技术特征：
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：掩模版、至少一组投影物镜及感光基板，所述投影物镜包括：第一成像镜头及第二成像镜头；曝光光束可照射所述掩模版的图案成像，并经过所述第一成像镜头形成中间像面，再通过所述第二成像镜头曝光于所述感光基板；所述第一成像镜头及第二成像镜头关于所述中间像面镜头对称。2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述投影物镜仅有一组。3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述投影物镜具有1至n组，所述曝光装置还包括：分光系统及1至n个照明单元；所述分光系统适于将光源等分为1至n个光源光束，以对应进入所述1至n个照明单元；所述照明单元适于将对应光源光束匀化与整形以形成对应分光后的1至n个曝光光束，分光后的1至n个曝光光束可照射至掩模版的对应图案，并入射至对应1至n组投影物镜；n为大于或等于2的自然数。4.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模版图案设置为可由投影物镜曝光视场投射，所述感光基板的待曝光区域可对应设置为由所述投影物镜曝光视场投影的子曝光区域；所述曝光装置还包括：曝光系统、运动台及掩模台；所述曝光系统适于：在曝光时使曝光光束照射投影物镜曝光视场当前掩模版图案，并经该投影物镜将所述被照射的掩模版图案通过掩模版与感光基板在水平面同步扫描运动投影至当前的子曝光区域，以形成当前子曝光图案；通过所述掩模版与感光基板在水平面按照s形轨迹同步扫描运动以继续将所述掩模版被照射的图案投影至下一个子曝光区域，以完成当前曝光场场内子曝光区域的拼接曝光，从而实现当前曝光场曝光；调整所述运动台及掩模台使所述掩模版与感光基板在水平面相对运动以继续将所述掩模版图案投影至下一个曝光场的子曝光区域，以完成下一个曝光场的拼接曝光；直至感光基板上所有需要曝光的曝光场均完成曝光。5.如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模版图案设置为可由投影物镜曝光视场投射的子掩模版图案，所述感光基板的待曝光区域可对应设置为由所述投影物镜曝光视场投影的子曝光区域；所述曝光装置还包括：曝光系统、运动台及掩模台；所述曝光系统适于：在曝光时使曝光光束照射投影物镜曝光视场当前子掩模版图案，并经该投影物镜将所述掩模版图案投影至当前的子曝光区域，掩模版与感光基板在水平面同步扫描运动以形成当前子曝光图案；调整所述运动台及掩模台使所述掩模版与感光基板在水平面按照s形轨迹同步扫描运动以继续将所述掩模版图案投影至下一个子曝光区域，以形成下一个子曝光图案，以实现感光基板所有需要曝光区域的扫描拼接曝光。6.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模版图案可对应设置为分别由1至n组投影物镜曝光视场投射的第1至第n个子掩模版图案，所述感光基板的待曝光区域可对应设置为由所述1至n组投影物镜曝光视场投影的子曝光区域组，所述子曝光区域组由所述1至n组投影物镜曝光视场可同时投影形成的第1至n个子曝光区域组成；所述曝光装置还包括：曝光系统、运动台及掩模台；所述曝光系统适于：在曝光时使分光后的1至n个曝光光束分别照射所述1至n组投影物镜曝光视场对应的第1至第n个子掩模版图案，并经该所述1至n组投影物镜将所述第1至第n个子掩模版图案投影至当前的子曝光区域组，通过掩模版与感光基板在水平面同步扫描运动以形成当前曝光场图案；调整所述运动台使所述掩模版与感光基板在水平面相对运动，以继续将所述掩模版图案投影至下一个曝光场区域，以完成下一个曝光场曝光；直至感光基板上所有需要曝光的曝光场均完成曝光。7.如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述掩模版图案可对应设置为分别由1
