可变形反射镜系统的制作方法

本发明涉及一种可变形反射镜系统，包括可以用于光刻装置中的单块式支撑结构。

背景技术：

1、光刻装置是被构造为将期望图案施加到衬底上的机器。光刻装置可以用于例如制造集成电路(ic)。光刻装置可以例如将在图案形成装置(例如，掩模)处的图案投射到设在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。

2、为了将图案投射在衬底上，光刻装置可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了可以在衬底上形成的特征的最小尺寸。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻装置相比，使用波长在4nm至20nm范围内(例如，6.7nm或13.5nm)的极紫外(euv)辐射的光刻装置可以被用来在衬底上形成较小特征。

3、光刻装置通常利用一个或多个反射镜来聚焦euv辐射。可以调整一个或多个反射镜的形状或位置以校正在装置中出现的任何改变，否则这些改变可能会导致例如所得euv射束中的像差，因此可能会对装置的性能有害。这种改变可能由部件的长期漂移或短期热变化(例如，反射镜的特定区域的加热)引起。可调整反射镜或可变形反射镜还可以用于光刻装置中以校正系统中的失真。

4、可变形反射镜可以包括一个或多个致动器，例如，压电致动器或静电致动器，该一个或多个致动器固定到反射镜上，且其致动方向大致平行于反射镜表面的表面。

5、当被启动时，一个或多个致动器延伸或收缩，使得反射镜表面变形。当一个或多个致动器在大致平行于反射镜表面的方向上延伸或收缩时，其被称为表面平行致动。图2a描绘了表面平行致动。

6、本发明的一个目的是提供(尤其但不限于)用于euv光刻中的反射镜的改良型反射镜支撑件和构造方法。

技术实现思路

1、在本文中所描述的一个示例中，存在一种可变形反射镜系统，该可变形反射镜系统包括单块式支撑结构，该单块式支撑结构包括第一侧，该第一侧被配置为接收反射镜；以及第二侧，该第二侧被配置为接收多个致动器，使得这些致动器被定位为使得反射镜的反射表面能够选择性地变形。有利地，可变形反射镜系统提供了一种跨整个反射镜具有刚度和机械稳定性同时仍然允许局部变形的反射镜。如上文所陈述的，使反射镜变形的能力可以被用来将期望特性赋予至由反射镜反射的波前或者解决由反射镜反射的波前中的像差问题。

2、支撑结构可以包括多个空腔，该多个空腔延伸穿过第二侧，多个空腔中的每个空腔被配置为接收多个致动器中的至少一个致动器。有利地，多个空腔提供用于固定多个致动器的位置，以允许反射镜变形。

3、多个空腔可以被布置为跨结构的第二侧形成规则2d晶格结构。空腔的规则布置有助于确保一致的致动力能够跨反射镜实现类似变形。

4、第一侧可以包括多个支柱，其中多个支柱中的每个支柱被配置为支撑反射镜。支柱有利地在被支撑的反射镜与支撑结构的主体之间提供间隙，这可以提供反射镜与支撑结构的机械解耦。该间隙可以在反射镜与支撑结构之间提供热断裂。附加地，通过在反射镜与支撑结构之间提供间隙，反射镜具有附加空间使其变形，从而使变形更容易并且提供更大的可能变形量。

5、多个柱可以被布置为跨第一侧形成规则2d晶格结构。支柱的规则布置可以确保反射镜跨其范围具有一致的支撑，并且一致的致动力跨其范围实现类似变形。

6、多个支柱中的每个支柱可以与多个空腔中的每个空腔的至少一部分同轴布置。有利地，通过在支撑结构与反射镜之间的每个接触点下方提供致动器的位置，反射镜的变形可能更易于控制。

7、可变形反射镜系统可以包括反射镜，该反射镜包括具有反射镜表面的板，并且板可以被固定到支撑件的第一侧上。反射镜表面可以由本领域技术人员已知的多层涂层提供。多个涂层可以提供反射镜表面的期望光学质量，例如，透射率或反射率。

8、可变形反射镜系统可以包括多个致动器。

9、多个致动器中的一个或多个致动器可以被配置为向反射镜的下侧施加压缩力或张紧力。

10、可以沿大体垂直于反射镜的反射镜表面的方向施加来自多个致动器的压缩力或张紧力的大部分。有利地，可变形反射镜系统因此可以利用表面法线致动，从而减小当使用表面平行致动时产生的串扰的影响。在静止时，在无需施加任何压缩力或张紧力的情况下，第一侧可以是大体平坦的。可替代地，该第一侧可以是大体凸面形状、凹面形状或其他形状。

