掩模去胶通用耐酸手臂的制作方法

本发明属于耐酸手臂技术领域，具体涉及掩模去胶通用耐酸手臂。

背景技术：

在半导体、集成电路、光伏产品等电子产品制造过程中，需要对以半导体晶片和光掩模板为代表的各种基板进行光刻处理，这些基板还包括液晶显示器、等离子体显示器用玻璃基板、磁盘、光磁盘母版等，以下统称为掩模版。在加工时，需要使用光致抗蚀材料在基板上形成集成电路和半导体器件的布局图案或者其它电路图案和数据图案。基板需要完成曝光、显影、刻蚀、去胶、检测等加工工艺，目前掩模去胶机是去胶使用的设备，通过硫酸，氨水,双氧水等溶液对蚀刻后残留的胶进行去除以及对检测后残留的小颗粒进行去胶。但由于掩模去胶机耐酸手臂的局限性，去胶5寸以及6寸掩模板时会需要多次去胶的问题，为此我们提出掩模去胶通用耐酸手臂。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供掩模去胶通用耐酸手臂，以解决上述背景技术中提出目前掩模去胶机是去胶使用的设备，通过硫酸，氨水,双氧水等溶液对蚀刻后残留的胶进行去除以及对检测后残留的小颗粒进行去胶。但由于掩模去胶机耐酸手臂的局限性，去胶5寸以及6寸掩模板时会需要多次去胶的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：掩模去胶通用耐酸手臂，包括臂管，所述臂管底端表面开设有连接孔，所述连接孔顶端开设有贯穿孔,所述贯穿孔与臂管内壁相互贯通，所述连接孔内部顶端设置有第一密封垫，所述臂管底端设置有第一扇形喷头，所述第一扇形喷头顶端分别设置有加固环、密封环以及第二密封垫，所述第一扇形喷头贯穿加固环、密封环以及第二密封垫，所述密封环位于加固环顶端，所述第二密封垫位于密封环顶端，所述第二密封垫、密封环以及第一扇形喷头顶端均位于连接孔内部，所述第一密封垫底端位于第一扇形喷头顶端。

优选的，所述连接孔数量为六，所述连接孔均匀分布在密封环底端表面。

优选的，所述两个相邻连接孔之间的间距为一点二厘米，所述臂管两端与连接孔之间的间距均为一厘米，所述臂管长度为八厘米。

优选的，所述第一扇形喷头均与加固环以及密封环固定连接，所述第二密封垫与密封环固定连接。

优选的，所述贯穿孔与连接孔相互贯通，所述第一密封垫内径与贯穿孔内径一致。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

通过将臂管长度设置为八厘米、将相邻两个连接孔间距设置为一点二厘米以及在连接孔加装第一扇形喷头，克服去胶五寸以及六寸掩模板需多次去胶的麻烦，能对不同的尺寸掩模板进行有效快速清除，不会再出现边角处无法去胶干净需二次去胶的麻烦，适应范围广，安全可靠。

附图说明

图1为本发明的耐酸手臂结构示意图；

图2为本发明的结构耐酸手臂剖视示意图；

图3为图2中的a处放大结构示意图；

图中：1、臂管；2、第一扇形喷头；3、加固环；4、贯穿孔；5、连接孔；6、密封环；7、第一密封垫；8、第二密封垫。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-图3，本发明提供一种技术方案：掩模去胶通用耐酸手臂，包括臂管1，臂管1底端表面开设有连接孔5，连接孔5顶端开设有贯穿孔4,贯穿孔4与臂管1内壁相互贯通，连接孔5内部顶端设置有第一密封垫7，臂管1底端设置有第一扇形喷头2，第一扇形喷头2顶端分别设置有加固环3、密封环6以及第二密封垫8，第一扇形喷头2贯穿加固环3、密封环6以及第二密封垫8，密封环6位于加固环3顶端，第二密封垫8位于密封环6顶端，第二密封垫8、密封环6以及第一扇形喷头2顶端均位于连接孔5内部，第一密封垫7底端位于第一扇形喷头2顶端。

