光扫描单元和包括其的电子照相成像设备的制作方法
【专利摘要】本发明提供一种光扫描单元和包括其的电子照相成像设备。该光扫描单元包括：光源，根据图像信号发射光束；光偏转器，偏转和扫描从光源发射的光束；以及同步探测光学系统，包括通过接收被光偏转器偏转和扫描的光束的一部分来探测同步信号的同步探测传感器和设置在光偏转器与同步探测传感器之间的同步探测透镜，其中同步探测透镜是变形透镜，在该变形透镜中在第一方向上的折射能力和在不同于第一方向的第二方向上的折射能力是不同的，其中同步探测透镜的第一方向关于主扫描方向倾斜，入射到同步探测透镜上的光束在该主扫描方向上被扫描。
【专利说明】光扫描单元和包括其的电子照相成像设备
【技术领域】
[0001]本公开涉及光扫描单元和包括其的成像设备，更具体地，涉及具有改善的结构的光扫描单元和包括该光扫描单元的成像设备，该光扫描单元包括用于探测水平同步信号的同步探测系统。
【背景技术】
[0002]光扫描单元将从光源发射的光扫描到预定区域上，其被用于不同的设备和装置，诸如电子照相成像设备、扫描显示装置等等。
[0003]由于光扫描单元通过利用被扫描的光来形成图像，所以确定扫描的起始位置和结束位置是重要的，因此光扫描单元包括用于使图像水平地同步的同步探测系统。
[0004]例如，在电子照相成像设备诸如激光束打印机、数字影印机或多功能打印机(MFP )中，光扫描单元通过在光电导鼓上扫描光束来形成静电潜像。所形成的静电潜像通过使用显影剂诸如调色剂而被显影为显影图像，该显影图像被转印到打印介质。在这样的成像设备中，如果在光电导鼓上被扫描的光束的扫描位置关于每一扫描行而不同，则发生图像偏移，而颜色彼此交叠以形成彩色图像的位置被移动。因此，为了实现高分辨率图像，需要使得扫描开始位置在计时上的变化最小化的同步探测系统。
【发明内容】
[0005]附加的方面和/或优点将在随后的描述中部分地阐述，并且部分地由该描述而显见，或者可以通过本发明的实践而习之。
[0006]本公开提供了一种光扫描单元和包括该光扫描单元的成像设备，在该光扫描单元中减小了由于光偏转器的光偏转表面的表面塌陷而导致的扫描开始位置的变化。
[0007]根据一个方面，提供了一种光扫描单兀，其包括:光源，根据图像信号发射光束；光偏转器，偏转和扫描从光源发射的光束；以及同步探测光学系统，包括通过接收被光偏转器偏转和扫描的光束的一部分来探测同步信号的同步探测传感器和设置在光偏转器与同步探测传感器之间的同步探测透镜，其中同步探测透镜是变形透镜，在该变形透镜中在第一方向上的折射能力和在不同于第一方向的第二方向上的折射能力是不同的，其中同步探测透镜的第一方向关于主扫描方向倾斜，入射到同步探测透镜上的光束在该主扫描方向上被扫描。
[0008]当沿着正交于主扫描方向的辅扫描平面观看时，从光源发射的光束可以倾斜地入射到光偏转器的偏转表面上。同步探测透镜的第一方向与主扫描方向之间的角Λ θ可以通过分别在主扫描方向和辅扫描方向上行进到同步探测透镜的光束关于光偏转器的入射角α和入射角β而被确定,该角Λ Θ独立于光偏转器的表面塌陷的程度。
[0009]同步探测透镜的第一方向与主扫描方向之间的角Λ Θ可以大于在辅扫描方向上光束关于光偏转器的入射角β。
[0010]同步探测透镜的第一方向与主扫描方向之间的角Λ Θ可以通过以下等式表示:[0011]〈等式〉
[0012]Δ θ = arctan (tan α.tan β )。
[0013]同步探测传感器可以具有矩形的探测表面，该探测表面的宽度方向可以以由以上等式表示的角Λ θ倾斜。
[0014]在辅扫描方向上光束关于光偏转器的入射角β可以在O至10度的范围内。在辅扫描方向上光束关于光偏转器的入射角β可以在2至4度的范围内。
[0015]在同步探测透镜的第一方向与主扫描方向之间的角Λ Θ可以在3至20度的范围内。
[0016]同步探测传感器可以具有矩形的探测表面，该探测表面的宽度方向关于主扫描方向倾斜。同步探测透镜的第一方向和探测表面的宽度方向可以彼此平行。备选地，探测表面的宽度方向可以关于主扫描方向倾斜。
