本发明涉及一种树脂组合物,且特别是涉及一种感光性树脂组合物、保护层以及图案形成方法。
背景技术:
1、随着半导体设备、显示设备及光学组件的蓬勃发展,其需求也随之增加。蚀刻技术常被应用于半导体设备、显示设备及光学组件的制造过程。然而,在蚀刻步骤中,被图案化的上膜层与下膜层之间会出现明显的侧蚀问题,进而影响电子组件的可靠度及/或显示设备的显示质量。
技术实现思路
1、本发明提供一种可形成具有良好的密着性的感光性树脂组合物、保护层以及图案形成方法。
2、本发明提供一种感光性树脂组合物。感光性树脂组合物包括碱可溶性树脂(a)、感光剂(b)、添加物(c)以及溶剂(d)。添加物(c)包括由下述式(c-1)表示的化合物:
3、
4、式(c-1)中,r1表示氢、羟基、碳数为1~15的烷基、苯基、经芳基取代的苯基、酸基、酯基、烷氨基、卤素原子、氰基或其组合,r2表示由下述式(c-2)表示的基团,r3及r4各自表示氢或由下述式(c-3)表示的基团,
5、
6、式(c-2)中,r5表示氢或甲基,m表示0~300的整数,*表示键结位置,
7、
8、式(c-3)中,r6表示氢或甲基,n表示0~300的整数,*表示键结位置。
9、在本发明的一实施例中,上述碱可溶性树脂(a)包括酚醛树脂。
10、在本发明的一实施例中,上述感光剂(b)包括含醌二迭氮基的化合物。
11、在本发明的一实施例中,上述含醌二迭氮基的化合物包括含萘醌二迭氮基的化合物。
12、在本发明的一实施例中,上述添加物(c)的使用量为1000ppm以上。
13、在本发明的一实施例中,上述溶剂(d)包括丙二醇单甲醚乙酸酯(propyleneglycol monomethyl ether acetate,pgmea)。
14、在本发明的感光性树脂组合物中,可包括增感剂(e)。增感剂(e)包括由下述式(e-1)表示的化合物:
15、
16、式(e-1)中,r7至r9各自表示氢或碳数为1~3的烷基,x、y及z各自表示1~3的整数。
17、在本发明的感光性树脂组合物中,可包括增感剂(e)。基于碱可溶性树脂(a)的使用量为100重量份,增感剂(e)的使用量为1重量份至20重量份。
18、在本发明的感光性树脂组合物中,可包括表面活性剂(f)。表面活性剂(f)包括聚硅氧烷类表面活性剂、氟类表面活性剂、非离子类表面活性剂或其组合。
19、在本发明的感光性树脂组合物中,基于上述碱可溶性树脂(a)的使用量为100重量份,感光剂(b)的使用量为10重量份至35重量份,溶剂(d)的使用量为200重量份至800重量份。
20、本发明的一种保护层,是由上述的感光性树脂组合物形成。
21、本发明的一种图案形成方法,包括将上述的感光性树脂组合物涂布于基材上。
22、基于上述,本发明的感光性树脂组合物包括含有特定结构的化合物的添加物(c)。藉此,可使感光性树脂组合物所形成的保护层及使用感光性树脂组合物的图案形成方法具有良好的密着性。
23、为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂,下文特举实施例作详细说明如下。
1.一种感光性树脂组合物,包括:
2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中所述碱可溶性树脂(a)包括酚醛树脂。
3.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中所述感光剂(b)包括含醌二迭氮基的化合物。
4.根据权利要求3所述的感光性树脂组合物,其中所述含醌二迭氮基的化合物包括含萘醌二迭氮基的化合物。
5.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中所述添加物(c)的使用量为1000ppm以上。
6.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中所述溶剂(d)包括丙二醇单甲醚乙酸酯。
7.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,更包括增感剂(e),所述增感剂(e)包括由下述式(e-1)表示的化合物:
8.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,更包括增感剂(e),其中基于所述碱可溶性树脂(a)的使用量为100重量份,所述增感剂(e)的使用量为1重量份至20重量份。
9.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,更包括表面活性剂(f),其中所述表面活性剂(f)包括聚硅氧烷类表面活性剂、氟类表面活性剂、非离子类表面活性剂或其组合。
10.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物,其中基于所述碱可溶性树脂(a)的使用量为100重量份,所述感光剂(b)的使用量为10重量份至35重量份,所述溶剂(d)的使用量为200重量份至800重量份。
11.一种保护层,其为由权利要求1至权利要求10中任一项所述的感光性树脂组合物形成。
12.一种图案形成方法,包括:将权利要求1至权利要求10中任一项所述的感光性树脂组合物涂布于基材上。