一种厚层光刻胶涂覆装置制造方法
【专利摘要】厚层光刻胶涂覆装置，属于光刻【技术领域】，为解决现有技术无法进行上百微米的厚胶涂覆问题，承载平台上安装第一调节螺丝组，第一水平检测仪放置在承载平台上，承载平台上安装直线导轨副，其中两条导轨平行，直线导轨副上分别安装导轨滑套，两个导轨滑套通过两套高低调节组件与光刻胶涂覆移动机构相连，在光刻胶涂覆移动机构整体长度1/2处垂直安装第一推拉杆，第一推拉杆的另一侧通过万向轴承的一侧相连，第一推拉杆与第二推拉杆成一条直线，第二推拉杆与直线电机动子相连，直线电机定子固定在承载平台上；光学基底承载台安装在直线导轨副中间，其上放置光学基底，在光学基底承载台上安装第二调节螺丝组，第二水平检测仪设置在光学基底承载台上。
【专利说明】一种厚层光刻胶涂覆装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种厚层光刻胶涂覆装置，属于光刻【技术领域】。
【背景技术】
[0002]传统的微电子加工过程中所使用光刻胶的厚度通常在2微米以内，而厚层光刻胶光刻是一种制作深浮雕结构的技术，通常制作1213和连续微光学结构所用的光刻胶厚度为2微米到上百微米，有的甚至达到1毫米左右。
[0003]与本发明最为接近的已有技术是中国专利号为⑶19636718，发明名称为“光刻胶涂覆设备及光刻胶涂覆方法”，该发明公开了一种1X0光刻工艺中的光刻胶涂覆设备，包括:平台、光刻胶供给机构、喷嘴和喷嘴移动机构，其中喷嘴由光刻胶喷嘴和压缩空气喷嘴组成。且光刻胶喷嘴为多个，设置在喷嘴的中间位置或设置在喷嘴的两侧，或每个光刻胶喷嘴的周围包围多个压缩空气喷嘴。该发明同时公开了利用本发明的光刻胶涂敷设备涂敷光刻胶的方法。
[0004]该装置采用的是喷涂光刻胶的方法对1X0进行涂覆，要求使用粘稠度比较稀的光刻胶，专利原文中提到所涂覆的光刻胶平均厚度为2.2微米，此装置不适用于粘稠度比较稠的光刻胶涂覆，不能进行上百微米的厚胶涂覆。所以在进行厚胶涂覆时，需要提供一种实用的光刻胶涂覆装置。
【发明内容】
[0005]为了克服上述已有技术存在的缺陷，本发明提出一种简便可行的适用于微电子加工行业的一种厚层光刻胶涂覆装置。
[0006]解决技术问题的技术方案为:
[0007]一种厚层光刻胶涂覆装置，在承载平台上安装有第一调节螺丝组用于对承载平台调平，使用第一水平检测仪检测承载平台的水平度，在承载平台上安装有直线导轨副，直线导轨副的两条导轨成平行放置，每条直线导轨副上各安装一个导轨滑套，两个导轨滑套通过两套高低调节组件与光刻胶涂覆移动机构相连接，在光刻胶涂覆移动机构整体长度二分之一处垂直安装第一推拉杆，第一推拉杆的另一侧通过万向轴承的一侧相连接，第一推拉杆与第二推拉杆在万向轴承两侧成一条直线，第二推拉杆的另一侧与直线电机动子相连接，直线电机动子与直线电机定子共同组成直线电机，直线电机定子通过螺丝固定在承载平台上；光学基底承载台安装在直线导轨副中间，光学基底放置在光学基底承载台上，在光学基底承载台上安装有第二调节螺丝组用于对光学基底承载台调平，使用第二水平检测仪检测光学基底承载台的水平度，在光学基底承载台四周配置有固定螺丝组。
[0008]本发明的积极效果:本发明采用直线电机带动光刻胶涂敷机构在气浮导轨上运动，通过刮涂的方式可以在光学基底上得到厚度一致性较高的光刻胶膜层。在光刻【技术领域】，使用本发明中所述的厚层光刻胶涂覆装置进行进行上百微米的厚层光刻胶涂覆，为厚层光刻胶匀胶工艺提供科学的理论指导和实验依据。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1是现有技术的喷涂设备和工艺示意图。
[0010]图2是本发明一种厚层光刻胶涂覆装置结构示意图。
[0011]图3是本发明所述光刻胶涂覆移动机构的工作原理示意图。
[0012]图中:12、承载平台，13、第一调节螺丝组，14、第一水平检测仪，15、直线导轨副，16、导轨滑套，17、高低调节组件，18、光刻胶涂覆移动机构，19、第一推拉杆，20、万向轴承，21、第二推拉杆，22、直线电机定子，23、直线电机动子，24、光学基底，25、光学基底承载台，26、第二调节螺丝组，27、第二水平检测仪，28、光学基底固定螺丝组，29、光刻胶涂覆刀口，30、已涂覆的光刻胶膜层31、未涂覆的光刻胶。
【具体实施方式】
[0013]如图2所示，一种厚胶涂覆装置结构，其包括承载平台12、第一调节螺丝组13、第一水平检测仪14、直线导轨副15、导轨滑套16、高低调节组件17、光刻胶涂覆移动机构18、第一推拉杆19、万向轴承20、第二推拉杆21、直线电机定子22、直线电机动子23、光学基底24、光学基底承载台25、第二调节螺丝组26、第二水平检测仪27和光学基底固定螺丝组28。
