曝光设备和高精度图形对位的曝光方法与流程

文档序号:35568070发布日期:2023-09-24 06:24阅读:42来源:国知局
曝光设备和高精度图形对位的曝光方法与流程

本发明涉及曝光设备,尤其是涉及一种曝光设备和高精度图形对位的曝光方法。


背景技术:

1、随着光伏太阳能电池的技术不断提升,对复杂结构的图形化技术提出了更高的要求:更细的线径、更高的精度、更高的加工速度以及更低的工艺成本。然而,现有的图形曝光设备无法满足当下对图形精度要求和图形对位要求,导致效率较低,生产成本较高。


技术实现思路

1、本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本发明的一个目的在于提出一种曝光设备,能够满足高精度的图形化要求,同时曝光设备更加自动化,能够有效提升生产效率,降低生产成本。

2、本发明的另一个目的在于提出一种高精度图形对位的曝光方法。

3、根据本发明第一方面实施例的曝光设备,包括:输送装置,用于输送待曝光件;旋转装置,所述旋转装置设在所述输送装置的输送方向的下游,所述旋转装置包括驱动件和至少一个放置平台,所述放置平台用于放置所述待曝光件,所述驱动件为所述放置平台的转动提供驱动力;对位装置,所述对位装置设在所述旋转装置的远离所述输送装置的一侧,所述对位装置包括固定平台和移动系统,所述固定平台用于固定掩膜版,且所述固定平台位于所述放置平台的上方,所述移动系统用于带动所述固定平台移动使所述掩膜版与所述待曝光件对准;曝光装置,所述曝光装置设在所述对位装置的上方;所述曝光设备工作时,所述输送装置将所述待曝光件输送至所述放置平台上,所述驱动件带动所述放置平台转动至所述固定平台的下方,所述移动系统带动所述固定平台运动使所述掩膜版与所述待曝光件对准,所述曝光件对所述待曝光件进行曝光处理,以得到曝光件。

4、根据本发明实施例的曝光设备,通过设置对位装置和曝光装置,对位装置的移动系统能够带动安装在固定平台上的掩膜版进行移动,使掩膜版与待曝光件实现高精度对位,进而对待曝光件进行曝光后,曝光件上的图形的位置更加精准。由此,与传统的曝光设备相比,能够满足高精度的图形化要求,同时曝光设备更加自动化,能够有效提升生产效率,降低生产成本。

5、根据本发明的一些实施例,所述移动系统包括:第一移动模块,用于带动所述固定平台沿所述待曝光件的宽度方向移动;第二移动模块,所述第二移动模块可滑动地设在所述第一移动模块上,用于带动所述固定平台沿待曝光件的长度方向移动;第三移动模块,所述第三移动模块可滑动地设在所述第二移动模块上,用于带动所述固定平台沿待曝光件的高度方向移动。

6、根据本发明的一些实施例,所述移动系统还包括旋转件,所述旋转件设在所述第三移动模块上,所述固定平台设在所述旋转件上。

7、根据本发明的一些实施例,所述旋转件和所述放置平台之间设有测距系统,用于测量所述掩膜版和所述待曝光件之间的最小距离,且所述测量系统与所述移动系统通讯连接。

8、根据本发明的一些实施例,所述放置平台上设有吸附系统,所述吸附系统用于将所述待曝光件吸附在所述放置平台上。

9、根据本发明的一些实施例,所述放置平台为多个,多个所述放置平台沿所述驱动件的周向间隔开,每个所述放置平台具有至少一个放置区,所述待曝光件放置于所述放置区。

10、根据本发明的一些实施例,还包括:气体喷射装置,所述气体喷射装置邻近所述曝光装置设置,用于在曝光过程中向所述待曝光件喷射惰性气体。

11、根据本发明的一些实施例,还包括:成像系统,所述成像系统设在所述对位装置的邻近所述输送装置的一侧,所述放置平台转动时先经过所述成像系统再经过所述曝光装置。

12、根据本发明的一些实施例,所述输送装置包括上料输送线、下料输送线和运输机构,所述上料输送线和所述下料输送线分别位于所述旋转装置的彼此相对的两侧,所述运输机构设在所述上料输送线和所述下料输送线之间,用于将所述上料输送线的所述待曝光件搬运至所述放置平台上,且同时将所述放置平台的所述曝光件搬运至所述下料输送线上。

13、根据本发明的一些实施例,所述输送装置还包括多个纠偏机构,多个所述纠偏机构分别设在所述上料输送线和所述下料输送线上,所述纠偏机构用于调整所述待曝光件的输送方向。

14、根据本发明第二方面实施例的高精度图形对位的曝光方法,包括以下步骤:

15、s1、在待曝光件的表面制作定位图形;

16、s2、将步骤s1中的所述待曝光件搬运至曝光设备的放置平台上,并转动至所述曝光设备的成像系统处,对所述待曝光件的所述定位图形进行成像,所述曝光设备为根据本发明上述第一方面实施例的曝光设备;

