一种掩膜版变形控制装置及其方法与流程

本发明涉及光刻机和曝光机领域，特别涉及一种掩膜版变形控制装置及其方法。

背景技术：

1、曝光机和光刻机均是一种将掩膜版上的图案转印到硅片或玻璃基板上的设备，掩膜版由掩膜台支撑，以使掩膜版在曝光机上进行曝光。

2、为避免遮挡掩膜版上的图案，通常在掩膜台的四周设置支撑、吸附部件，以固定掩膜版。由于掩膜版为薄片型材料，容易在掩膜台上因受重力而发生变形，从而影响曝光的精度和质量。

3、可见，现有技术还有待改进和提高。

技术实现思路

1、鉴于上述现有技术的不足之处，本发明的目的在于提供一种掩膜版变形控制装置及其方法，旨在实现对掩膜版的变形进行控制的功能，使掩膜版调整至相对平整的状态。

2、为了达到上述目的，本发明采取了以下技术方案：

3、一种掩膜版变形控制装置，包括掩膜台、调节组件、变形检测组件和运输组件，若干调节组件分别设置在掩膜台相对应的两侧，所述调节组件包括可滑动地设于掩膜台上的滑台、安装在掩膜台上的第一平移机构、与滑台转动连接的手指基座和安装在手指基座上的压力传感器，第一平移机构的输出端与滑台连接，手指基座上滑动连接有吸附滑块，吸附滑块内设有电容传感器，所述手指基座与滑台之间设有弹片，所述变形检测组件和运输组件均设于掩膜台上方，且运输组件位于变形检测组件与掩膜台之间，运输组件的输出端设有若干吸附手指，吸附滑块和吸附手指外接负压机构。

4、所述手指基座上设有一个台阶部、与台阶部底部连接的水平安装部和与台阶部顶部连接的竖直安装部，吸附滑块可水平滑动地设于水平安装部上，压力传感器安装在竖直安装部。

5、所述手指基座上设有一个水平安装部，吸附滑块可水平滑动地设于水平安装部上，压力传感器安装在水平安装部上。

6、所述调节组件为三个以上。

7、所述第一平移机构的输出端设有接头，接头上连接有转动销，所述滑台和手指基座分别与转动销转动连接。

8、所述第一平移机构包括安装在所述掩膜台上的导轨、安装在掩膜台上的支座和安装在支座上的电动推杆，所述滑台与导轨滑动连接，电动推杆的伸出杆与接头连接。

9、所述变形检测组件包括安装板、测距传感器和图像传感器，若干测距传感器设于安装板的下表面，用于检测与掩膜版的距离，图像传感器设于安装板下表面，用于检测掩膜台的位置。

10、所述运输组件包括第二平移机构、活动台和升降机构，活动台安装在第二平移机构的输出端，升降机构安装在活动台底部，若干吸附手指与升降机构的输出端铰接。

11、一种掩膜版变形控制方法，采用所述的掩膜版变形控制装置，包括以下步骤：

12、s1、吸附手指在负压机构的作用下吸附固定掩膜版，并在运输组件驱动下将掩膜版输送至吸附滑块上，吸附滑块上的电容传感器检测到掩膜版后，吸附滑块在负压机构的作用下吸附固定掩膜版；

13、s2、所述第一平移机构驱动滑台朝掩膜版方向平移一段距离，所述压力传感器检测掩膜版施加的挤压力，吸附手指在运输组件的驱动下作上升运动一段距离，使得掩膜版中部向上凸起；

14、s3、吸附手指释放掩膜版，运输组件驱动吸附手指复位；

15、s4、所述变形检测组件对掩膜版进行检测，第一平移机构根据变形检测组件的检测数据和压力传感器的检测数据来控制滑台的水平移动方向和移动距离，以使各调节组件将掩膜版调整到相对平整的状态。

16、一种掩膜版变形控制方法，采用所述的掩膜版变形控制装置，包括以下步骤：

17、s1、吸附手指在负压机构的作用下吸附固定掩膜版，并在运输组件驱动下将掩膜版输送至吸附滑块上，吸附滑块上的电容传感器检测到掩膜版后，吸附滑块在负压机构的作用下吸附固定掩膜版；

18、s2、吸附手指释放掩膜版，运输组件驱动吸附手指复位，掩膜版因自重向下凹陷；

19、s3、压力传感器检测到吸附滑块施加的压力；

20、s4、所述变形检测组件对掩膜版进行检测，第一平移机构根据变形检测组件的检测数据和压力传感器的检测数据来控制滑台的水平移动方向和移动距离，以使各调节组件将掩膜版调整到相对平整的状态。