[0017]同步探测透镜的第一方向可以正交于同步探测透镜的光轴，同步探测透镜的第二方向可以正交于同步探测透镜的光轴和第一方向两者。
[0018]同步探测透镜在第二方向上的折射能力可以大于同步探测透镜在第一方向上的折射能力。同步探测透镜可以通过在第二方向上的折射能力而在辅扫描方向上使光束成像在同步探测传感器的探测表面上。
[0019]当沿着正交于主扫描方向的辅扫描平面观看时，同步探测光学系统可以具有关于光偏转器的偏转表面和同步探测传感器的探测表面的结合关系。
[0020]变形透镜的至少一个外表面可以正交于主扫描方向，变形透镜的第一方向可以关于正交于主扫描方向的该至少一个外表面倾斜。变形透镜的至少一个外表面可以正交于第一方向，正交于第一方向的该至少一个外表面可以关于主扫描方向倾斜。
[0021]光源可包括分别发射第一和第二光束的第一和第二光源，其中当沿着正交于主扫描方向的辅扫描平面观看时，第一和第二光束以不同的角度入射到光偏转器的偏转表面，其中同步探测光学系统包括探测第一光束的同步信号的第一同步探测光学系统和探测第二光束的同步信号的第二同步探测光学系统中的至少一个。此外，光源可以还包括分别发射第三和第四光束的第三和第四光源，其中当沿着正交于主扫描方向的辅扫描平面观看时，第三和第四光束以不同的角度入射到光偏转器的偏转表面上，该偏转表面不同于偏转第一和第二光束的偏转表面，其中同步探测光学系统包括探测第三光束的同步信号的第三同步探测光学系统和探测第四光束的同步信号的第四同步探测光学系统中的至少一个。
[0022]同步探测光学系统可以设置在被光偏转器偏转和扫描的光的扫描线的开始端处。
[0023]光扫描单兀可以还包括设置在光源与光偏转器之间的入射光学系统。例如，入射光学系统可以包括:准直透镜，允许从光源发射的光束形成为准直光；孔径光阑，使得从光源发射的光束的光通量的横截面定形；以及柱面透镜，将从光源发射的光束在辅扫描方向上准直，该辅扫描方向平行于光偏转器的旋转轴。
[0024]光扫描单兀可以还包括成像光学系统，其在被扫描的表面上形成被光偏转器偏转和扫描的光束。
[0025]根据一个方面，提供了一种电子照相成像设备，其包括:光电导主体；光扫描单元，将光束扫描到光电导主体的被扫描的表面上以形成静电潜像；以及显影单元，通过供应调色剂到静电潜像来显影静电潜像，其中该光扫描单元包括:光源，根据图像信号发射光束；光偏转器，偏转和扫描从光源发射的光束；以及同步探测光学系统，包括通过接收被光偏转器偏转和扫描的光束的一部分来探测同步信号的同步探测传感器和设置在光偏转器与同步探测传感器之间的同步探测透镜，其中同步探测透镜是变形透镜，在该变形透镜中在第一方向上的折射能力和在不同于第一方向的第二方向上的折射能力是不同的，其中同步探测透镜的第一方向关于主扫描方向倾斜，入射到同步探测透镜上的光束在该主扫描方向上被扫描。
【专利附图】
【附图说明】
[0026]以上和其他特征和优点将通过参考附图详细描述其示范性实施方式而变得更明显，附图中:
[0027]图1是示出根据一个实施方式的光扫描单元的光学布置的示意图；
[0028]图2是示意图，示出在辅扫描平面上图1的光扫描单元从光源到被扫描的表面的光学布置;
[0029]图3是示意图，示出在辅扫描平面上图1的光扫描单元从光源到同步探测传感器的光学布置；
[0030]图4是示出图1的光扫描单元的同步探测光学系统的光学布置的示意图；
[0031]图5是在辅扫描平面上倾斜地入射到光偏转器上的光线的示意图；
[0032]图6是在辅扫描平面上被光偏转器反射地偏转的光线的示意图；
[0033]图7示出在图1的光扫描单元中的光偏转器中的表面塌陷；
[0034]图8示出通过图4的同步探测光学系统扫描的光束的轨迹；
[0035]图9是示意图，示出图1的光扫描单元的同步探测光学系统的光学布置；
[0036]图10是示意图，示出图1的光扫描单元的同步探测光学系统的光学布置；以及
[0037]图11是包括光扫描单元的电子照相成像设备的示意结构图。