17、s3、将步骤s2中的所述待曝光件转动至所述曝光设备的对位装置处,调节所述对位装置的固定平台使掩膜版运动至设定高度且与所述待曝光件对准;

18、s4、开启所述曝光设备的曝光装置对所述待曝光件进行曝光处理。

19、根据本发明实施例的高精度图形对位的曝光方法,使待曝光件上的定位图形能够与掩膜版的定位图形实现高精度对准,满足了高精度图形对位的工艺需求,提高了对待曝光件图形化的生产效率,降低了生产成本。

20、根据本发明的一些实施例,在步骤s4中,需开启所述曝光设备的气体喷射装置,使所述待曝光件和所述掩膜版之间填充惰性气体。

21、根据本发明的一些实施例,在步骤s3中,控制所述掩膜版与所述待曝光件之间的最小距离在0~100微米之间。

22、根据本发明的一些实施例,在步骤s1之后和步骤s2之前还包括:

23、s2’、在所述待曝光件的表面涂覆感光材料。

24、根据本发明的一些实施例,步骤s4之后还包括:

25、s5、对步骤s5中的曝光件进行显影处理,以在所述曝光件表面形成相应图形。

26、根据本发明的一些实施例,所述待曝光件通过激光刻蚀、印刷、打印或化学刻蚀形成所述定位图形。

27、本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本发明的实践了解到。



技术特征:

1.一种曝光设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的曝光设备,其特征在于,所述移动系统包括:

3.根据权利要求2所述的曝光设备,其特征在于,所述移动系统还包括旋转件,所述旋转件设在所述第三移动模块上,所述固定平台设在所述旋转件上。

4.根据权利要求3所述的曝光设备,其特征在于,所述旋转件和所述放置平台之间设有测距系统,用于测量所述掩膜版和所述待曝光件之间的最小距离,且所述测量系统与所述移动系统通讯连接。

5.根据权利要求1所述的曝光设备,其特征在于,所述放置平台上设有吸附系统,所述吸附系统用于将所述待曝光件吸附在所述放置平台上。

6.根据权利要求1-5任一项所述的曝光设备,其特征在于,所述放置平台为多个,多个所述放置平台沿所述驱动件的周向间隔开,每个所述放置平台具有至少一个放置区,所述待曝光件放置于所述放置区。

7.根据权利要求1所述的曝光设备,其特征在于,还包括:

8.根据权利要求1所述的曝光设备,其特征在于,还包括:

9.根据权利要求1所述的曝光设备,其特征在于,所述输送装置包括上料输送线、下料输送线和运输机构,所述上料输送线和所述下料输送线分别位于所述旋转装置的彼此相对的两侧,所述运输机构设在所述上料输送线和所述下料输送线之间,用于将所述上料输送线的所述待曝光件搬运至所述放置平台上,且同时将所述放置平台的所述曝光件搬运至所述下料输送线上。

10.根据权利要求9所述的曝光设备,其特征在于,所述输送装置还包括多个纠偏机构,多个所述纠偏机构分别设在所述上料输送线和所述下料输送线上,所述纠偏机构用于调整所述待曝光件的输送方向。

11.一种高精度图形对位的曝光方法,其特征在于,包括以下步骤:

12.根据权利要求11所述的高精度图形对位的曝光方法,其特征在于,在步骤s4中,需开启所述曝光设备的气体喷射装置,使所述待曝光件和所述掩膜版之间填充惰性气体。

13.根据权利要求11所述的高精度图形对位的曝光方法,其特征在于,在步骤s3中,控制所述掩膜版与所述待曝光件之间的最小距离在0~100微米之间。

14.根据权利要求11所述的高精度图形对位的曝光方法,其特征在于,在步骤s1之后和步骤s2之前还包括:

15.根据权利要求11所述的高精度图形对位的曝光方法,其特征在于,步骤s4之后还包括:

16.根据权利要求11-15任一项所述的高精度图形对位的曝光方法,其特征在于,所述待曝光件通过激光刻蚀、印刷、打印或化学刻蚀形成所述定位图形。


技术总结
本发明公开了一种曝光设备和高精度图形对位的曝光方法,曝光设备包括输送装置、旋转装置、对位装置和曝光装置。输送装置用于输送待曝光件;旋转装置设在输送装置的输送方向的下游,旋转装置包括驱动件和至少一个放置平台,放置平台用于放置待曝光件,驱动件为放置平台的转动提供驱动力。对位装置设在旋转装置的远离输送装置的一侧,对位装置包括固定平台和移动系统,固定平台用于固定掩膜版,且固定平台位于放置平台的上方,移动系统用于带动固定平台移动使掩膜版与待曝光件对准;曝光装置设在对位装置的上方。根据本发明实施例的曝光设备,能够满足高精度的图形化要求,同时曝光设备更加自动化,能够有效提升生产效率,降低生产成本。

技术研发人员:杨保平
受保护的技术使用者:合肥芯碁微电子装备股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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