[0014]在承载平台12上安装第一调节螺丝组13用于对承载平台12调平。使用第一水平检测仪14检测承载平台12的水平度。在承载平台12上安装直线导轨副15，直线导轨副15的两条导轨平行放置。每条直线导轨副15上各安装一个导轨滑套16，两个导轨滑套16通过两套高低调节组件17与光刻胶涂覆移动机构18相连接。在光刻胶涂覆移动机构18整体长度二分之一处垂直安装第一推拉杆19，第一推拉杆19的另一侧通过万向轴承20与第二推拉杆21相连接。第一推拉杆19与第二推拉杆21在万向轴承20两侧成一条直线，第二推拉杆21的另一侧与直线电机动子23相连接，直线电机动子23与直线电机定子22共同组成直线电机，直线电机定子22通过螺丝固定在承载平台12上；光学基底承载台25安装在直线导轨副15中间，光学基底24放置在光学基底承载台25上，在光学基底承载台25上安装有第二调节螺丝组26用于对光学基底承载台25调平，使用第二水平检测仪27检测光学基底承载台25的水平度，在光学基底承载台25四周配置有固定螺丝组28。
[0015]如图3所示，光刻胶涂覆移动机构的工作原理示意图，首先将未涂覆的光刻胶31滴在光学基底24上表面，其次通过光刻胶涂覆移动机构18带动光刻胶涂覆刀口 29在光学基底24上表面运动，将光刻胶均匀涂敷在光学基底24表面，形成已涂覆的光刻胶膜层30。
[0016]本发明中承载平台12采用大理石平板，第一水平检测仪14采用青岛前哨公司生产的水平度测量仪，直线导轨副15为铸铁导轨，导轨滑套16为铸铁导轨滑套，高低调节组件17为一维平移台，直线电机由美国？虹匕1~公司生产，光学基底24采用1(9光学玻璃经过光学加工制造而成，光学基底承载台25使用铸铁经过机械加工完成，光学基底上涂敷的光刻胶为日本产的1805型光刻胶，光刻胶涂覆装置中各个机械结构件均采用钢材经过机械加工制作完成。使用这台厚胶涂覆装置已经涂覆10-500 4 0的厚层光刻胶涂覆。
[0017]本发明基于上述装置实施的厚层光刻胶涂覆方法，如下:
[0018]步骤一，安装调平承载平台12，在承载平台12上安装第一调节螺丝组13，调节第一调节螺丝组13对承载平台12调平，使用第一水平检测仪14检测承载平台12的水平度。
[0019]步骤二，安装调平光学基底承载平台25，在承载平台12上摆放光学基底承载台25，光学基底承载台25上安装第二调节螺丝组26，用于对光学基底承载台25调平，使用第二水平检测仪27检测光学基底承载台25的水平度。
[0020]步骤三，调节光刻胶涂覆刀口 29与光学基底24的间距，在光学基底承载台25上放置光学基底24，在承载平台12上安装直线导轨副15，直线导轨副15的两条导轨平行放置，每条直线导轨副15上各安装一个导轨滑套16和高低调节组件17，通过高低调节组件17可以调节光刻胶涂覆移动机构18上的光刻胶涂覆刀口 29与光学基底24的间距。
[0021]步骤四，安装直线电机，在承载平台12上安装直线电机定子22，直线电机动子23与第二推拉杆21、万向轴承20、第一推拉杆19相连接，第一推拉杆19与光刻胶涂覆移动机构18垂直连接，通过直线电机动子23运动带动推拉杆运动，进而使光刻胶涂覆移动机构18运动。
[0022]步骤五，光刻胶涂覆，在光学基底24的表面上滴未涂覆的光刻胶31，通过光刻胶涂覆移动机构18带动光刻胶涂覆刀口 29运动，在光学基底24表面涂覆，形成已涂覆的光刻胶膜层30。
【权利要求】
1.一种厚层光刻胶涂覆装置，其特征是， 在承载平台(12)上安装有第一调节螺丝组(13)用于对承载平台(12)调平，使用第一水平检测仪(14)检测承载平台(12)的水平度； 在承载平台(12)上安装有直线导轨副(15),直线导轨副(15)的两条导轨成平行放置，每条直线导轨副(15)上各安装一个导轨滑套(16),两个导轨滑套(16)通过两套高低调节组件(17)与光刻胶涂覆移动机构(18)相连接； 在光刻胶涂覆移动机构(18)整体长度二分之一处垂直安装第一推拉杆(19),第一推拉杆(19)的另一侧通过万向轴承(20)与第二推拉杆(21)相连接，第一推拉杆(19)与第二推拉杆(21)在万向轴承(20)两侧成一条直线，第二推拉杆(21)的另一侧与直线电机动子(23)相连接； 直线电机动子(23)与直线电机定子(22)共同组成直线电机，直线电机定子(22)固定在承载平台(12)上； 光学基底承载台(25)安装在两条直线导轨副(15)之间，光学基底(24)放置在光学基底承载台(25)上，在光学基底承载台(25)上安装有第二调节螺丝组(26)用于对光学基底承载台(25)调平，使用第二水平检测仪(27)检测光学基底承载台(25)的水平度，在光学基底承载台(25)四周配置有固定螺丝组(281
【文档编号】G03F7/16GK104503209SQ201410798319
【公开日】2015年4月8日 申请日期:2014年12月19日 优先权日:2014年12月19日
【发明者】李文昊, 杨硕, 巴音贺希格, 齐向东, 赵旭龙, 姜岩秀, 焦庆斌 申请人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所