【具体实施方式】
[0038]现在将参考附图更充分地描述本公开，在附图中示出示范性实施方式。在附图中，相同的附图标记指代相同的元件，为了清晰起见，层和区域的厚度被夸大。如这里所使用的，术语“和/或”包括相关列举项目的一个或多个的任意和所有组合。当诸如的至少一个”的表述在一列元件之前时，其修饰整列的元件而不修饰该列中的单个元件。
[0039]图1是示出在主扫描平面上光扫描单元100的光学布置的示意图。图2是示意图，不出在辅扫描平面上图1的光扫描单兀100从光源到被扫描的表面210a和210b的光学布置。图3是示意图，示出在辅扫描平面上图1的光扫描单元100中的同步探测光学系统的光学布置。参考图2和图3,附图标记150表不光偏转器,在此为了简化光路径，由光偏转器150进行的光的反射偏转被忽略。
[0040]在此说明书中，主扫描方向是指第一至第四光束L1、L2、L3和L4通过光偏转器150的旋转A而被偏转和扫描的偏转方向。从被扫描的表面210a、210b、210c和210d观看，光被光偏转器150偏转和扫描的方向B可以被认为是主扫描方向。此外，当从同步探测光学系统观看，例如，从第三同步探测传感器190c观看时，方向B’可以被认为是主扫描方向。
[0041]另外，主扫描平面是指当第一至第四光束L1、L2、L3和L4通过光偏转器150的旋转A而被偏转和扫描时第一至第四光束L1、L2、L3和L4中的每个处于其上的平面。对于第一至第四光束L1、L2、L3和L4中每个的主扫描平面同时平行于第一至第四光束L1、L2、L3和L4中每个的行进方向和主扫描方向，并且正交于光偏转器150的旋转轴。如下文将描述的，根据本发明当前实施方式的光扫描单元100包括倾斜光学系统，因此严格来说，第一至第四光束L1、L2、L3和L4具有关于彼此不同的主扫描平面；但是考虑到它们是对称的，为了方便描述起见，不出了图1中位于主扫描平面上的光扫描单兀100的光学系统。
[0042]辅扫描方向是主扫描平面的法线方向，其对应于被扫描的表面210a、210b、210c和210d根据光电导鼓210 (图12)的旋转而移动的方向，如下文将描述的。也就是说，辅扫描方向垂直于第一至第四光束L1、L2、L3和L4的行进方向和主扫描方向B或B’两者。
[0043]辅扫描平面是正交于主扫描方向并且平行于第一至第四光束L1、L2、L3和L4的行进方向和辅扫描方向两者的平面。在图2和图3中，不出了在关于第一光束LI和第二光束L2的公共辅扫描平面上光扫描单元100的光学系统。
[0044]参考图1至图3，光扫描单元100包括四个光源、即第一至第四光源110a、110b、IlOc和110d，所述第一至第四光源110a、110b、110c和IlOd分别发射四个光束、即第一至第四光束L1、L2、L3和L4。激光二极管可以被用作第一至第四光源110a、110b、IlOc和IlOd0第一至第四光源110a、110b、110c和IlOd可以发射根据与黑色(K)、品红色(M)、黄色(Y)和青色(C)的图像信息相应的图像信号调制的光束。
[0045]从四个光源、即第一至第四光源110a、110b、110c和IlOd发出的四个光束、即第一至第四光束L1、L2、L3和L4被一个光偏转器150偏转以被扫描。光偏转器150可以是例如旋转多面镜，其包括关于旋转轴旋转的多个反射表面，即偏转表面。备选地，光偏转器150可以是微机电系统(MEMS)镜。
[0046]在四个光源、即第一至第四光源110a、110b、110c和IlOd之中，第一光源IlOa和第二光源IlOb被布置为平行于主扫描方向，并且光源IlOc和IlOd可以被布置为平行于辅扫描方向。也就是说，从如图1中的主扫描平面观看，第一光源IIOa和第二光源IlOb可以被布置为交叠，第三光源IlOc和第四光源IlOd可以被布置为交叠。此外,第一光源IlOa和第二光源IlOb可以关于第三光源IlOc和第四光源IlOd对称地布置而光偏转器150位于其间。
