黑色光学薄膜及光学产品的制作方法

本申请涉及一种黑色光学薄膜及光学产品，属于镀膜材料领域。

背景技术：

1、随着手机镜头模组向高像素、大光圈、超薄化方向发展，消费者对摄像模组成像质量的要求也越来越高。然而，现有的黑色镀膜材料在制备黑色膜时存一些在问题，限制了真空蒸发镀膜工艺制备的黑色膜在光学消光方向的应用。这是由于当前黑色镀膜材料往往都是由一种或多种金属或半导体材料组成。这是由于金属或半导体材料具有较宽的导带。可以吸收较宽范围波长的光线，形成消光。但由于金属材料或半导体存在大量的自由电子，这些自由电子造成材料表面存在着宽光谱的均匀反射，这就造成了很难避免的表面强烈反光。虽然这类黑色膜料可以通过提高消光系数的方式将透射光吸收，但基本上对于反射光往往无能为力。特别是在光滑表面上，镀膜后的表面常常呈现类似镜面效果。

2、中国专利cn2021113014089公开了一种镀膜组合物、其制备方法、消光膜及镜头模组、终端，该材料在可见光和近红外波段具有强烈吸收效果，该材料可制备同时具有透过消光和反射消光双重效果的黑色消光膜。但是，申请人发现由该材料形成的薄膜具有一定的导电效果，同时其耐化学品性和耐刮性较弱，无法在特定环境下的电子器件上进行应用。

3、基于此，申请人优化了其组合物成分并提供一种全新薄膜产品。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种黑色光学薄膜及光学产品，该黑色光学薄具有透过消光和反射消光双重效果的同时，不导电且有优秀的耐化学品性和耐刮性。

2、为达到上述目的，本申请提供如下技术方案：

3、第一方面，本申请提供一种黑色光学薄膜，具有靠近光学产品的内层和远离光学产品的外层，所述黑色光学薄膜包括交替层叠设置的有机消光层、高折射率层和低折射率层，所述外层设有所述有机消光层；

4、所述有机消光层由有机消光材料制成，所述有机消光材料包括有机成分和无机成分，所述有机成分包括聚芳酯、非晶型共聚酯和环氧基低聚物，所述无机成分包括ti元素、mg元素和o元素，以及fe元素和/或co元素；

5、所述高折射率层由高折射率材料制成，所述高折射率材料包括nb2o5和al2o3；

6、所述低折射率层由低折射率材料制成，所述低折射率材料选自sio2、mgf2或硅铝混合料中的任一种或多种。

7、作为其中一个可能的实施方式，所述高折射率材料还包括cao和石墨粉末。

8、作为其中一个可能的实施方式，当所述黑色光学薄膜的层数小于8层时，设置有至少一层所述有机消光层。

9、作为其中一个可能的实施方式，当所述黑色光学薄膜的层数大于等于8层时，设有至少两层所述有机消光层，两层所述有机消光层之间设有至少一层所述高折射率层和/或低折射率层。

10、作为其中一个可能的实施方式，所述有机成分还包括pmma，所述有机消光层由所述有机成分制成树脂粘结剂后混合所述无机成分形成。

11、作为其中一个可能的实施方式，在所述无机成分中，所述ti元素选自ti、tio2、ti2o3或ti3o5中的至少一种；和/或，所述mg元素选自mgo；和/或，所述fe元素选自fe2o3或feo中的至少一种；和/或，所述co元素选自co2o3或coo中的至少一种。

12、作为其中一个可能的实施方式，所述高折射率层中，所述nb2o5、al2o3、cao和石墨粉末的质量含量分别为60％～70％、17％～27％、1％～3％、5％-10％。

13、第二方面，本申请提供一种光学产品，其包括第一方面所述的黑色光学薄膜。

14、作为其中一个可能的实施方式，所述光学产品为滤光片。

15、作为其中一个可能的实施方式，所述黑色光学薄膜设置在所述光学产品的表面，所述外层为有机消光层，所述外层和光学产品之间交替层叠设置有所述高折射率层和低折射率层，或者，交替层叠设置有所述高折射率层、低折射率层和有机消光层。

16、通过本申请公开的实施例，本申请的黑色光学薄膜具有透过消光和反射消光双重效果，同时，其在保持结合力、附着力、耐化学品性和耐刮性较好的前提下，整体具有较高的绝缘性，能在特定环境下的电子器件上进行应用。

17、上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

技术特征：

1.一种黑色光学薄膜，具有靠近光学产品的内层和远离光学产品的外层，其特征在于，所述黑色光学薄膜包括交替层叠设置的有机消光层、高折射率层和低折射率层，所述外层设有所述有机消光层；

2.根据权利要求1所述的黑色光学薄膜，其特征在于，所述高折射率材料还包括cao和石墨粉末。

3.根据权利要求1所述的黑色光学薄膜，其特征在于，当所述黑色光学薄膜的层数小于8层时，设置有至少一层所述有机消光层。

4.根据权利要求1所述的黑色光学薄膜，其特征在于，当所述黑色光学薄膜的层数大于等于8层时，设有至少两层所述有机消光层，两层所述有机消光层之间设有至少一层所述高折射率层和/或低折射率层。

5.根据权利要求1所述的黑色光学薄膜，其特征在于，所述有机成分还包括pmma，所述有机消光层由所述有机成分制成树脂粘结剂后混合所述无机成分形成。

6.根据权利要求1或5所述的黑色光学薄膜，其特征在于，在所述无机成分中，所述ti元素选自ti、tio2、ti2o3或ti3o5中的至少一种；和/或，所述mg元素选自mgo；和/或，所述fe元素选自fe2o3或feo中的至少一种；和/或，所述co元素选自co2o3或coo中的至少一种。

7.根据权利要求2所述的黑色光学薄膜，其特征在于，所述高折射率层中，所述nb2o5、al2o3、cao和石墨粉末的质量含量分别为60％～70％、17％～27％、1％～3％、5％-10％。

8.一种光学产品，其特征在于，包括如权利要求1至7中任一项所述的黑色光学薄膜。

9.根据权利要求8所述的光学产品，其特征在于，所述光学产品为滤光片。

10.根据权利要求9所述的光学产品，其特征在于，所述黑色光学薄膜设置在所述光学产品的表面，所述外层为有机消光层，所述外层和光学产品之间交替层叠设置有所述高折射率层和低折射率层，或者，交替层叠设置有所述高折射率层、低折射率层和有机消光层。

技术总结
本申请涉及一种黑色光学薄膜及光学产品，该黑色光学薄膜具有靠近光学产品的内层和远离光学产品的外层，黑色光学薄膜包括交替层叠设置的有机消光层、高折射率层和低折射率层，外层设有有机消光层；有机消光层由有机消光材料制成，有机消光材料包括有机成分和无机成分，有机成分包括聚芳酯、非晶型共聚酯和环氧基低聚物，无机成分包括Ti元素、Mg元素和O元素，以及Fe元素和/或Co元素；高折射率层由高折射率材料制成，高折射率材料包括Nb<subgt;2</subgt;O<subgt;5</subgt;和Al<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;；低折射率层由低折射率材料制成，低折射率材料选自SiO<subgt;2</subgt;、MgF<subgt;2</subgt;或硅铝混合料中的任一种或多种。本申请的黑色光学薄具有透过消光和反射消光双重效果的同时，不导电且有优秀的耐化学品性和耐刮性。

技术研发人员：徐川
受保护的技术使用者：巨玻固能（苏州）薄膜材料有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/11