一种光刻机台的制作方法

本实用新型涉及半导体技术领域，具体来说，涉及一种光刻机台。

背景技术：

光刻机是半导体产业中最关键设备，集成电路里的晶体管是通过光刻工艺在晶圆上做出来的，主要通过曝光显影技术将光透过掩膜版，通过曝光显影技术将光掩模上的图案以一定的比例转移到半导体硅片表面的光致抗蚀剂层上，硅片在光刻机台上光致抗蚀剂会先进行预烘烤，当温度比较高的时候，光致抗蚀剂由原来的液态变为固态，烘烤后的硅片在进行曝光前需要冷却至室温，因此硅片在进入曝光区进行曝光前需在光刻机台中等待一段时间，无法稳定机台内部曝光的温度，使得产品光刻精度以得到有效的保证，导致产品光刻精度下降。

针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

技术实现要素：

针对相关技术中的上述技术问题，本实用新型提出一种光刻机台，能够解决因光刻机硅片温度控制不好导致产品光刻精度下降的现象。

为实现上述技术目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：一种光刻机台，包括硅片轨道区和曝光区，所述硅片轨道区上设置有硅片输入台和硅片输出台，所述曝光区上设置有载出台、曝光台和载入台，所述硅片轨道区与所述曝光区之间连接有等待区，所述等待区上设置有可移动的硅片承座，所述等待区靠近所述硅片输入台一侧设置有制冷口，所述硅片轨道区靠近所述硅片输入台一侧设置有抽气口。

进一步的，所述硅片轨道区、等待区和曝光区均为方形形状。

进一步的，所述硅片承座上设置有承载硅片的硅片盒。

进一步的，所述等待区设置有加热硅片承座的加热系统。

本实用新型的有益效果：光刻机台上硅片的温度更加容易控制，有效的降低了硅片在曝光前烘烤的温度，提高光刻精度，抽风台也可以吸走光刻机台上的部分灰尘，降低了精密部件的损坏几率，提高了光刻速度，也实现了高效清洁的目的。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据本实用新型实施例所述的一种光刻机台的结构示意图。

图中：1、硅片输出台；2、硅片轨道区；3、硅片承座；4、载出台；5、曝光台；6、曝光区；7、载入台；8、制冷台；9、等待区；10、硅片输入台；11、抽气台。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如1图所示，根据本实用新型实施例所述的一种光刻机台，包括硅片轨道区2和曝光区6，所述硅片轨道区2上设置有硅片输入台10和硅片输出台1，所述曝光区6上设置有载出台4、曝光台5和载入台7，所述硅片轨道区2与所述曝光区6之间连接有等待区9，所述等待区9上设置有可移动的硅片承座3，所述等待区9靠近所述硅片输入台10一侧设置有制冷口8，所述硅片轨道区2靠近所述硅片输入台2一侧设置有抽气口11。

本优选实施例中，所述硅片轨道区2、等待区9和曝光区6均为方形形状。

本优选实施例中，所述硅片承座3上设置有承载硅片的硅片盒。

本优选实施例中，所述等待区9设置有加热硅片承座3的加热系统。

为了方便理解本实用新型的上述技术方案，以下通过具体使用方式上对本实用新型的上述技术方案进行详细说明。

在具体使用时，根据本实用新型所述的一种光刻机台，所述光刻机台上的制冷口通过空调设备进行温度调节，所述等待区上也设置有加热的装置，以光刻机台来说，将烘烤后的硅片放入到硅片轨道区，通过硅片输入台把硅片移动到等待区的硅片承座上，制冷口进行设定好的温度进行降温，将冷却好的硅片放到曝光区上的曝光口，曝光好后，抽气口开始进行空气清洁。这样冷却时间缩短了，提高了光刻速度，也实现了光刻机台的清理。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：

1.一种光刻机台，包括硅片轨道区(2)和曝光区(6)，其特征在于，所述硅片轨道区(2)上设置有硅片输入台(10)和硅片输出台(1)，所述曝光区(6)上设置有载出台(4)、曝光台(5)和载入台(7)，所述硅片轨道区(2)与所述曝光区(6)之间连接有等待区(9)，所述等待区(9)上设置有可移动的硅片承座(3)，所述等待区(9)靠近所述硅片输入台(10)一侧设置有制冷口(8)，所述硅片轨道区(2)靠近所述硅片输入台(10)一侧设置有抽气口(11)。

2.根据权利要求1所述的一种光刻机台，其特征在于，所述硅片轨道区(2)、等待区(9)和曝光区(6)均为方形形状。

3.根据权利要求1所述的一种光刻机台，其特征在于，所述硅片承座(3)上设置有承载硅片的硅片盒。

4.根据权利要求1所述的一种光刻机台，其特征在于，所述等待区(9)设置有加热硅片承座(3)的加热系统。

技术总结
本实用新型涉及一种光刻机台，包括硅片轨道区和曝光区，硅片轨道区上设置有硅片输入台和硅片输出台，曝光区上设置有载出台、曝光台和载入台，硅片轨道区与曝光区之间连接有等待区，等待区上设置有可移动的硅片承座，等待区靠近硅片输入台一侧设置有制冷口，硅片轨道区靠近硅片输入台一侧设置有抽气口；光刻机台上硅片的温度更加容易控制，有效的降低了硅片在曝光前烘烤的温度，提高光刻精度，抽风台也可以吸走光刻机台上的部分灰尘，降低了精密部件的损坏几率，提高了光刻速度，也实现了高效清洁的目的。

技术研发人员：冯唐荣;黄芳;欧阳涛;余贤
受保护的技术使用者：江西寻准智能科技有限责任公司
技术研发日：2019.11.05
技术公布日：2020.09.04