至n组投影物镜曝光视场投射的子掩模版图案组，所述子掩模版图案组由所述1至n组投影物镜曝光视场可同时投影的第1至n个子掩模版图案组成，所述第一所述感光基板的待曝光区域可对应设置为由所述1至n组投影物镜曝光视场投影的子曝光区域组，所述子曝光区域组由所述1至n组投影物镜曝光视场可同时投影形成的第1至n个子曝光区域组成；所述曝光装置还包括：曝光系统、运动台及掩模台；所述曝光系统适于：在曝光时使分光后的1至n个曝光光束分别照射所述1至n组投影物镜曝光视场对应的子掩模版图案组，并经该所述1至n组投影物镜将当前子掩模版图案组投影至当前的子曝光区域组，掩模版与感光基板在水平面同步扫描运动以形成当前子曝光图案；调整所述运动台及掩模台使所述掩模版与感光基板在水平面按照s形轨迹同步扫描运动，以继续将下一个子掩模版图案组投影至下一个子曝光区域组以形成下一个子曝光图案，以实现感光基板所有需要曝光区域的扫描拼接曝光。8.如权利要求4至7任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述投影物镜曝光视场的视场形状为六边形、梯形、三角形、平行四边形或菱形。9.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第一成像镜头由1至m个第一镜片组成，所述第二成像镜头由1至m个第二镜片组成；所述1至m个第一镜片与所述1至m个第二镜片相同且关于所述中间像面镜片对称设置，m为大于或等于2的自然数。10.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述投影物镜的放大倍率为正一倍，物像方数值孔径相同；所述第一成像镜头的放大倍率为负一倍，物像方数值孔径相同；所述第二成像镜头的放大倍率为负一倍，物像方数值孔径相同。11.一种适用于如权利要求1所述曝光装置的调整装置，其特征在于，包括：调整系统及多个调整元件，所述调整元件至少设于所述投影物镜与所述掩模版之间、所述投影物镜内及所述投影物镜与所述感光基板之间的至少一种曝光光束所经过的位置上；所述调整系统适于对所述调整元件进行调整以对所述曝光光束进行光路调整。12.如权利要求11所述的调整装置，其特征在于，所述调整系统包括：对倍率解耦调整单元，所述调整元件包括：对倍率解耦元件；所述对称倍率解耦元件至少包括第一对称倍率解耦元件及第二对称倍率解耦元件，所述第一对称倍率解耦元件设于所述第一成像镜头内，所述第二对称倍率解耦元件设于所述第二成像镜头内；所述第一对称倍率解耦元件与第二对称倍率解耦元件之间具有空气距离；所述对称倍率解耦调整单元适于调整所述第一对称倍率解耦元件及第二对称倍率解耦元件的沿光轴平移，调制所述空气距离，以矫正所述投影物镜的倍率误差。13.如权利要求11所述的调整装置，其特征在于，所述调整系统包括：第一楔形元件控制单元，所述调整元件包括：第一楔形元件组；所述第一楔形元件组包括：第一楔形元件及第二楔形元件，所述第一楔形元件具有第一斜面及第一斜角，所述第二楔形元件具有第二斜面及所述第一斜角；所述第一楔形元件组设于所述投影物镜与所述掩模版之间、所述第一成像镜头与所述中间像面之间、所述中间像面与所述第二成像镜头之间或所述投影物镜与所述感光基板之间；所述第一楔形元件控制单元适于控制所述第一楔形元件及第二楔形元件之间沿斜面相对运动，以调整对应投影物镜的焦面差异。14.如权利要求11所述的调整装置，其特征在于，所述调整系统包括：第二楔形元件控制单元，所述调整元件包括：第二楔形元件组；所述第二楔形元件组包括：第三楔形元件及
第四楔形元件，所述第三楔形元件具有第三斜面及第二斜角，所述第四楔形元件具有第四斜面及所述第二斜角；所述第二楔形元件组设于所述投影物镜与所述掩模版之间、所述第一成像镜头与所述中间像面之间、所述中间像面与所述第二成像镜头之间或所述投影物镜与所述感光基板之间；所述第二楔形元件控制单元适于控制所述第二楔形元件组倾斜，以调整对应投影物镜的非对称倍率误差。15.如权利要求11所述的调整装置，其特征在于，所述调整系统包括：平板控制单元，所述调整元件包括：平板元件；所述平板元件设于所述投影物镜与所述掩模版之间、所述第一成像镜头与所述中间像面之间、所述中间像面与所述第二成像镜头之间或所述投影物镜与所述感光基板之间；所述平板控制单元适于控制所述平板元件相对于y轴与光轴平面绕x轴旋转或相对于x轴与光轴平面绕y轴方向旋转，以调整像点在x轴或y轴平移。
技术总结
本发明提供一种曝光装置及适用于该曝光装置的调整装置。所述曝光装置包括：掩模版、至少一组投影物镜及感光基板，所述投影物镜包括：第一成像镜头及第二成像镜头；曝光光束可照射所述掩模版的图案成像，并经过所述第一成像镜头形成中间像面，再通过所述第二成像镜头曝光于所述感光基板；所述第一成像镜头及第二成像镜头关于所述中间像面镜头对称。本发明能够提高曝光装置的镜头视场利用率。够提高曝光装置的镜头视场利用率。够提高曝光装置的镜头视场利用率。
技术研发人员：ꢀ(74)专利代理机构
受保护的技术使用者：上海度宁科技有限公司
技术研发日：2021.09.26
技术公布日：2021/12/27