
1.本实用新型涉及纳米压印技术领域,具体为一种新型纳米压印设备。
背景技术:2.纳米压印技术近年来备受光学器件的欢迎,其中微透镜阵列结构尤为火热,传统用于制作微透镜阵列的纳米压印设备是通过上下两个基板缓慢靠近将胶体挤压扩散来填充结构,然而上下两个基板的平行度很难把控,如果两个基板之间存在一定角度就会造成胶层厚度差值较大扩散不均匀,为此,我们提出一种新型纳米压印设备。
技术实现要素:3.本实用新型的目的在于提供多一种新型纳米压印设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
4.为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种新型纳米压印设备,包括腔体,所述腔体的顶壁安装有支撑箱和光源,所述支撑箱的底部嵌设有玻璃板;
5.所述腔体的底壁安装有固定柱,所述固定柱的顶端焊接有下板体,所述下板体的顶部设有第一球槽,所述第一球槽内焊接有球体,所述下板体的上方设有上板体,所述上板体的底部设有第二球槽,所述球体的顶端位于第二球槽内;
6.所述上板体的外侧壁焊接有安装环,所述安装环的底部设有驱动机构,所述安装环的底部设有弹性机构,所述安装环的顶部贴合有移动环,所述驱动机构的顶端安装在移动环的底部,所述移动环的内侧壁安装有真空吸盘。
7.优选的,所述玻璃板包括板体,所述板体的底部设有吸附环槽,所述吸附环槽的顶壁设有吸孔,所述吸孔与真空泵相连接。
8.优选的,所述弹性机构包括圆环,所述圆环的内侧壁焊接在下板体的外侧壁上,所述圆环的顶部焊接有弹簧,所述弹簧的数量为三个,所述弹簧的顶端焊接在安装环的底部。
9.优选的,所述驱动机构包括气缸,所述气缸的数量为三个,所述气缸的缸体顶端固定安装在安装环的底部,所述安装环的底部设有通孔,所述通孔的数量为三个,所述气缸的顶部设有伸缩杆,所述伸缩杆的顶端穿过通孔焊接在移动环的底部。
10.优选的,所述光源为紫外灯。
11.优选的,所述真空吸盘的底部安装有加热板。
12.与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型通过在固定柱的顶部设有球体,球体通过第二球槽与上板体连接,上板体的外侧壁安装有安装环,安装环的底部设有三个驱动机构,通过三个驱动机构和球体与第二球槽的配合使用可以实现真空吸盘角度调整,解决压印厚度和胶体扩散不均匀的问题。
附图说明
13.图1为本实用新型的整体示意图。
14.图2为本实用新型的玻璃板底视图。
15.图中:1、腔体,2、支撑箱,3、玻璃板,4、光源,5、固定柱,6、下板体,7、第一球槽,8、球体,9、上板体,10、第二球槽,11、安装环,12、弹性机构,13、驱动机构,14、移动环,15、真空吸盘,16、板体,17、吸附环槽,18、吸孔,19、圆环,20、弹簧,21、气缸,22、伸缩杆,23、通孔,24、加热板。
具体实施方式
16.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
17.请参阅图1和图2,本实用新型提供一种技术方案:一种新型纳米压印设备,包括腔体1,腔体1的顶壁安装有支撑箱2和光源4,支撑箱2的底部嵌设有玻璃板3;
18.腔体1的底壁安装有固定柱5,固定柱5的顶端焊接有下板体6,下板体6的顶部设有第一球槽7,第一球槽7内焊接有球体8,下板体6的上方设有上板体9,上板体9的底部设有第二球槽10,球体8的顶端位于第二球槽10内;
19.第二球槽10的内壁与球体8的表面可相对滑动,且在第二球槽10的内壁与球体8的表面之间涂有润滑油。
20.上板体9的外侧壁焊接有安装环11,安装环11的底部设有驱动机构13,安装环11的底部设有弹性机构12,安装环11的顶部贴合有移动环14,驱动机构13的顶端安装在移动环14的底部,移动环14的内侧壁安装有真空吸盘15。
21.具体而言,玻璃板3包括板体16,板体16的底部设有吸附环槽17,吸附环槽17的顶壁设有吸孔18,吸孔18与真空泵相连接。
