光学各向异性层的制作方法

文档序号:34032101发布日期:2023-05-05 12:25阅读:47来源:国知局
光学各向异性层的制作方法

本发明涉及一种光学各向异性层。


背景技术:

1、具有折射率各向异性的相位差层(光学各向异性层)适用于显示装置的防反射膜及液晶显示装置的光学补偿膜等各种用途。

2、作为使用液晶化合物而形成的光学各向异性层,如专利文献1所述,公开有由多个层构成的层叠型光学各向异性层。

3、以往技术文献

4、专利文献

5、专利文献1:日本特开2018-036657号公报


技术实现思路

1、发明要解决的技术课题

2、以往,在制造如专利文献1所述的层叠型光学各向异性层时,通过对每一层进行涂布而形成层叠的光学各向异性层。因此,通过变更形成各层的条件,能够改变光学各向异性层中的厚度方向上的液晶化合物的取向状态。

3、另外,用于形成光学各向异性层的组合物包含流平剂的情况较多。

4、另一方面,本发明人等发现了如下:在通过涂布多次组合物而形成的以往的光学各向异性层中,在光学各向异性层内容易产生剥离,需要进行改良。例如,发现了如下:若对固定于基板上的以往的光学各向异性层实施交叉切割试验,则在光学各向异性层内容易产生剥离。

5、鉴于上述情况,本发明的课题在于提供一种光学各向异性层,其在厚度方向上具有多个液晶化合物的取向状态不同的区域,并且在层内不易产生剥离。

6、用于解决技术课题的手段

7、本发明人等对现有技术的问题点进行深入研究的结果,发现通过以下结构能够解决上述课题。

8、(1)一种光学各向异性层,其使用液晶化合物而形成,其中,

9、光学各向异性层包含流平剂,

10、一边从光学各向异性层的一个表面朝向另一个表面照射离子束,一边利用飞行时间型二次离子质谱法分析光学各向异性层的深度方向的成分而获得源自流平剂的二次离子强度在深度方向上的分布,在光学各向异性层的一个表面上的源自流平剂的二次离子强度及光学各向异性层的另一个表面上的源自流平剂的二次离子强度中,将源自流平剂的二次离子强度大的设为第1强度且将成为第1强度的1/1000的二次离子强度设为第2强度,并且在将在分布中表示第2强度的最靠一个表面侧的深度位置设为第1位置且将在分布中表示第2强度的最靠另一个表面侧的深度位置设为第2位置时,在第1位置与第2位置之间的区域中的任一深度处均未观测到第1强度的1/500以上的源自流平剂的二次离子强度,

11、光学各向异性层满足以下的要件1~3中的任一个。

12、要件1:光学各向异性层为将胆甾醇型液晶相固定而成的光学各向异性层,并且沿厚度方向具有胆甾醇型液晶相的螺旋节距不同的多个区域。

13、要件2:光学各向异性层为将液晶化合物的取向状态固定而成的光学各向异性层,并且沿厚度方向具有液晶化合物的取向方向相对于光学各向异性层表面的倾斜角度不同的多个区域。

14、要件3:光学各向异性层沿厚度方向具有将液晶化合物取向的取向状态固定而成的区域和将液晶化合物显示各向同性相的状态固定而成的区域。

15、(2)根据(1)所述的光学各向异性层,其满足要件1。

16、(3)根据(2)所述的光学各向异性层,其中,光学各向异性层具有胆甾醇型液晶相的螺旋节距不同的2个区域。

17、(4)根据(1)所述的光学各向异性层,其满足要件2。

18、(5)根据(4)所述的光学各向异性层,其中,光学各向异性层具有将平行取向的液晶化合物的取向状态固定而成的区域和将垂直取向的液晶化合物的取向状态固定而成的区域。

19、(6)根据(1)所述的光学各向异性层,其满足要件3。

20、(7)根据(6)所述的光学各向异性层,其中,光学各向异性层具有将平行取向的液晶化合物的取向状态固定而成的区域和将液晶化合物显示各向同性相的状态固定而成的区域。

21、发明效果

22、根据本发明,能够提供一种光学各向异性层,其在厚度方向上具有多个液晶化合物的取向状态不同的区域,并且在层内不易产生剥离。



技术特征:

1.一种光学各向异性层,其使用液晶化合物而形成,其中,

2.根据权利要求1所述的光学各向异性层,其满足所述要件1。

3.根据权利要求2所述的光学各向异性层,其中,

4.根据权利要求1所述的光学各向异性层,其满足所述要件2。

5.根据权利要求4所述的光学各向异性层,其中,

6.根据权利要求1所述的光学各向异性层,其满足所述要件3。

7.根据权利要求6所述的光学各向异性层,其中,


技术总结
本发明提供一种光学各向异性层,其在厚度方向上具有多个液晶化合物的取向状态不同的区域,并且在层内不易产生剥离。本发明的光学各向异性层为使用液晶化合物而形成的光学各向异性层,光学各向异性层包含流平剂,并且在一边从光学各向异性层的一个表面朝向另一个表面照射离子束一边利用飞行时间型二次离子质谱法分析光学各向异性层的深度方向的成分而获得的源自流平剂的二次离子强度在深度方向上的分布中,满足规定的要件。

技术研发人员:福岛悠太,吉田慎平,高桥勇太,小玉启祐
受保护的技术使用者:富士胶片株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/1/12
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