边和两个短边的横截面。测量单元20具有矩形的支持板30，矩形的孔径开口 14构造在该支持板内。支持板30的指向照明模块2的前侧34大约位于图1中的孔径平面12内。测量单元20具有四个固定地布置在支持板30上的传感器36，38，40和42。每一个传感器36，38，40和42大约中间地布置在支持板30上、在矩形的孔径14的外部的每一个边的区域内。其中与孔径14的间距是非常小的。传感器36至42因此同样大约位于在图1中的孔径平面12的区域内。
[0043]借助传感器36至42，由放电灯发射的光线的光强分布的一部分是可检测的。传感器36至42特别是涉及光传感器或者温度传感器。如果使用光传感器作为传感器36至42，每一个传感器36至42因此测量在时间上的、由放电灯发射的光线的入射在该传感器上
的福射量。
[0044]没有示出的放电灯的辐射特性改变，如在使用寿命过程中典型的，这会导致由于聚焦所产生的，并且布置在孔径区域内的光线的热点的移动和扩展。结果是投影单元I的系统效率在更短的使用寿命之后已经明显降低，尽管由放电灯给出的总光量在该时间段内只是稍微减少。如果例如由在图2中上方的传感器36检测到的光线的辐射量提高一个特定的值-基于辐射特性的改变-则这由评估和控制单元24检测到，该单元由此控制电动机
8,以便灯壳体6连同反射器4和放电灯一起在图1中的y方向向下移动,从而使由传感器36检测到的辐射量下降。灯壳体6由电动机8在y方向上这么远得推移，直至由传感器36至42检测到的辐射量基本上是相同的。评估和控制单元24因此在步进式电动机8上给出这么长的脉冲，直至由传感器36至42检测到的总辐射量再次被均匀地分布并且呈现最小值。
[0045]替代通过电动机8和10移动灯壳体6可以考虑的是，通过电动机调节孔径14和积分器16，以便对热点和由放电灯发射的光线的辐射特性的改变作出反应。
[0046]如果使用温度传感器作为传感器36至42，则例如导致在图2内上方的传感器36的方向上的光强分布的改变，也就是说辐射量在该区域内变得更大，为了提高在传感器36的区域内的温度，温度由该传感器检测到。评估和控制单元24然后通过电动机8在图1中的I方向向下推移灯壳体6，直至由传感器36至42所测量的温度基本上再次是均匀的。
[0047]在图3和4中示例性地示出在孔径平面12区域内的由图1中的放电灯发射的光线的光强分布。图3示出放电灯的燃烧持续时间为Oh (小时)的情况下的孔径14连同光强分布。孔径14具有大约5X3.8mm (毫米)的尺寸。通过孔径射入的光通量为大约145001m(流明)。在图3的图像44中示出光强分布的功能曲线图，该功能曲线图大约沿着测量线而被测量，该测量线水平地在图3中大约穿过孔径14的中心地延伸。图像46示出了沿着测量线的光强分布的功能曲线图，该测量线大约在图3中大约垂直地穿过孔径14的中心地延伸。可以看出，最大光强的区域大约是孔径14的中间。该区域是所谓的热点48。
[0048]图4示出了在放电灯的1700h的燃烧持续时间之后的在孔径14的区域内的由放电灯发射的光线的光强分布。通过具有大约5X3.8_大小的孔径的光通量大约为44001m。在图4的图像50中示出了光强的功能曲线图，该光强分布大约沿着测量线被测量，该测量线水平地在图4中大约在孔径14的上区域内延伸。可以看出，光强分布沿着该测量线基本上是均匀地分布的，从而使热点在该方向上扩展。图像54示出了沿着测量线的光强分布的功能曲线图，该测量线大约在图3中大约垂直地穿过孔径14的中心地延伸。图中示出，在孔径14的上区域内的光强基本上比在下区域内的光强更大。图3中的热点48因此在1700h的燃烧持续时间之后在图4中向上移动。这种移动由图2中的传感器36检测到，在该传感器中例如测量提高的光通量或者提高的温度。热点48借助图1和2中所描述的方法再次在孔径14的中心方向移动，也就是说光强分布的最大值在图像54中根据本方法再次位于孔径14的中点的区域内。在热点48移动之后通过孔径14的发射的光通量明显更高，大约为 60301m。