22.具体而言,弹性机构12包括圆环19,圆环19的内侧壁焊接在下板体6的外侧壁上,圆环19的顶部焊接有弹簧20,弹簧20的数量为三个,弹簧20的顶端焊接在安装环11的底部。
23.图1所示的弹簧20处于伸展拉长状态,三个弹簧20均布在安装环11的底部。
24.具体而言,驱动机构13包括气缸21,气缸21的数量为三个,气缸21的缸体顶端固定安装在安装环11的底部,安装环11的底部设有通孔23,通孔23的数量为三个,气缸21的顶部设有伸缩杆22,伸缩杆22的顶端穿过通孔23焊接在移动环14的底部。
25.三个气缸21的压力一致。
26.具体而言,光源4为紫外灯。
27.具体而言,真空吸盘15的底部安装有加热板24。
28.工作原理:将工作模具通过真空吸附在玻璃板3的底部,将基板真空吸附在真空吸盘15上,并在基板的顶部滴入光刻压印胶,通过弹簧20的弹性效果使第二球槽10的内壁中点处始终与球体8的顶端中点处保持一致,保持真空吸盘15与基板的水平状态,通过气缸21的伸缩杆22带动真空吸盘15与基板向上运动,使基板与模具贴合。
29.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
技术特征:1.一种新型纳米压印设备,其特征在于:包括腔体(1),所述腔体(1)的顶壁安装有支撑箱(2)和光源(4),所述支撑箱(2)的底部嵌设有玻璃板(3);所述腔体(1)的底壁安装有固定柱(5),所述固定柱(5)的顶端焊接有下板体(6),所述下板体(6)的顶部设有第一球槽(7),所述第一球槽(7)内焊接有球体(8),所述下板体(6)的上方设有上板体(9),所述上板体(9)的底部设有第二球槽(10),所述球体(8)的顶端位于第二球槽(10)内;所述上板体(9)的外侧壁焊接有安装环(11),所述安装环(11)的底部设有驱动机构(13),所述安装环(11)的底部设有弹性机构(12),所述安装环(11)的顶部贴合有移动环(14),所述驱动机构(13)的顶端安装在移动环(14)的底部,所述移动环(14)的内侧壁安装有真空吸盘(15)。2.根据权利要求1所述的一种新型纳米压印设备,其特征在于:所述玻璃板(3)包括板体(16),所述板体(16)的底部设有吸附环槽(17),所述吸附环槽(17)的顶壁设有吸孔(18),所述吸孔(18)与真空泵相连接。3.根据权利要求1所述的一种新型纳米压印设备,其特征在于:所述弹性机构(12)包括圆环(19),所述圆环(19)的内侧壁焊接在下板体(6)的外侧壁上,所述圆环(19)的顶部焊接有弹簧(20),所述弹簧(20)的数量为三个,所述弹簧(20)的顶端焊接在安装环(11)的底部。4.根据权利要求1所述的一种新型纳米压印设备,其特征在于:所述驱动机构(13)包括气缸(21),所述气缸(21)的数量为三个,所述气缸(21)的缸体顶端固定安装在安装环(11)的底部,所述安装环(11)的底部设有通孔(23),所述通孔(23)的数量为三个,所述气缸(21)的顶部设有伸缩杆(22),所述伸缩杆(22)的顶端穿过通孔(23)焊接在移动环(14)的底部。5.根据权利要求1所述的一种新型纳米压印设备,其特征在于:所述光源(4)为紫外灯。6.根据权利要求1所述的一种新型纳米压印设备,其特征在于:所述真空吸盘(15)的底部安装有加热板(24)。
技术总结本实用新型公开了一种新型纳米压印设备,包括腔体,腔体的顶壁安装有支撑箱和光源,支撑箱的底部嵌设有玻璃板,腔体的底壁安装有固定柱,固定柱的顶端焊接有下板体,下板体的顶部设有第一球槽,第一球槽内焊接有球体,下板体的上方设有上板体,上板体的底部设有第二球槽,球体的顶端位于第二球槽内,本实用新型通过在固定柱的顶部设有球体,球体通过第二球槽与上板体连接,上板体的外侧壁安装有安装环,安装环的底部设有三个驱动机构,通过三个驱动机构和球体与第二球槽的配合使用可以实现真空吸盘角度调整,解决压印厚度和胶体扩散不均匀的问题。匀的问题。匀的问题。
技术研发人员:冀然
受保护的技术使用者:青岛天仁微纳科技有限责任公司
技术研发日:2021.12.02
技术公布日:2023/1/5