[0047]入射光学系统可以设置在第一至第四光源110a、110b、IlOc和IlOd与光偏转器150之间的光路径上。入射光学系统可以包括分别设置在光路径上的四个准直透镜120a、120b、120c和120d、四个孔径光阑130a、130b、130c和130d、以及两个柱面透镜、即第一柱面透镜140ab和第二柱面透镜140cd中的至少一个。准直透镜120a、120b、120c和120d是允许从光源发射的光束形成为准直光或会聚光的聚光透镜。孔径光阑130a、130b、130c和130d使第一至第四光束L1、L2、L3和L4的光通量的横截面(即，其直径和形状)定形。第一柱面透镜140ab和第二柱面透镜140cd是变形透镜，其将第一至第四光束L1、L2、L3和L4在与辅扫描方向相应的方向上准直，以将第一至第四光束L1、L2、L3和L4在光偏转器150的偏转表面上形成为近似线性图像。第一柱面透镜140ab可以被用于分开入射并且平行于辅扫描方向的第一光束LI和第二光束L2，第二柱面透镜140cd可以被用于分开入射并且平行于辅扫描方向的第三光束L3和第四光束L4。备选地,也可为第一至第四光束L1、L2、L3和L4分别提供柱面透镜。此外，准直透镜120a、120b、120c和120d以及第一和第二柱面透镜140ab和140cd可以一体形成，使得光通量经由单个透镜聚焦在辅扫描方向上，并且将该光通量形成为在主扫描方向上的准直光或会聚光。虽然上文描述了孔径光阑130a、130b、130c和130d被布置在准直透镜120al20b、120c和120d与第一和第二柱面透镜140ab和140cd之间，但是孔径光阑130a、130b、130c和130d也可以被布置在入射光学系统中的不同位置，例如，在第一至第四光源110a、110b、IlOc和IlOd与准直透镜120a、120b、120c和120d之间或在第一和第二柱面透镜140ab和140cd与光偏转器150之间。
[0048]如上文所述的入射光学系统可以被布置为使得从四个光源、即第一至第四光源110a、IIOb、110c和IlOd发射的四个光束、即第一至第四光束L1、L2、L3和L4倾斜地入射到光偏转器150的偏转表面151上。此外，如图2和图3所示，四个光源、即第一至第四光源110a、110b、110c和IlOd之中，入射光学系统可以被设计为使得，当沿着辅扫描平面观看时，第一光束LI和第二光束L2对称地入射到光偏转器150的偏转表面151上。按类似方式，入射光学系统可以被设计为使得，当沿着辅扫描平面观看时，第三光束L3和第四光束L4对称地入射到光偏转器150的另一偏转表面151上。
[0049]在辅扫描平面上从第一光源IlOa发射的第一光束LI关于光偏转器150的偏转表面151的入射角β可以在O至10度的范围内，优选地，在2至4度的范围内。同样地，在辅扫描平面上从第二光源IlOb发射的第二光束L2关于光偏转器150的偏转表面151的入射角β可以在O至10度的范围内，优选地，在2至4度的范围内。如果第一至第四光束L1、L2、L3和L4的入射角β大，则当第一至第四光束L1、L2、L3和L4被光偏转器150偏转和扫描时它们可容易地被分开，但是成像光学系统可具有复杂的光学构造。因此，第一至第四光束L1、L2、L3和L4的入射角β可以根据需要的光学规格而确定。
[0050]如上文所述，因为入射光学系统是倾斜的光学系统，所以光扫描单元100能够通过使用单个光偏转器150来扫描多个光束，因此具有小尺寸的光扫描单元100和彩色成像设备可以由此形成来减少材料成本。
[0051]成像光学系统可以设置在光偏转器150与被扫描的表面210a、210b、210c和210d之间的光路径上。成像光学系统在被扫描的表面210a、210b、210c和210d上使得被光偏转器150偏转和扫描的第一至第四光束L1、L2、L3和L4成像。成像光学系统可包括非球面透镜，其具有以相同速度校正将要扫描到被扫描的表面210a、210b、210c和210d上的第一至第四光束L1、L2、L3和L4的特性。
