一种高反射铝膜结构的制作方法

1.本实用新型涉及高反射铝膜领域，具体涉及一种高反射铝膜结构。


背景技术：

2.纳米银幕与传统普通银幕相比，具有高增益、高反射率、超高偏振比、亮度均匀等优势，该纳米银幕就是一种高反射铝膜，而现有的高反射铝膜具有稳定性差的问题，其具体表现为在使用时间长情况上铝膜容易脱离基膜，影响其反射率；还具有反射率不稳定的问题，其产品的反射率难以达到90％，不能满足用户对高反射的要求。


技术实现要素：

3.本实用新型在一定程度上解决现有相关技术中存在的问题之一，为此，本实用新型的目的在于提出一种高反射铝膜结构，保证反射效果。
4.上述目的是通过如下技术方案来实现的：
5.一种高反射铝膜结构，包括基材层、铝膜层及增反层，所述铝膜层溅射在所述基材层上，所述增反层溅射在所述铝膜层上以提高反射铝膜结构的反射率,在所述基材层与所述铝膜层之间设有附着层，所述附着层用于增大所述铝膜层在所述基材层上的附着力。
6.作为本实用新型的进一步改进，所述增反层包括sio2层及nb2o5层，且所述sio2层在所述铝膜层的上方，所述nb2o5层在所述sio2层的上方。
7.作为本实用新型的进一步改进，所述sio2层的厚度为80-90nm。
8.作为本实用新型的进一步改进，所述sio2层的厚度为85nm。
9.作为本实用新型的进一步改进，所述nb2o5层的厚度为55-65nm。
10.作为本实用新型的进一步改进，所述nb2o5层的厚度为60nm。
11.作为本实用新型的进一步改进，所述铝膜层包括铝钕合金溅射形成。
12.作为本实用新型的进一步改进，所述铝膜层的厚度为65-75nm。
13.作为本实用新型的进一步改进，所述附着层采用无氧硅。
14.作为本实用新型的进一步改进，所述基材层采用pet基材,且在所述pet基材及所述附着层之间具有防眩光涂层。
15.与现有技术相比，本实用新型的至少包括以下有益效果：
16.1.本实用新型提出一种高反射铝膜结构，通过在基材层上形成附着层，以在具有附着层上溅射铝膜层，有效增大铝膜层在基材层上的附着力，避免铝膜层在基材层上易脱离的情况，在所述铝膜层上形成增反层，有利于提高此高反射铝膜结构的反射率，以使得反射率达到92％以上。
附图说明
17.图1为实施例中一种高反射铝膜结构的结构示意图。
具体实施方式
18.以下实施例对本实用新型进行说明，但本实用新型并不受这些实施例所限制。对本实用新型的具体实施方式进行修改或者对部分技术特征进行等同替换，而不脱离本实用新型方案的精神，其均应涵盖在本实用新型请求保护的技术方案范围当中。
19.如图1，一种高反射铝膜结构，包括基材层1、铝膜层3及增反层4，所述铝膜层3溅射在所述基材层1上，所述增反层4溅射在所述铝膜层3上以提高反射铝膜结构的反射率,在所述基材层1与所述铝膜层3之间设有附着层2，所述附着层2用于增大所述铝膜层3在所述基材层1上的附着力。
20.本实用新型提出一种高反射铝膜结构，通过在基材层1上形成附着层2，以在具有附着层2上溅射铝膜层3，有效增大铝膜层3在基材层1上的附着力，避免铝膜层3在基材层1上易脱离的情况，在所述铝膜层3上形成增反层4，有利于提高此高反射铝膜结构的反射率，以使得反射率达到92％以上。
21.增反层4在大幅度提高反射率的同时，还可以对铝膜层3起到保护作用，提高产品的耐腐蚀性能。
22.本实施例中，所述增反层4包括sio2层41及nb2o5层42，且所述sio2层溅射所述铝膜层3上，所述sio2层溅射在所述nb2o5层上。通过sio2层及nb2o5层共同结合对铝膜层3实现增加反射率的效果，结构简单，容易实现。而值得说明的是，增反层4需由sio2层及nb2o5层共同结合发挥作用，单层的sio2层或单层的nb2o5层并不能实现增加反射率的效果。
23.所述sio2层41的厚度为80-90nm。本实施例中，所述sio2层的厚度为85nm。
24.所述nb2o5层42的厚度为55-65nm。本实施例中，所述nb2o5层的厚度为60nm。
25.通过实验获得85nmsio2层及60nmnb2o5层，具有更好的增加反射率的效果，反射率效果可达93％及以上。通过sio2层及nb2o5层提高反射率，并严格控制sio2层及nb2o5的厚度，可有效提高反射率。
26.所述铝膜层3通过铝钕合金材料溅射在所述基材层1上。
27.通过铝钕合金材料溅射在所述基材层1上以形成铝膜层3，形成的铝膜层3具有性能稳定的特点。
28.所述铝膜层3的厚度为65-75nm。本实施例中，所述铝膜层3的厚度为60nm。
29.所述基材层1采用pet基材，且所述pet基材厚度为250um。
30.所述附着层2采用无氧硅。通过在所述基材层1上先镀一层无氧硅作为附着层2，可大幅度提升率磨层在pet基材上的附着力。
31.本实施例中，在所述基材层1上还凃设有防眩光镀膜层，且所述防眩光镀膜层的厚度为30-40um。通过在基材层1上涂设防眩光镀膜层，可防止过于反射的情况出现，避免出现镜面反射的情况，降低镜面反射效果。
32.本市实施例中，所述防眩光镀膜层采用颗粒状物质涂覆。
33.即所述黏附层溅射在所述防眩光镀膜层上，所述防眩光镀膜层上溅射铝膜层3，在所述铝膜层3上溅射增反层4。
34.上述优选实施方式应视为本申请方案实施方式的举例说明，凡与本申请方案雷同、近似或以此为基础作出的技术推演、替换、改进等，均应视为本专利的保护范围。