21、有益效果：

22、本发明提供的掩膜版变形控制装置通过吸附手指吸附固定掩膜版，并在运输组件的驱动下转运至掩膜台上，调节组件上的吸附滑块吸附固定掩膜版后，第一平移机构驱动滑台作水平移动，以使手指基座挤压或拉伸掩膜版，然后调节组件上的第一平移机构可根据变形检测组件和压力传感器的检测数据来控制滑台的水平移动方向和移动距离，使得手指基座对掩膜台进行挤压或向外拉伸，实现了控制掩膜版的变形，进而将掩膜版调整至平整的状态。

23、本发明提供的掩膜版变形控制方法，通过采用掩膜版变形控制装置来控制掩膜版的变形，从而将掩膜版调整至平整状态。

技术特征：

1.一种掩膜版变形控制装置，其特征在于，包括掩膜台、调节组件、变形检测组件和运输组件，若干调节组件分别设置在掩膜台相对应的两侧，所述调节组件包括可滑动地设于掩膜台上的滑台、安装在掩膜台上的第一平移机构、与滑台转动连接的手指基座和安装在手指基座上的压力传感器，第一平移机构的输出端与滑台连接，手指基座上滑动连接有吸附滑块，吸附滑块内设有电容传感器，所述手指基座与滑台之间设有弹片，所述变形检测组件和运输组件均设于掩膜台上方，且运输组件位于变形检测组件与掩膜台之间，运输组件的输出端设有若干吸附手指，吸附滑块和吸附手指外接负压机构。

2.根据权利要求1所述的掩膜版变形控制装置，其特征在于，所述手指基座上设有一个台阶部、与台阶部底部连接的水平安装部和与台阶部顶部连接的竖直安装部，吸附滑块可水平滑动地设于水平安装部上，压力传感器安装在竖直安装部。

3.根据权利要求1所述的掩膜版变形控制装置，其特征在于，所述手指基座上设有一个水平安装部，吸附滑块可水平滑动地设于水平安装部上，压力传感器安装在水平安装部上。

4.根据权利要求2或3所述的掩膜版变形控制装置，其特征在于，所述调节组件为三个以上。

5.根据权利要求2或3所述的掩膜版变形控制装置，其特征在于，所述第一平移机构的输出端设有接头，接头上连接有转动销，所述滑台和手指基座分别与转动销转动连接。

6.根据权利要求5所述的掩膜版变形控制装置，其特征在于，所述第一平移机构包括安装在所述掩膜台上的导轨、安装在掩膜台上的支座和安装在支座上的电动推杆，所述滑台与导轨滑动连接，电动推杆的伸出杆与接头连接。

7.根据权利要求2或3所述的掩膜版变形控制装置，其特征在于，所述变形检测组件包括安装板、测距传感器和图像传感器，若干测距传感器设于安装板的下表面，用于检测与掩膜版的距离，图像传感器设于安装板下表面，用于检测掩膜台的位置。

8.根据权利要求2或3所述的掩膜版变形控制装置，其特征在于，所述运输组件包括第二平移机构、活动台和升降机构，活动台安装在第二平移机构的输出端，升降机构安装在活动台底部，若干吸附手指与升降机构的输出端铰接。

9.一种掩膜版变形控制方法，其特征在于，采用如权利要求2所述的掩膜版变形控制装置，包括以下步骤：

10.一种掩膜版变形控制方法，其特征在于，采用如权利要求3所述的掩膜版变形控制装置，包括以下步骤：

技术总结
本发明公开了一种掩膜版变形控制装置，包括掩膜台、调节组件、变形检测组件和运输组件，调节组件设于掩膜台上，调节组件包括可滑动地设于掩膜台上的滑台、安装在掩膜台上的第一平移机构、与滑台转动连接的手指基座和安装在手指基座上的压力传感器，第一平移机构与滑台连接，手指基座滑动连接有吸附滑块，吸附滑块内设有电容传感器，手指基座与滑台之间设有弹片，变形检测组件和运输组件设于掩膜台上方，运输组件设有吸附手指。本发明提供的膜版变形控制装置，实现对掩膜版的变形进行控制的功能，使掩膜版调整至相对平整的状态。另外本发明还公开了一种采用掩膜版变形控制装置的控制方法。

技术研发人员：邓国君,刘卉,李晓峰,周天林,郭嘉梁
受保护的技术使用者：季华实验室
技术研发日：
技术公布日：2024/1/14