[0052]例如，成像光学系统可包括设置在第一至第四光束L1、L2、L3和L4的每条光路径上的两个第一扫描透镜160ab和160cd以及四个第二扫描透镜170a、170b、170c和170d。在此，两个第一扫描透镜160ab和160cd具有在辅扫描方向上的近似零(O)的折射能力，四个第二扫描透镜170a、170b、170c和170d可以形成为具有成像光学系统所需的在辅扫描方向上的大部分折射能力。第一扫描透镜160ab和160cd之一,第一扫描透镜160ab可以被分开地偏转和扫描并且平行于辅扫描方向的第一光束LI和第二光束L2共用，另一个第一扫描透镜160cd可以被分开地偏转和扫描并且平行于辅扫描方向的第三光束L3和第四光束L4共用。
[0053]第二扫描透镜170a、170b、170c和170d可以被布置为使得其顶点(中心点)关于光轴在辅扫描方向上被偏转。也就是说，第二扫描透镜170a、170b、170c和170d可以被布置为使得第一至第四光束L1、L2、L3和L4在辅扫描方向上被偏转的同时穿过。例如根据下文将参考图1详细描述的设计示例，第二扫描透镜170a、170b、170c和170d可以被布置为使得其顶点在辅扫描方向上被偏转4.7mm。通过在被偏转位置上布置倾斜的光学系统，在被扫描的表面210a、210b、210c和210d上的扫描线曲率特性可以得到改善，第二扫描透镜170a、170b、170c和170d的入射表面和出射表面的有效表面可以减少。
[0054]虽然在当前实施方式中两个第一扫描透镜160ab和160cd被四个光束、即第一至第四光束L1、L2、L3和L4共用，但是也可为四个光束、即第一至第四光束L1、L2、L3和L4分别提供第一扫描透镜。此外，虽然根据当前实施方式的成像光学系统由用于每条光路径的两个扫描透镜组成，但是成像光学系统可由用于每条光路径的一个扫描透镜或者三个或更多扫描透镜组成。
[0055]可以适当地调节光路径的反射镜(未示出)可以进一步包括在成像光学系统之内或者插置在成像光学系统与被扫描的表面210a、210b、210c和210d之间。
[0056]用于探测被光偏转器150偏转和扫描的第一至第四光束L1、L2、L3和L4的同步信号的同步探测光学系统被提供。同步探测光学系统包括设置在被光偏转器150偏转和扫描的第一光束LI的光路径上的第一同步探测透镜180a和第一同步探测传感器190a。
[0057]如图1所示，第一同步探测透镜180a和第一同步探测传感器190a可以沿着光偏转器150的预定偏转表面151上被偏转和扫描的扫描线设置在主扫描开始的开始端。因此，第一同步探测传感器190a可以探测表明第一光束LI的扫描线的开始的同步信号。
[0058]当沿着主扫描平面观看时，第一光束LI和第二光束L2彼此交叠的同时被光偏转器150偏转和扫描，如图1所示，因此第二光束L2可以通过利用同步信号而与第一光束LI同步，通过利用第一同步探测传感器190a探测该同步信号。备选地，如图3所示，同步探测光学系统可以进一步包括设置在被光偏转器150偏转和扫描的第二光束L2的光路径上的第二同步探测透镜180b和第二同步探测传感器190b。第二同步探测透镜180b和第二同步探测传感器190b可以具有分别与第一同步探测透镜180a和第一同步探测传感器190a基本上相同的构造。同样地，如果额外地包括第二同步探测透镜180b和第二同步探测传感器190b，则通过使用第二同步探测传感器190b探测第二光束L2的同步信号可以对于第二光束L2执行更准确的同步操作。
[0059]此外，由于第一光束LI和第三光束L3关于其间的光偏转器150对称地布置，因此第三光束L3可以通过利用同步信号被同步，通过利用第一同步探测传感器190a探测该同步信号。备选地，如图1所示，同步探测光学系统可以进一步包括设置在被光偏转器150偏转和扫描的第三光束L3的光路径上的第三同步探测透镜180c和第三同步探测传感器190c。在此，第三同步探测透镜180c和第三同步探测传感器190c可以具有与上文所述的第一同步探测透镜180a和第二同步探测传感器190b基本上相同的构造，除了倾斜角Λ Θ之夕卜。同样地，如果额外地包括第三同步探测透镜180c和第三同步探测传感器190c，则通过使用第三同步探测传感器190c探测第三光束L3的同步信号可以执行更准确的同步操作。此外，关于第四光束L4，可以进一步包括第四同步探测透镜(未示出)和第四同步探测传感器(未不出)。