11、多个致动器中的每个致动器可以在第一点和第二点处被固定到可变形反射镜支撑件。第一点可以在空腔的远端处(更接近第二侧)，而第二点更接近空腔的近端(即，与第一点相比较，更接近第一侧的点)。有益地，通过以这种方式固定多个致动器中的每个致动器允许施加压缩力和张紧力两者。可替代地，多个致动器中的每个致动器可以在一个或多个点处被固定到单块式结构。有利地，这可以更直接地构造可变形反射镜系统，同时仍然对反射镜施加压缩力。

12、多个致动器中的每个致动器可以是气动致动器、静液压致动器、洛伦兹致动器、磁阻致动器或热机械致动器。不同类型的致动器可以提供不同的益处。例如，气动致动器和静液压致动器可以以对温度不敏感的方式操作。

13、光刻装置(la)可以包括一个或多个可变形反射镜系统。

14、光刻装置(la)可以是euv光刻装置。有利地，光刻装置包括可变形反射镜系统中的两个或更多个可变形反射镜系统，可以校正三阶失真的问题。

15、在本文中所描述的另一示例中，存在一种使第一示例的可变形反射镜支撑件变形的方法。

16、在本文中所描述的另一示例中，存在一种构造第一示例的可变形反射镜支撑件的方法。

技术特征：

1.一种可变形反射镜系统(300、400、500)，包括单块式支撑结构(310、410、510)，所述单块式支撑结构(310、410、510)包括：

2.根据权利要求1所述的可变形反射镜系统(300、400、500)，其中所述支撑结构(310、410、510)包括延伸穿过所述第二侧(312)的多个空腔(320、420、520)，所述多个空腔中的每个空腔被配置为接收所述多个致动器(460、560)中的至少一个致动器。

3.根据权利要求2所述的可变形反射镜系统(300、400、500)，其中所述多个空腔(320、420、520)被布置为跨所述支撑结构(310、410、510)的所述第二侧(312)形成规则2d晶格结构。

4.根据任一前述权利要求所述的可变形反射镜系统(300、400、500)，其中所述多个支柱(330、430、530)被配置为在所述支撑结构(310、410、510)的所述第一侧(311)与所述反射镜之间提供间隙。

5.根据任一前述权利要求所述的可变形反射镜系统(300、400、500)，其中所述多个支柱(330、430、530)被布置为跨所述第一侧(311)形成规则2d晶格结构。

6.根据引用权利要求2的任一前述权利要求所述的可变形反射镜系统，其中所述多个支柱(330、430、530)中的至少一个支柱与所述多个空腔(320、420、520)中的至少一个空腔的至少一部分同轴布置(327)。

7.根据前述权利要求中任一权利要求所述的可变形反射镜系统(300、400、500)，还包括所述反射镜(350、450、550)，所述反射镜包括具有反射镜表面(351、451、551)的板，并且其中所述板被固定到所述支撑结构(310、410、510)的所述第一侧(311)。

8.根据任一前述权利要求所述的可变形反射镜系统(300、400、500)，还包括所述多个致动器(460、560)。

9.根据引用权利要求2和权利要求8的任一前述权利要求所述的可变形反射镜系统(300、400、500)，其中所述多个致动器(460、560)被布置在所述多个空腔(320、420、520)中。

10.根据权利要求8或9所述的可变形反射镜系统(300、400、500)，其中所述多个致动器(460、560)被配置为使所述支撑结构(310、410、510)变形。

11.根据权利要求10所述的可变形反射镜系统(300、400、500)，其中所述多个致动器(460、560)被配置为使所述多个支柱(330、430、530)变形。

12.根据权利要求8至11中任一项所述的可变形反射镜系统(300、400、500)，其中所述多个致动器(460、560)中的一个或多个致动器被配置为向所述反射镜(350、450、550)的下侧施加压缩力或张紧力。

13.根据权利要求12所述的可变形反射镜系统(300、400、500)，其中来自所述多个致动器(460、560)的所述压缩力或张紧力的大部分沿大体垂直于所述反射镜(350、450、550)的所述反射镜表面(351、451、551)的方向被施加。

14.根据任一前述权利要求所述的可变形反射镜系统(300、400、500)，其中所述多个致动器(460、560)中的每个致动器是气动致动器、静液压致动器、洛伦兹致动器、磁阻致动器或热机械致动器。

15.一种光刻装置(la)，包括根据任一前述权利要求所述的一个或多个可变形反射镜系统(300、400、500)。

16.根据权利要求15所述的光刻装置(la)，其中所述光刻装置是euv光刻装置。

技术总结
一种可变形反射镜系统(300、400、500)包括单块式支撑结构(310、410、510)，该单块式支撑结构包括：第一侧(311)，该第一侧(311)被配置为接收反射镜(350、450、550)；以及第二侧(312)，该第二侧被配置为接收多个致动器(460、560)，使得致动器被定位为使得反射镜的反射表面(351、451、551)能够选择性地变形。

技术研发人员：B·L·W·M·范德文,L·M·勒瓦希尔
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/5