技术领域：
本发明属于光刻胶的制备领域，具体涉及一种表面性能优越的正性光刻胶添加剂组分
背景技术：
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随着液晶面板的应用越来越广泛，在市场带领下，其已经逐渐向大型与低成本化发展。作为精细加工的关键性材料，光刻胶已被广泛用于光电信息工程与微细图形的制备。随着国家的大力研发和投入，目前国内企业已经逐步从低端pcb光刻胶发展至液晶面板甚至终端光刻胶的量产。
光刻胶主要由感光树脂、光敏剂、溶剂和添加剂组成。在紫外光、电子束等照射或辐射下，其溶解度会发生变化，经过适当的显影，除去可溶性部分，可得到所需图像。光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶两类，随着集成电路的多样化，对光刻胶的要求也更高。其中正性光刻胶是液晶显示行业和微细图形加工的关键材料。目前的正性光刻胶主要含有重氮萘醌感光基团，在光照下进行反应，其分辨率高，图形线条清晰，灵敏度高。但是也有一些缺点，如粘附性较弱，稳定性差，在溶剂挥发过程中易产生缩孔等，这些都很大程度上限制了正性光刻胶的更广阔发展。
技术实现要素：
为了克服现有技术的不足，本发明的目的在于提供了一种表面性能优越的正性光刻胶添加剂组分，可以制备出粘附性良好、涂覆性能稳定、无缩孔现象的正性光刻胶。
为了实现上述目的，本发明采用的技术方案是：一种表面性能优越的正性光刻胶添加剂，包括亲脂性非离子型表面活性剂和粘度增加剂两部分，其中亲脂性非离子型表面活性剂主要为含硅的低聚物表面活性剂和含氟的表面活性剂。
在一个实施例中，含硅的低聚物表面活性剂为聚硅氧烷类或改性聚硅氧烷类或非硅聚合物。
在一个实施例中，所述含氟的表面活性剂为全氟磺酰基化合物类。
在一个实施例中，所述粘度增加剂为甲基丙烯酸酯类、聚醚改性丙烯酸酯类、羟基乙基类其中的一种。
在一个实施例中，所述含氟的表面活性剂、含硅的低聚物表面活性剂和粘度增加剂的质量比为1：(5-10)：(1-5)。
本发明的主要有益效果是：
由于传统使用重氮萘醌磺酸酯作为感光剂的正性光刻胶虽然分辨率高，图案线条清晰度高，但是其难于精制，烘干过程中易产生缩孔，粘附性和稳定性较差。本专利公布的添加剂组分有利于减少孔洞的发生，容易制得表面性能优越的正性光刻胶。
具体实施方式：
下面结合实施例对本发明做进一步详细说明。
实施例一：
一种表面性能优越的正性光刻胶添加剂，由聚硅氧烷类、全氟磺酰基化合物类和甲基丙烯酸酯类组成，其质量比为聚硅氧烷类：全氟磺酰基化合物类：甲基丙烯酸酯类＝5:1:1，即由52.3g聚硅氧烷类、5.23g全氟磺酰基化合物类和5.23g甲基丙烯酸酯类组成。
实施例二：
一种表面性能优越的正性光刻胶添加剂，由聚硅氧烷类、全氟磺酰基化合物类和羟基乙基类组成，其质量比为聚硅氧烷类：全氟磺酰基化合物类：羟基乙基类＝6.4:1:3.7，即由64.0g聚硅氧烷类、10.0g全氟磺酰基化合物类和37.0g羟基乙基类组成。
实施例三：
一种表面性能优越的正性光刻胶添加剂组分，由改性聚硅氧烷类、全氟磺酰基化合物类和羟基乙基类组成，其质量比为改性聚硅氧烷类：全氟磺酰基化合物类：羟基乙基类＝8.24:1:2.76，即由70.86g改性聚硅氧烷类、8.6g全氟磺酰基化合物类和23.74g羟基乙基类组成。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例。对于本技术领域的技术人员来说，在不脱离本发明技术构思前提下所得到的改进和变换也应视为本发明的保护范围。
1.一种表面性能优越的正性光刻胶添加剂，其特征在于，包括亲脂性非离子型表面活性剂和粘度增加剂；其中，
亲脂性非离子型表面活性剂包括含硅的低聚物表面活性剂和含氟的表面活性剂。
2.按照权利要求1所述的表面性能优越的正性光刻胶添加剂，其特征在于：所述含硅的低聚物表面活性剂为聚硅氧烷类或改性聚硅氧烷类或非硅聚合物。
3.按照权利要求1所述的表面性能优越的正性光刻胶添加剂，其特征在于所述含氟的表面活性剂为全氟磺酰基化合物类。
4.按照权利要求1所述的表面性能优越的正性光刻胶添加剂，其特征在于：粘度增加剂为甲基丙烯酸酯类、聚醚改性丙烯酸酯类、羟基乙基类其中的一种。
5.按照权利要求1所述的表面性能优越的正性光刻胶添加剂，其特征在于：含氟的表面活性剂、含硅的低聚物表面活性剂和粘度增加剂的质量比为1：5-10：1-5。