用于光刻设备的曝光成型方法与流程

本发明涉及光刻领域，特别涉及一种用于光刻设备的曝光成型方法。

背景技术：

1、众所周知，光刻设备的作业过程中，主要是通过激光光源射出激光，并通过激光对芯片进行照射，从而完成对芯片的光刻作业。其中，芯片的基板和激光之间的对准尤为重要。目前主要通过作业前对二者进行对位，来保证二者之间的对准效果。然而，这样的对位方式难以解决在光刻过程中可能产生的晃动、窜动所导致的偏位问题。

技术实现思路

1、本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出一种用于光刻设备的曝光成型方法，能够更准确地对激光和基板之间进行对位。

2、根据本发明的第一方面实施例的用于光刻设备的曝光成型方法，包括：激光光源、引射系统、空间光调制器、成像系统、投射目标和对位系统，以及以下步骤；

3、s1，激光光源射出激光；

4、s2，引射系统对激光光源所射出的激光进行引导和均匀化，并使得其入射至空间光调制器；

5、s3，空间光调制器将入射光进行调制并在之后将其引导进入成像系统，成像系统将入射光处理为成像光和检测光；

6、s4，投射目标具有成像位和检测位，其中，成像系统将成像光引导照射于成像位，成像系统将检测光引导照射于检测位；

7、s5，对位系统连接有位移平台，投射目标安装于位移平台，对位系统根据照射于检测位处的检测光的情况操作位移平台进行位置调整，并使得检测光和检测位之间可以实时对位准确。

8、根据本发明实施例的用于光刻设备的曝光成型方法，至少具有如下有益效果：在激光光源射出激光，引射系统和空间光调制器分别对入射光进行引导和处理后，会将其分为成像光和检测光。其中，成像光将会被引导射入于成像位，检测光将会被引导射入于检测位。对位系统将会根据照射于检测位处的光线调整位移平台的位置，因此，位移平台将可以带动投射目标运动，并使得其保持与检测光的实时对位效果。由于检测光来自于激光光源，因此投射目标与激光光源之间将会得到实时的位置调整，以确保二者始终保持对位准确，进而可以有效地促使成像位处达到更加精准的成像效果。

9、根据本发明的一些实施例，步骤s4中，所述成像系统包括成像镜头和分光镜组，所述空间光调制器引导入射光一并照射于成像镜头处和分光镜组处；所述成像镜头将入射光成像处理于投射目标，所述分光镜组对入射光进行折射并引导其照射于检测位。

10、根据本发明的一些实施例，所述分光镜组包括多个反射镜，各个所述反射镜环绕所述成像镜头分布；所述检测位为多个且环绕所述成像位分布，所述反射镜用于将入射光一一对应地射入于各个所述检测位。

11、根据本发明的一些实施例，所述激光光源包括第一光源和第二光源，所述第一光源对所述引射系统进行激光照射，所述第二光源对所述分光镜组进行光照。

12、根据本发明的一些实施例，所述第二光源包括多个光源体，各个所述光源体环绕围成封闭图形，各个所述光源体能够发出可见光。

13、根据本发明的一些实施例，所述第二光源为三色led光源。

14、根据本发明的一些实施例，还包括驱动机构,所述驱动机构与所述激光光源连接并驱使激光光源位移。

15、根据本发明的一些实施例，所述检测位处设置有光传感器，所述光传感器与所述位移平台电连接并能够控制所述位移平台的位移量。

16、根据本发明的一些实施例，步骤s6中，所述光传感器对所述检测位处的检测光的位置变化进行检测，所述位移平台根据检测光的位置变化带动所述投射目标运动。

17、根据本发明的一些实施例，所述空间光调制器包括多个呈多拍多列分布的像素开关，通过光照改变不同位置的像素开关的启闭状态，实现对入射光的光强调制效果。

18、本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

技术特征：

1.一种用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于，包括：激光光源(100)、引射系统(200)、空间光调制器(300)、成像系统(400)、投射目标(500)和对位系统，以及以下步骤；

2.如权利要求1所述的用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于：

3.如权利要求2所述的用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于：

4.如权利要求2所述的用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于：

5.如权利要求4所述的用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于：

6.如权利要求5所述的用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于：所述第二光源(170)为三色led光源。

7.如权利要求1所述的用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于：

8.如权利要求7所述的用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于：

9.如权利要求8所述的用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于：

10.如权利要求9所述的用于光刻设备的曝光成型方法，其特征在于：

技术总结
本发明公开了一种用于光刻设备的曝光成型方法，其包括：激光光源、引射系统、空间光调制器、成像系统、投射目标和对位系统，以及以下步骤；激光光源射出激光、将入射光进行调制并在之后将其引导进入成像系统，成像系统将入射光处理为成像光和检测光；对位系统连接有位移平台，投射目标安装于位移平台，对位系统根据照射于检测光的情况操作位移平台进行位置调整，并使得检测光可以对位准确。对位系统将会根据照射于检测位处的光线调整位移平台的位置，因此，位移平台将可以带动投射目标运动，并使得其保持与检测光的实时对位效果。

技术研发人员：陈超,尚小兵,涂先勤,蔡自立,汪益立,零萍,陈锡媛
受保护的技术使用者：中山新诺科技股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15