[0049]设计为步进式电动机的图1中的电动机8，10和没有示出的电动机的步幅为0.1mm是极为有利的。
[0050]图5在示意性的图示中示出了投影单元56的第二实施例。与图1中的投影单元I相区别的是，灯壳体6不是通过电动机，确切说是步进电动机调节，而是通过偏转单元58来调节。灯壳体6的指向积分器16的后方的壳体侧面60在光轴18的区域内与壳体6有效连接。这样设计偏转单元58，即它使得壳体6连同反射器4可以围绕X轴，和/或y轴和/或z轴(参见图5)偏转。偏转单元58通过电线61与评估和控制单元连接。
[0051]在图6中在示意性的图示中示出了根据第三实施例的投影单元62。与上述的实施例相区别的是，灯壳体6被固定地安置，并且在没有示出的放电灯和积分器16之间的光路内布置有带有偏转单元66的转向镜64。积分器16连同孔径14，测量单元20和色轮28在图6内基本上垂直于光轴18地布置。由没有示出的放电灯发射的光线通过转向镜64转向孔径14。光强分布的改变，或者说是热点的改变，参见图3和4，代替图1中的电动机8，10或者图5中的偏转单元58，通过偏转单元66来平衡，在其中使得转向镜64围绕x轴，x轴和/或z轴偏转。偏转单元66通过电线68与评估和控制单元24连接。
[0052]图7在示意性的图示中示出了根据第四实施例的投影单元70。这里涉及的是液晶显示器(LCD)投影单元或者硅基液晶(LCOS)投影单元。这种投影单元在现有技术下是足够已知的，因此在下面只示出对于理解本发明来讲重要的部分，和在现有技术下指出进一步的解释。
[0053]投影单元具有代替例如参见图1的积分器16的IXD元件72，其中IXD元件72的入射面形成孔径14。在反射器4和放电灯下游的光路中，光学元件以透镜74的形式布置在光轴18上。光学元件76以极化镜或者分色镜的飞眼形式设置在透镜74和IXD元件72之间。通过围绕IXD元件72布置的测量单元20，在IXD元件72处辐射过的光线与上述实施例一致地被检测。如果光强分布和热点的位置发生改变，则透镜74通过一个或者几个电动机78，特别是步进式电动机这样被调节，使得最大的光强和热点再次大约中间地布置在IXD元件上。电动机78通过电线80与评估和控制单元24连接。
[0054]在图8中在示意性的图示中示出了根据第五实施例的投影单元82。这里涉及的是图形化光学薄板(GoBo)投影单元。这种投影单元在现有技术下是足够已知的，因此在下面只示出对于理解本发明来讲重要的部分，和在现有技术水平下指出进一步的解释。GoBo投影单元82优选地用于广告用途(例如用于公司标志或者广告信息的投影)以及用于娱乐用途，例如可动头。
[0055]与图1中的DLP投影单元I相区别的是，投影单元82不具有积分器16，而是具有孔径84，GoBo轮86连接该孔径下游。该孔径84由具有基本上是圆柱形横截面的、测量单元92的支持板90的内部的圆柱侧面88所限定，它的纵轴大约与光轴18同轴地移动。借助孔径84与测量单元92间隔开，GoBo轮86之后被连接在其下游。
[0056]在图9中以正视图示出了孔径84连同测量单元92。可以看出孔径84的圆形的横截面。测量单元92的支持板90具有圆形的横截面。传感器94，96，98和100大约分别布置在支持板90的内部的圆柱侧面88和外部的圆柱侧面102之间。传感器94至100大约互相90°偏移地布置在支持板90上在分度圆(Teilkreis)上。投影单元82的原则上的工作原理与图1中的第一实施例一致。