技术特征：
1.一种高反射铝膜结构，其特征在于，包括基材层、铝膜层及增反层，所述铝膜层溅射在所述基材层上，所述增反层溅射在所述铝膜层上以提高反射铝膜结构的反射率,在所述基材层与所述铝膜层之间设有附着层，所述附着层用于增大所述铝膜层在所述基材层上的附着力。2.根据权利要求1所述的一种高反射铝膜结构，其特征在于，所述增反层包括sio2层及nb2o5层，且所述sio2层在所述铝膜层的上方，所述nb2o5层在所述sio2层的上方。3.根据权利要求2所述的一种高反射铝膜结构，其特征在于，所述sio2层的厚度为80-90nm。4.根据权利要求2所述的一种高反射铝膜结构，其特征在于，所述sio2层的厚度为85nm。5.根据权利要求2所述的一种高反射铝膜结构，其特征在于，所述nb2o5层的厚度为55-65nm。6.根据权利要求2所述的一种高反射铝膜结构，其特征在于，所述nb2o5层的厚度为60nm。7.根据权利要求1所述的一种高反射铝膜结构，其特征在于，所述铝膜层包括由铝钕合金靶溅射形成。8.根据权利要求1所述的一种高反射铝膜结构，其特征在于，所述铝膜层的厚度为65-75nm。9.根据权利要求1所述的一种高反射铝膜结构，其特征在于，所述附着层采用无氧硅。10.根据权利要求1所述的一种高反射铝膜结构，其特征在于，所述基材层采用pet基材,且在所述pet基材及所述附着层之间具有防眩光涂层。

技术总结
本实用新型提出一种高反射铝膜结构，包括基材层、铝膜层及增反层，所述铝膜层溅射在所述基材层上，所述增反层溅射在所述铝膜层上以增加高反射铝膜结构的反射率,在所述基材层与所述铝膜层之间设有附着层，所述附着层用于增大所述铝膜层在所述基材层上的附着力。通过在基材层上形成附着层，以在具有附着层上溅射铝膜层，有效增大铝膜层在基材层上的附着力，避免铝膜层在基材层上易脱离的情况，在所述铝膜层上形成增反层，有利于提高此高反射铝膜结构的反射率，以使得反射率达到92％以上。以使得反射率达到92％以上。以使得反射率达到92％以上。


技术研发人员：宋永进 杜鹏
受保护的技术使用者：深圳市康盛光电科技有限公司
技术研发日：2022.09.28
技术公布日：2023/1/24