[0060]接下来，将详细描述同步探测光学系统。同步探测透镜和同步探测传感器的构造对于第一至第四光束L1、L2、L3和L4中的任一个基本上相同，因此在下文,光束将标记为L，同步探测透镜将标记为附图标记180，同步探测传感器将标记为附图标记190。[0061]图4是示意图，示出图1的光扫描单元100的同步探测光学系统的光学布置。参考图4，同步探测透镜180使得用于探测同步信号的光通量成像在同步探测传感器190的探测表面195上，以调节被光偏转器150偏转和扫描的光束L的扫描开始位置的计时。
[0062]同步探测透镜180可以被设计为使得光偏转器150的偏转表面151和同步探测传感器190的探测表面195具有彼此结合的关系。换句话说，如图3所示，同步探测透镜180可以形成为使得当光束L关于辅扫描平面在光偏转器150的偏转表面151上形成为图像时，图像可以形成在同步探测传感器190的探测表面195上。
[0063]同步探测透镜180可以是在第一方向181和不同于第一方向181的第二方向182上具有不同的折射能力的至少一个变形透镜。同步探测透镜180在第二方向182上的折射能力可以大于同步探测透镜180在第一方向181上的折射能力，使得光束L至少在辅扫描方向上成像在同步探测传感器190的探测表面195上。第一方向181正交于同步探测透镜180的光轴(即，Z方向),并且可以关于主扫描方向(Y方向)在顺时针方向上倾斜角Λ Θ。第二方向182正交于第一方向181和该光轴两者，并且可以关于辅扫描方向(X方向)在顺时针方向上倾斜角Δ θ。角Λ θ，如下文在等式9中所表示的，可以近似于角β和角α，光束L以角β和角α入射到光偏转器150上。在此，参考图1，关于第一光束LI在主扫描方向上的入射角ct I和关于第二光束L2在主扫描方向上的入射角α 2可以彼此不同。
[0064]同步探测传感器190是通过探测光束LI的被光偏转器150偏转和扫描的部分产生同步信号的装置，并且可以是例如光电二极管、光传感器IC等。同步探测传感器190的探测表面195可以具有在预定方向上延伸的矩形形状。在此，同步探测传感器190可以设置为使得探测表面195的宽度方向191关于主扫描方向Y在顺时针方向上倾斜，探测表面195的长度方向192关于辅扫描方向X倾斜。探测表面195的长度方向192是指该矩形形状的长侧延伸的方向。同步探测传感器190的倾斜角可以与同步探测透镜180的倾斜角Δ Θ相同。
[0065]当沿着入射表面183 (或出射表面)观看时，同步探测透镜180的外部形状可以是正方形(或矩形)，以促进同步探测透镜180在水平方向和竖直方向上对准。在此情况下，同步探测透镜180的第一方向181可以不正交于外表面185，而是可以倾斜角Λ Θ。同步探测透镜180的外表面185可以在正交于主扫描方向(Y方向)的同时安装在光扫描单兀100的外壳(未示出)中，由于此方法是典型的，所以可以使用常规的外壳和常规的透镜支架(未示出)而没有任何改变。
[0066]在下文，将参考图1至图8描述根据实施方式的光扫描单元100的操作。
[0067]图5是在辅扫描平面上在辅扫描方向上以入射角β倾斜地入射到光偏转器150上的光束L的示意图，图6是在主扫描平面上在主扫描方向上以入射角α被反射地偏转的光束L的不意图。参考图1,在主扫描方向上的入射角可以是在第一光束LI被导向第一同步探测传感器190a的情况下的角α1 (表1 )，或者在第三光束L3被导向第三同步探测传感器190c的情况下的角α 3 (表1)。