[0057]上述图中的根据本发明的投影单元可以特别有利地用于多灯系统中，因为供每一个灯使用的有效孔径明显减少，该系统因此尤其对于热点的移动特别敏感。
[0058]在本发明的另一个实施例中可想象的是，提供投影单元，它不具有测量单元。在特定的放电灯中实现在燃烧持续时间上通常在特定的方向，例如与重力相反的热点的移动。对于这种放电灯，可以根据放电灯的燃烧持续时间为了改变光强分布实现投影单元的一部分的移动。作为用于调节单元的评估和控制单元的控制脉冲可以使用位置传感器的测量信号。对于这种投影单元，可以确定“平均的热点移动作为燃烧持续时间的功能”类型的曲线，并且灯的位置可以在该曲线基础上进行调整。
[0059]在另一个实施例中可以想象的是，根据上述实施例的传感器为基础的投影单元与在灯运转中用于优化电极的几何形状的方法进行组合。这种方法例如在W02010/086222A1中公开。这里涉及所谓的用于电极的再成形方法，这将在下面解释。与电极相对的电极尖端在放电灯的燃烧持续时间开始时具有最佳的基本几何形状，它借助在所谓的出版物中公开的再成形方法在尽可能长的时间间隔内保持稳定。尽管有再成形方法，但在燃烧持续时间内导致电极的电极尖端和进而导致光强，或者说是热点的改变和移动，这通过根据本发明的以传感器为基础的投影单元来补偿。在长的燃烧持续时间情况下，电极通常具有强烈碎裂的表面，带有只是相对小和薄的电极的电极尖端。通过在所谓的出版物中公开的再成形方法，在这种状态下实现电极的过熔，其优点是，为带有更有利的几何形状的电极尖端的重新出现提供前提条件。在每一个电极的电极头上的哪一个位置上出现当然不能清楚地预测，因此在该位置上也可以有利地使用以传感器为基础的投影单元，以便使热点再次布置在孔径的中间。
[0060]在可偏转的投影系统中，例如在娱乐行业中的效果光设备中，由于重力影响，根据放电灯的空间定位改变电极之间的电弧的准确位置和形状且进而改变光强。因此存在这样的可能性，使得即使不直接测量光强分布的改变，仅仅根据效果光设备的所测量的位置定位(例如通过确定安置角或者借助陀螺仪传感器)，借助所描述的调节相应地操控灯-反射器-装置，这样光强分布的最大值再次位于孔径开口的内部。可以使用调节参数，根据各个灯的类型，也根据工作时间来确定它，并且例如在查阅表(LUT)中作为调节量而使用。
[0061]在这里所描述的方法因此适用于基于照明模块的当前的位置定位来平衡弧变形的不利影响，即动态再调节。
[0062]可以想象的是，在上述的实施例中设置测量单元，它具有光传感器或者照相机，它测量到达投影屏幕上的有效光。
[0063]公开一种具有发射光线的灯，特别是放电灯的投影单元。光线发射到孔径内。投影单元具有调节单元，通过该调节单元所发射的光线的光强分布，或者说是热点至少在相对于孔径的轴的方向上是可调节的。光强分布的调节可以根据灯的燃烧持续时间和/或位置定位来实现。附加的或者可替代的是，可以设置测量单元，通过该测量单元能够确定在放电灯的燃烧持续时间上的热点，或者说是光强分布的改变。如果确定这种改变，则通过调节单元根据这种改变来实现光强分布，或者说是热点的位置的调节。
【权利要求】
1.一种具有反射器-灯-装置的投影单元，设计用于在运转中射出光线，其中所述光线发射到孔径(14，72，84)内，其中，设置有调节单元(8，10 ；58 ；66 ；78 ；)，借助所述调节单元能够调节所述发射的光线相对于孔径(14，72，84)的光强分布，其中所述光强分布的所述调节根据所述灯的燃烧持续时间来实现，和/或设置有测量单元(20，92)，借助所述测量单元能够测量所述光强分布的至少一部分，其中根据所述光强分布的改变，实现相对于所述孔径(14，72，84)的所述光强分布的调节。
