一种光刻机基片定位设备的制作方法

本实用新型涉及光刻机技术领域，特别是涉及一种光刻机基片定位设备。

背景技术：

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。在进行光刻时可通过光刻机内的定位设备进行夹持定位。

但是现有的技术存在以下的不足：

1、现有的光刻机通常分为手动式、半自动式以及全自动式，手动式的光刻机定位精度不高，而自动式的光刻机成本较高，所以半自动式的光刻机的使用频率较高，在对基片进行定位时，为了防止定位跑偏，通常需要用手将基片的一端按压住，操作起来较为不方便。

2、而且光刻机定位设备通常是通过气缸推进夹持，虽然夹持紧固，但是气缸在推进时的作用力较大，可能会造成基片的损伤。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种光刻机基片定位设备，以解决现有的光刻机基片定位设备，操作起来不方便和可能会造成基片的损伤的问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种光刻机基片定位设备，包括基座；

所述基座包括通过螺丝固定在其右端的侧挡板，所述侧挡板左侧设置有压制板，所述压制板底部前后两侧固定有弹簧二，且所述弹簧二底部均与基座焊接，所述压制板顶部中间固定有连接螺母一，且所述连接螺母一正上方设置有与侧挡板焊接的连接螺母二，所述连接螺母二内螺纹连接有抵紧栓；

所述基座上方左侧设置有夹持板，所述夹持板左端固定有推进轴，且所述夹持板底部中间设有与其为一体的滑块；

所述夹持板左侧设置有与基座固定的气缸，所述推进轴左端与气缸的动力输出端固定；

所述基座顶部横向开设有长槽，且所述长槽内壁前后两侧均开设有侧槽，所述长槽内设置有缓冲块，所述缓冲块前后两侧设有与其为一体的侧板，所述缓冲块右端固定有弹簧一，所述弹簧一右端与长槽内壁右端嵌接。

具体的，所述连接螺母一与连接螺母二内壁分布的螺纹相同且直径相等，且所述抵紧栓顶部直径大于连接螺母二的直径。

具体的，所述压制板与基座平行布置，且所述压制板右端紧靠侧挡板左侧。

具体的，所述滑块伸入至长槽中，且所述滑块左右两端分别与夹持板左右两端持平。

具体的，所述缓冲块位于滑块右侧，且所述缓冲块顶面与基座顶面相平。

具体的，两块所述侧板分别卡入于两个所述侧槽中，且所述缓冲块通过侧板与侧槽滑动连接。

与现有技术相比，本实用新型实现的有益效果：

通过设置缓冲块、滑块、弹簧一和侧板，能够有效的抵消夹持板移动时的一部分作用力，对基板的磨损较小，以解决现有的光刻机基片定位设备，可能会造成基片的损伤的问题；同时通过设置压制板、连接螺母一、连接螺母二、抵紧栓和弹簧二，从在定位过程中而无需使用者用手将基片压住，使用较为方便，以解决现有的光刻机基片定位设备，操作起来不方便的问题。

附图说明

图1为本实用新型整体结构示意图；

图2为本实用新型结构侧板的局部示意图；

图3为本实用新型结构夹持板的局部示意图；

图4为本实用新型结构图1的a局部放大示意图。

图中：1-基座、2-夹持板、3-推进轴、4-气缸、5-长槽、6-缓冲块、7-侧板、8-弹簧一、9-侧槽、10-压制板、11-连接螺母一、12-连接螺母二、13-抵紧栓、14-弹簧二、15-侧挡板、16-滑块。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种光刻机基片定位设备，包括基座1；

所述基座1包括通过螺丝固定在其右端的侧挡板15，所述侧挡板15左侧设置有压制板10，所述压制板10与基座1平行布置，且所述压制板10右端紧靠侧挡板15左侧，所述压制板10底部前后两侧固定有弹簧二14，且所述弹簧二14底部均与基座1焊接，所述压制板10顶部中间固定有连接螺母一11，且所述连接螺母一11正上方设置有与侧挡板15焊接的连接螺母二12，所述连接螺母一11与连接螺母二12内壁分布的螺纹相同且直径相等，且所述抵紧栓13顶部直径大于连接螺母二12的直径，所述连接螺母二12内螺纹连接有抵紧栓13；

所述基座1上方左侧设置有夹持板2，所述夹持板2左端固定有推进轴3，且所述夹持板2底部中间设有与其为一体的滑块16，所述滑块16伸入至长槽5中，且所述滑块16左右两端分别与夹持板2左右两端持平；

在对一批基片夹持定位时，可将基片放置于夹持板2与侧挡板15之间，然后将基片向右推动，使得基片右端与侧挡板15接触并位于压制板10下方即可，然后按压压制板10，弹簧二14便可收缩，直至压制板10与基片接触后即可，接着转动抵紧栓13，使得抵紧栓13底端螺纹连接于连接螺母一11中，直至抵紧栓13底端螺纹连接于连接螺母一11内即可，从而便可通过压制板10压制住基片右端，从在定位过程中而无需使用者用手将基片压住，使用较为方便，若需要定位尺寸不一的另批基片时，将抵紧栓13底部从连接螺母一11拧出并重新调节压制板10的高度即可；

