一种基于凹透镜微结构的抗光幕布的制作方法

1.本实用新型涉及抗光幕布技术领域，特别涉及一种基于凹透镜微结构的抗光幕布。


背景技术：

2.目前，传统的显示方式分为2种，一种是有源显示方式，如大屏幕电视等。通过对led芯片施加电流，从而达到显示的目的。另外一种是无源显示方式，该种方式主要是运用投影仪在幕布上进行成像。以上2种方式都各有其缺点，例如led的方式虽然显示效果好，但是高耗能，且制备成本高。无源的幕布显示方式虽然耗能低，但是受自然光的干扰大，因此显示效果差。随着技术进步以及人们环保意识的提高，市场上亟需一种低耗能，环保性好以及显示性能好的显示技术，以替代目前传统的显示方式。


技术实现要素：

3.本实用新型为了解决现有技术中的缺陷，提出了一种基于凹透镜微结构的抗光幕布，该具有微结构的幕布可有效地进行成像，并且能提高光场的成像强度，减少自然光的干涉。
4.本实用新型的一种基于凹透镜微结构的抗光幕布，包括凹透镜微结构阵列及其表面的反射层，所述凹透镜微结构阵列具有在横向和纵向周期性排列的多个凹透镜以及相邻凹透镜之间设置的隔离板。
5.优选地，所述相邻凹透镜之间的间隔为5-10um。
6.优选地，所述凹透镜微结构阵列的每个凹透镜的深度为25um以上，每个凹透镜11的直径为30um。
7.优选地，所述凹透镜凹面中央区域的表面粗糙度为10nm以下。
8.优选地，所述隔离板的高度为10um，所述隔离板的厚度为所述相邻凹透镜之间的距离。
9.优选地，所述凹透镜微结构阵列为uv胶凹透镜微结构阵列。
10.优选地，所述反射层为金属反射层。
11.优选地，所述反射层的厚度为500nm。
12.优选地，所述金属反射层为银反射层或铂反射层。
13.本实用新型具有如下有益效果：
14.本实用新型的基于凹透镜微结构的抗光幕布，其表面具有金属喷涂层的凹透镜阵列具有很强的聚光性能，通过对投影仪出射光的汇聚，达到增强幕布上的成像亮度，降低自然光对成像的干扰。本实用新型的抗光幕布具有环保、低能耗、显示效果好的优点。
附图说明
15.图1是本实用新型的基于凹透镜微结构的抗光幕布的局部俯视结构示意图。
16.图2是本实用新型的基于凹透镜微结构的抗光幕布的局部侧面剖视结构示意图。
具体实施方式
17.以下将结合说明书附图对本实用新型的实施方式予以说明。需要说明的是，本说明书中所涉及的实施方式不是穷尽的，不代表本实用新型的唯一实施方式。以下相应的实施例只是为了清楚的说明本实用新型专利的实用新型内容，并非对其实施方式的限定。对于该领域的普通技术人员来说，在该实施例说明的基础上还可以做出不同形式的变化和改动，凡是属于本实用新型的技术构思和实用新型内容并且显而易见的变化或变动也在本实用新型的保护范围之内。
18.如图1-2所示，本实用新型的一种基于凹透镜微结构的抗光幕布，包括凹透镜微结构阵列1及其表面上的反射层2，所述凹透镜微结构阵列1具有在横向和纵向周期性排列的多个凹透镜11以及相邻凹透镜之间设置的隔离板12。
19.优选地，所述相邻凹透镜11之间的间隔为5-10um。这里相邻凹透镜11之间的间隔指横向或纵向上相邻凹透镜边缘之间的最短距离。所述凹透镜微结构阵列的每个凹透镜11的深度为25um以上，每个凹透镜11的直径为30um。所述凹透镜凹面中央区域的表面粗糙度为10nm以下。凹透镜凹面中央区域表面粗糙度越小，则汇聚光的性能越好。该具有低粗糙度的中心聚光区域可以有效地对光线进行汇聚。
20.优选地，所述隔离板12的高度为10um，所述隔离板12的厚度为所述相邻凹透镜之间的距离。即隔离板12填满凹透镜之间的间隔，也即除凹透镜的凹面区域之外均为隔离板。另外也可以说，从正面看，隔离板12构成类似蜂窝状。通过这样的设置，隔离板12能够用于隔离各凹透镜反射出来的光，防止反射光之间互相干扰，并起到进一步汇聚反射光的作用。隔离板12与周期性排列的凹透镜11可以通过激光直写技术一体成形。
21.所述凹透镜微结构阵列为uv胶凹透镜微结构阵列。
22.所述反射层为金属反射层2。该金属反射层是通过喷涂或者电镀的方式在凹透镜微结构阵列1的全表面均匀地形成一层金属薄膜，即金属薄膜2将凹透镜微结构阵列1完全包裹在内部。优选地，金属反射层2可以是银反射层或铂反射层。所述反射层2的厚度为500nm。该金属薄膜反射层的厚度即指反射层2的上表面至凹透镜微结构阵列1表面的距离。
23.下面介绍本实用新型的基于凹透镜微结构的抗光幕布的制备过程，包括如下步骤：
24.a)在玻璃基板上旋涂光刻胶，离心速度为500rpm，离心时间30s，并静止20min。
25.b)将光刻胶放置在90
°
热板上，放置30min。
26.c)将前烘后的光刻胶放置在激光直写光刻设备中，并对其进行图案化曝光。
27.d)将曝光后的光刻胶进行显影，并进行烘烤，烘烤时间35s。
28.e)在图案化的光刻胶上旋涂pdms，烘烤温度70
°
，时间3h，从而制备出凹透镜微结构阵列的pdms模具。
29.f)通过pdms模具，将图案转印到uv胶水上，获得uv材质的凹透镜微结构阵列。其中凹透镜阵列及隔离板是一体成型的。
30.g)最后，运用电镀机器在前述凹透镜微结构阵列的全表面上电镀金属银，形成包裹凹透镜阵列的一层银反射层，从而形成本实用新型的基于凹透镜微结构的抗光幕布。
31.本实用新型的基于凹透镜微结构的抗光幕布，其凹透镜微结构阵列表面具有金属喷涂层，形成凹反射镜，具有很强的聚光性能，通过对投影仪出射光的汇聚，达到增强幕布上的成像亮度，降低自然光对成像的干扰，从而大大提高显示效果。
32.显然，本技术领域中的普通技术人员应当认识到，以上的实施例仅是用来说明本实用新型，而并非用作为对本实用新型的限定，只要在本实用新型的实质精神范围内，对以上所述实施例的变化、变型都将落在本实用新型的权利要求书范围。