为了便于开设连接孔5，本实施例中，优选的，连接孔5数量为六，连接孔5均匀分布在密封环6底端表面。

为了便于对不同的尺寸掩模板进行有效快速清除，本实施例中，优选的，两个相邻连接孔5之间的间距为一点二厘米，臂管1两端与连接孔5之间的间距均为一厘米，臂管1长度为八厘米。

为了便于固定加固环3，本实施例中，优选的，第一扇形喷头2均与加固环3以及密封环6固定连接，第二密封垫8与密封环6固定连接。

为了提升第一扇形喷头2与臂管1连接密封性，本实施例中，优选的，贯穿孔4与连接孔5相互贯通，第一密封垫7内径与贯穿孔4内径一致。

本发明的工作原理及使用流程：该装置完成后，通过将臂管1长度设置为八厘米、将相邻两个连接孔5间距设置为一点二厘米以及在连接孔5加装第一扇形喷头2，克服去胶五寸以及六寸掩模板需多次去胶的麻烦，能对不同的尺寸掩模板进行有效快速清除，不会再出现边角处无法去胶干净需二次去胶的麻烦，适应范围广，安全可靠。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

技术特征：

1.掩模去胶通用耐酸手臂，包括臂管(1)，其特征在于：所述臂管(1)底端表面开设有连接孔(5)，所述连接孔(5)顶端开设有贯穿孔(4),所述贯穿孔(4)与臂管(1)内壁相互贯通，所述连接孔(5)内部顶端设置有第一密封垫(7)，所述臂管(1)底端设置有第一扇形喷头(2)，所述第一扇形喷头(2)顶端分别设置有加固环(3)、密封环(6)以及第二密封垫(8)，所述第一扇形喷头(2)贯穿加固环(3)、密封环(6)以及第二密封垫(8)，所述密封环(6)位于加固环(3)顶端，所述第二密封垫(8)位于密封环(6)顶端，所述第二密封垫(8)、密封环(6)以及第一扇形喷头(2)顶端均位于连接孔(5)内部，所述第一密封垫(7)底端位于第一扇形喷头(2)顶端。

2.根据权利要求1所述的掩模去胶通用耐酸手臂，其特征在于：所述连接孔(5)数量为六，所述连接孔(5)均匀分布在密封环(6)底端表面。

3.根据权利要求1所述的掩模去胶通用耐酸手臂，其特征在于：所述两个相邻连接孔(5)之间的间距为一点二厘米，所述臂管(1)两端与连接孔(5)之间的间距均为一厘米，所述臂管(1)长度为八厘米。

4.根据权利要求1所述的掩模去胶通用耐酸手臂，其特征在于：所述第一扇形喷头(2)均与加固环(3)以及密封环(6)固定连接，所述第二密封垫(8)与密封环(6)固定连接。

5.根据权利要求1所述的掩模去胶通用耐酸手臂，其特征在于：所述贯穿孔(4)与连接孔(5)相互贯通，所述第一密封垫(7)内径与贯穿孔(4)内径一致。

技术总结
本发明公开了掩模去胶通用耐酸手臂，包括臂管，所述臂管底端表面开设有连接孔，所述连接孔顶端开设有贯穿孔,所述贯穿孔与臂管内壁相互贯通，所述连接孔内部顶端设置有第一密封垫，所述臂管底端设置有第一扇形喷头，所述第一扇形喷头顶端分别设置有加固环、密封环以及第二密封垫，所述第一扇形喷头贯穿加固环、密封环以及第二密封垫，所述密封环位于加固环顶端；通过将臂管长度设置为八厘米、将相邻两个连接孔间距设置为一点二厘米以及在连接孔加装第一扇形喷头，克服去胶五寸以及六寸掩模板需多次去胶的麻烦，能对不同的尺寸掩模板进行有效快速清除，不会再出现边角处无法去胶干净需二次去胶的麻烦，适应范围广，安全可靠。

技术研发人员：张月圆;薛文卿;朱磊
受保护的技术使用者：无锡中微掩模电子有限公司
技术研发日：2019.12.29
技术公布日：2020.04.10