所述夹持板2左侧设置有与基座1固定的气缸4，所述推进轴3左端与气缸4的动力输出端固定；

所述基座1顶部横向开设有长槽5，且所述长槽5内壁前后两侧均开设有侧槽9，所述长槽5内设置有缓冲块6，所述缓冲块6位于滑块16右侧，且所述缓冲块6顶面与基座1顶面相平，所述缓冲块6前后两侧设有与其为一体的侧板7，两块所述侧板7分别卡入于两个所述侧槽9中，且所述缓冲块6通过侧板7与侧槽9滑动连接，所述缓冲块6右端固定有弹簧一8，所述弹簧一8右端与长槽5内壁右端嵌接。

基片右端被压住后，再将气缸4与气泵连接并配合使用，从而使得推进轴3向右推进，同时一并推进夹持板2，夹持板2在推进时可使得滑块16沿着长槽5进行滑动，当滑块16逐渐向右移动并与缓冲块6接触后，其移动时的作用力将作用给缓冲块6，弹簧一8便可压缩，从而缓冲块6即可通过侧板7沿着侧槽9进行滑动，从而抵消夹持板2移动时的一部分作用力，当夹持板2逐渐移动并与基板左侧接触后，基板便可夹在夹持板2与侧挡板15之间，对基板的损伤较小。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

技术特征：

1.一种光刻机基片定位设备，包括基座（1），其特征在于：

所述基座（1）包括通过螺丝固定在其右端的侧挡板（15），所述侧挡板（15）左侧设置有压制板（10），所述压制板（10）底部前后两侧固定有弹簧二（14），且所述弹簧二（14）底部均与基座（1）焊接，所述压制板（10）顶部中间固定有连接螺母一（11），且所述连接螺母一（11）正上方设置有与侧挡板（15）焊接的连接螺母二（12），所述连接螺母二（12）内螺纹连接有抵紧栓（13）；

所述基座（1）上方左侧设置有夹持板（2），所述夹持板（2）左端固定有推进轴（3），且所述夹持板（2）底部中间设有与其为一体的滑块（16）；

所述夹持板（2）左侧设置有与基座（1）固定的气缸（4），所述推进轴（3）左端与气缸（4）的动力输出端固定；

所述基座（1）顶部横向开设有长槽（5），且所述长槽（5）内壁前后两侧均开设有侧槽（9），所述长槽（5）内设置有缓冲块（6），所述缓冲块（6）前后两侧设有与其为一体的侧板（7），所述缓冲块（6）右端固定有弹簧一（8），所述弹簧一（8）右端与长槽（5）内壁右端嵌接。

2.如权利要求1所述的一种光刻机基片定位设备，其特征在于：所述连接螺母一（11）与连接螺母二（12）内壁分布的螺纹相同且直径相等，且所述抵紧栓（13）顶部直径大于连接螺母二（12）的直径。

3.如权利要求1所述的一种光刻机基片定位设备，其特征在于：所述压制板（10）与基座（1）平行布置，且所述压制板（10）右端紧靠侧挡板（15）左侧。

4.如权利要求1所述的一种光刻机基片定位设备，其特征在于：所述滑块（16）伸入至长槽（5）中，且所述滑块（16）左右两端分别与夹持板（2）左右两端持平。

5.如权利要求4所述的一种光刻机基片定位设备，其特征在于：所述缓冲块（6）位于滑块（16）右侧，且所述缓冲块（6）顶面与基座（1）顶面相平。

6.如权利要求1所述的一种光刻机基片定位设备，其特征在于：两块所述侧板（7）分别卡入于两个所述侧槽（9）中，且所述缓冲块（6）通过侧板（7）与侧槽（9）滑动连接。

技术总结
本实用新型公开了一种光刻机基片定位设备，特别是涉及光刻机技术领域，包括基座；基座包括通过螺丝固定在其右端的侧挡板，侧挡板左侧设置有压制板，压制板底部前后两侧固定有弹簧二，且弹簧二底部均与基座焊接，压制板顶部中间固定有连接螺母一，本实用新型的有益效果在于：通过设置缓冲块、滑块、弹簧一和侧板，能够有效的抵消夹持板移动时的一部分作用力，对基板的磨损较小，以解决现有的光刻机基片定位设备，可能会造成基片的损伤的问题；同时通过设置压制板、连接螺母一、连接螺母二、抵紧栓和弹簧二，从在定位过程中而无需使用者用手将基片压住，使用较为方便，以解决现有的光刻机基片定位设备，操作起来不方便的问题。

技术研发人员：不公告发明人
受保护的技术使用者：薛广梅
技术研发日：2020.06.05
技术公布日：2021.03.19