2.根据权利要求1所述的投影单元，其中所述调节单元(8，10；58 ；66 ；78 ；)调节所述发射的光线相对于所述孔径(14，72，84)的所述光强分布，使得所述光强分布的最大值基本上位于所述孔径(14, 72，84)内。
3.根据权利要求1或2所述的投影单元，其中所述测量单元(20，92)检测所述光线没有通过所述孔径(14，72，84)发射的部分的所述光强分布的至少一部分。
4.根据前述权利要求任一项所述的投影单元，其中设置有用于控制所述调节单元(8，10 ；58 ；66 ;78 ;)的控制单元(24)，根据由所述测量单元(20，92)检测到的光强分布和/或根据所述灯的所述燃烧持续时间控制所述调节单元(8，10 ；58 ；66 ；78 ；)。
5.根据前述权利要求任一项所述的投影单元，其中所述测量单元(20，92)具有多个传感器(36至42，94至100)，特别是检测所述光强分布的光传感器和/或温度传感器和/或照相机，其中所述传感器(36至42，94至100)布置在所述孔径(14，72，84)的外部，特别是基本布置在孔径平面(12)内。
6.根据前述权利要求任一项所述的投影单元，其中为了调节相对于所述孔径(14，72，84)的所述光强分布，所述灯和/或光学元件(64，74)，特别是镜子(64)或者透镜(74)，和/或所述孔径(14，72，84) 的位置能够通过所述调节单元(8，10 ；58 ；66 ；78 ；)改变。
7.根据前述权利要求任一项所述的投影单元，其中所述调节单元(8，10;78)至少具有一个电动机(8，10 ;78)，特别是步进式电动机，为了调节所述光强分布，能够借助所述步进式电动机改变所述灯的灯壳体(6)和/或所述光学元件(74)和/或所述孔径(14，72，84)的位置和/或所述灯相对于反射器的位置。
8.根据前述权利要求1至7任一项所述的投影单元，其中所述调节单元设计为偏转单元(58 ;66)，为了调节所述光强分布，能够借助所述偏转单元偏转所述灯的所述灯壳体(6)和/或所述光学元件(64)和/或所述孔径(14，72，84)和/或所述灯相对于反射器的位置。
9.根据前述权利要求任一项所述的投影单元，其中所述投影单元是数字光处理(DLP)投影单元或者液晶显示器(LCD)投影单元或者硅基液晶(LCoS)投影单元或者图形化光学薄板(Gobo)投影单元。
10.根据前述权利要求任一项所述的投影单元，其中所述投影单元设计为多灯系统，特别是双倍或者四倍灯装置。
11.根据前述权利要求任一项所述的投影单元，其中所述灯具有电极，所述电极的几何形状能够通过再成形方法改变。
12.根据前述权利要求任一项所述的投影单元，其中所述光强分布能够通过所述调节单元相对于所述孔径(14，72，84)在所述孔径平面内以大约1/10_的步幅调节。
13.根据前述权利要求任一项所述的投影单元，其中所述放射器-灯-装置包括放电灯。
14.一种用于控制根据前述权利要求的投影单元的方法，具有以下步骤: -借助所述测量单元(20)检测所述光强分布的至少一部分， -借助用于检测所述光强分布的改变的评估单元(24)评估所述光强分布， -借助用于平衡所述光强分布的改变的所述调节单元(8，10 ；58 ；66 ；78 ；)调节所述发射的光线相对于所述孔径(14，72，84)的所述光强分布， 和/或包括以下步骤: -根据所述燃烧持续时间，借助所述调节单元(8，10 ；58 ；66 ；78 ；)调节所述发射的光线相对于所述孔径(14，72，84)的所述光强分布。
【文档编号】G03B21/20GK103842906SQ201280038906
【公开日】2014年6月4日 申请日期:2012年6月25日 优先权日:2011年8月9日
【发明者】诺贝特·马格 申请人:欧司朗有限公司