[0068]图7示出在图1的光扫描单元100中的光偏转器150中的表面塌陷(surfacecollapse),图8示出通过图4的同步探测光学系统而被扫描的光束L的轨迹。在图5和图6中，N是指垂直于光偏转器150的偏转表面151的法线。
[0069]假设入射到光偏转器150上的光束L的光线矢量P，如果光偏转器150的偏转表面151没有表面塌陷，则通过偏转表面151反射的光束L的光线矢量Q (O)可以被表不为以下的等式I。
[0070][等式I]
[0071]Q(O) = Rx (α -180).Mz.Rx ( α ).Ry ( β ).P，
[0072]其中光线矢量P可以被表示为以下的等式2。
[0073][等式2]
[0074]
【权利要求】
1.一种光扫描单兀，包括: 光源，根据图像信号发射光束； 光偏转器，偏转和扫描从所述光源发射的所述光束；以及 同步探测光学系统，包括通过接收被所述光偏转器偏转和扫描的所述光束的一部分来探测同步信号的同步探测传感器和设置在所述光偏转器与所述同步探测传感器之间的同步探测透镜， 其中所述同步探测透镜是变形透镜，在该变形透镜中在第一方向上的折射能力和在不同于所述第一方向的第二方向上的折射能力是不同的，其中所述同步探测透镜的所述第一方向关于主扫描方向倾斜，入射到所述同步探测透镜上的光束在所述主扫描方向上被扫描。
2.如权利要求1所述的光扫描单元，其中当沿着正交于所述主扫描方向的辅扫描平面观看时，从所述光源发射的所述光束倾斜地入射到所述光偏转器的偏转表面上。
3.如权利要求2所述的光扫描单元，其中所述同步探测透镜的所述第一方向与所述主扫描方向之间的Λ θ角是通过分别在所述主扫描方向和垂直于所述主扫描方向的辅扫描方向上行进到所述同步探测透镜的所述光束关于所述光偏转器的入射角α和入射角β而被确定，所述角Λ Θ独立于所述光偏转器的表面塌陷的程度。
4.如权利要求3所述的光扫描单元，其中所述同步探测透镜的所述第一方向与所述主扫描方向之间的所述角 Λ θ大于在所述辅扫描方向上所述光束关于所述光偏转器的入射角β。
5.如权利要求3所述的光扫描单元，其中所述同步探测透镜的所述第一方向与所述主扫描方向之间的所述角Λ Θ通过以下等式表示: 〈等式〉
Δ Θ = arctan (tan α.tan β )。
6.如权利要求5所述的光扫描单元，其中所述同步探测传感器具有矩形的探测表面，所述探测表面的宽度方向以由以上等式表示的所述角Λ Θ倾斜。
7.如权利要求3所述的光扫描单兀,其中在所述辅扫描方向上所述光束关于所述光偏转器的所述入射角β在O至10度的范围内。
8.如权利要求3所述的光扫描单元，其中所述同步探测透镜的所述第一方向与所述主扫描方向之间的所述角Λ Θ在3至20度的范围内。
9.如权利要求1所述的光扫描单元，其中所述同步探测传感器具有矩形的探测表面，所述探测表面的宽度方向关于所述主扫描方向倾斜。
10.如权利要求9所述的光扫描单元，其中所述同步探测透镜的所述第一方向与所述探测表面的宽度方向彼此平行。
11.如权利要求1所述的光扫描单元，其中所述同步探测透镜在所述第二方向上的折射能力大于所述同步探测透镜在所述第一方向上的折射能力。
12.如权利要求1所述的光扫描单元，其中所述变形透镜的至少一个外表面正交于所述主扫描方向，所述变形透镜的所述第一方向关于正交于所述主扫描方向的所述至少一个外表面倾斜。
13.如权利要求1所述的光扫描单元，其中所述变形透镜的至少一个外表面正交于所述第一方向，正交于所述第一方向的所述至少一个外表面关于所述主扫描方向倾斜。
14.一种电子照相成像设备，包括: 光电导主体； 如权利要求1至13中任一项所述的光扫描单兀,所述光扫描单兀在所述光电导主体的被扫描的表面上扫描光束以形成静电潜像；以及 显影单元，通过将调色剂供应到所述静电潜像来显影所述静电潜像。
【文档编号】G03G15/00GK103809289SQ201310312618
【公开日】2014年5月21日 申请日期:2013年7月24日 优先权日:2012年11月1日
【发明者】朴基成 申请人:三星电子株式会社