技术特征：
1.一种基于凹透镜微结构的抗光幕布，其特征在于，包括凹透镜微结构阵列及其表面的反射层，所述凹透镜微结构阵列具有在横向和纵向周期性排列的多个凹透镜以及相邻凹透镜之间设置的隔离板。2.根据权利要求1所述的基于凹透镜微结构的抗光幕布，其特征在于，所述相邻凹透镜之间的间隔为5-10um。3.根据权利要求1所述的基于凹透镜微结构的抗光幕布，其特征在于，所述凹透镜微结构阵列的每个凹透镜的深度为25um以上，每个凹透镜的直径为30um。4.根据权利要求3所述的基于凹透镜微结构的抗光幕布，其特征在于，所述凹透镜凹面中央区域的表面粗糙度为10nm以下。5.根据权利要求1所述的基于凹透镜微结构的抗光幕布，其特征在于，所述隔离板的高度为10um，所述隔离板的厚度为所述相邻凹透镜之间的距离。6.根据权利要求1所述的基于凹透镜微结构的抗光幕布，其特征在于，所述凹透镜微结构阵列为uv胶凹透镜微结构阵列。7.根据权利要求1所述的基于凹透镜微结构的抗光幕布，其特征在于，所述反射层为金属反射层。8.根据权利要求7所述的基于凹透镜微结构的抗光幕布，其特征在于，所述反射层的厚度为500nm。9.根据权利要求7所述的基于凹透镜微结构的抗光幕布，其特征在于，所述金属反射层为银反射层或铂反射层。

技术总结
本实用新型提供了一种基于凹透镜微结构的抗光幕布，包括凹透镜微结构阵列及其表面上的反射层，所述凹透镜微结构阵列具有在横向和纵向周期性排列的多个凹透镜以及相邻凹透镜之间设置的隔离板。本实用新型的基于凹透镜微结构的抗光幕布，其表面具有金属喷涂层的凹透镜阵列具有很强的聚光性能，通过对投影仪出射光的汇聚，达到增强幕布上的成像亮度，降低自然光对成像的干扰，从而有效提高显示效果。本实用新型的抗光幕布具有环保、低能耗、显示效果好的优点。果好的优点。果好的优点。


技术研发人员：栾世奕 桂成群 宋毅 薛兆丰
受保护的技术使用者：矽万（上海）半导体科技有限公司
技术研发日：2022.03.22
技术公布日：2022/7/14