感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的组件的制作方法
【专利摘要】一种感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的组件。感光性聚硅氧烷组合物包括聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、含氮的杂环化合物(C)、以第四族元素的氧化物为主成分的无机粒子(D)以及溶剂(E)，其中含氮的杂环化合物(C)选自由式(1)至式(4)所表示的化合物所组成的族群。
【专利说明】感光性聚枯氧烧组合物、保护膜及具有保护膜的组件
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种聚娃氧焼组合物，并且特别涉及一种感光性聚娃氧焼组合物。
【背景技术】
[0002] 近年来，随着半导体工业、液晶显示器（liquid C巧stal display, LCD) W及有 机电激发光显示器（organic electro-luminescence display, OELD)的发展，伴随而来 对于尺寸缩小化的需求，使得光刻工艺（photolithogra地y)成为非常重要的议题。在光 刻工艺（地otolithography)中，必须将所需的图案（pattern)微细化（finer), W达到尺 寸缩小化的目的。一般而言，微细化的图案是由对具有高分辨率（resolution)及高感光 性（photosensitivity)的正型感光性组合物（positive photosensitive composition) 进行曝光及显影来形成。值得一提的是，正型感光性组合物通常是W聚娃氧焼高分子 (polysiloxane polymer)为主要成分。
[0003] 日本特开2008-107529号掲示一种可形成高透明度（transparency)硬化膜 化ardened film)的感光性树脂组合物。所述感光性树脂组合物包括聚娃氧焼高分子，其 中，上述聚娃氧焼高分子是由含有氧杂环下焼基（oxetanyl)或下二酸酢基（即氧基二撰 基（(Mydicarbonyl group))的娃焼单体于共聚合（copolymerize)时经开环反应而形成。 值得一提的是，所述的感光性树脂组合物因具有亲水性结构而在稀薄碱性显影液（a化ali developer)中具有高溶解度（solubility)。然而，由所述的感光性树脂组合物形成的保护 膜与具有保护膜的组件之间的粘附性（a化esion propedy)却不佳，且所述保护膜的低温 固化性（low-temperature州r油ility)目前仍无法被业界接受，因此不利于产业应用性。
[0004] 于是，急需发展一种感光性组合物，其所形成的保护膜与具有保护膜的组件之间 具有良好的低温固化性与粘附性。
【发明内容】
[0005] 本发明提供一种感光性聚娃氧焼组合物，其所形成的保护膜具有低温固化性且与 具有保护膜的组件之间具有良好的粘附性。
[0006] 本发明提供一种感光性聚娃氧焼组合物，其包括聚娃氧焼高分子（A)、邻 蔡酿二叠氮賴酸醋（o-naphthoquinonediazidesulfonate)炬）、含氮的杂环化合物 (nitrogen-containing heterocyclic compound) (C)、W第四族元素的氧化物为主成分的 无机粒子做W及溶剂巧）。含氮的杂环化合物似选自由式（1)至式（4)所表示的化合 物所组成的族群：
[0007]
【权利要求】
1. 一种感光性聚娃氧焼组合物，其特征在于，包括： 聚娃氧焼高分子（A); 邻蔡酿二叠氮賴酸醋炬）； 含氮的杂环化合物（C); W第四族元素的氧化物为主成分的无机粒子值）；W及 溶剂巧)， 其中该含氮的杂环化合物（C)选自由式（1)至式（4)所表示的化合物所组成的族群，
式（1)至式（4)中，公与X2各自独立表示氨原子、醜基或焼基；Ri至R9各自独立表示 氨原子、轻基、駿酸基、賴酸基、焼基、胺基、团素原子或琉基；m、n、q、s各自独立表示选自0、 1、2、3的整数；p、r各自独立表示选自0、1、2的整数；t、u各自独立表示选自0、1、2、3、4的 整数。
2. 根据权利要求1所述的感光性聚娃氧焼组合物，其特征在于，基于该聚娃氧焼高分
子（A)的总量为100重量份，该邻蔡酿二叠氮賴酸醋炬）的含量是1重量份至35重量份， 该含氮的杂环化合物（C)的含量是0. 1重量份至5重量份，该W第四族元素的氧化物为主 成分的无机粒子值）的含量是10重量份至150重量份，该溶剂巧）的含量是100重量份至 1000重量份。
3. 根据权利要求1所述的感光性聚娃氧焼组合物，其特征在于，该聚娃氧焼高分子（A) 是由式（5)所示的娃焼单体聚合形成， Si〇〇,(ORii)4_， 式巧） 式（5)中，RW表示氨原子、碳数为1至10的焼基、碳数为2至10的帰基、碳数为6至 15的芳香基、含有酸酢基的焼基、含有环氧基的焼基或含有环氧基的焼氧基；Rii各自独立 表示氨原子、碳数为1至6的焼基、碳数为1至6的醜基或碳数为6至15的芳香基；W表示 选自0、1、2、3的整数。
4. 根据权利要求3所述的感光性聚娃氧焼组合物，其特征在于，式（5)中，至少一个Ri" 包括含有酸酢基的焼基、含有环氧基的焼基或含有环氧基的焼氧基。
5. 根据权利要求1所述的感光性聚娃氧焼组合物，其特征在于，在该W第四族元素的 氧化物为主成分的无机粒子值）中，第四族元素为铁或铅。
6. 根据权利要求1或5所述的感光性聚娃氧焼组合物，其特征在于，该W第四族元素的 氧化物为主成分的无机粒子值）的粒径分布为Inm至75nm。
7. -种保护膜，其特征在于，包括根据权利要求1至6中任一项所述的感光性聚娃氧焼 组合物。
8. -种具有保护膜的组件，其特征在于，包括组件W及根据权利要求7所述的保护膜， 其中该保护膜覆盖在该组件上。
【文档编号】G03F7/075GK104423170SQ201410445831
【公开日】2015年3月18日 申请日期:2014年9月3日 优先权日:2013年9月10日
【发明者】吴明儒, 施俊安 申请人:奇美实业股份有限公司