一种显示面板、彩膜基板及彩膜基板的制备方法与流程

本申请涉及显示，尤其是涉及一种显示面板、彩膜基板及彩膜基板的制备方法。

背景技术：

1、偏光片(pol)能够有效地降低强光下显示面板的反射率，却损失了接近58％的出光。这对于显示面板来说，极大地增加了其寿命负担；另一方面，偏光片厚度较大、材质脆，不利于动态弯折产品的开发。使用彩膜基板(color filter、简称cf)替代偏光片被归属为pol-less(去偏光片技术)。pol-less技术的基本原理是用彩色滤光膜代替偏光片来改善反射效应，其工作原理简单：仅有与像素相同颜色光可以透过，其他光线(包括入射光、反射光)都会被黑色遮光层吸收。

2、pol-less(去偏光片技术)目前是面板厂商大力开发的新技术，cf取代pol使得面板厚度更薄更利于应用于折叠显示，带来的问题点是使用cf意味着需要更多的mask(掩膜版)，而掩膜版设备是面板制造中最昂贵的工具之一，将给厂商带来巨额资本支出。

技术实现思路

1、本申请提供一种显示面板、彩膜基板及彩膜基板的制备方法，其能够解决现有的彩膜基板制备需要的掩膜版多的问题。

2、为解决上述技术问题，本申请提供的第一个技术方案为：提供一种彩膜基板，所述彩膜基板包括多个光阻单元，每个光阻单元包括第一光阻块、第二光阻块、第三光阻块，且相邻两个光阻块之间设置有遮光层，所述遮光层包括层叠设置的第一子遮光层、第二子遮光层和第三子遮光层；其中，所述第一光阻块和所述第一子遮光层由第一光阻层图案化形成，所述第二光阻块和所述第二子遮光层由第二光阻层图案化形成，所述第三光阻块和所述第三子遮光层由第三光阻层图案化形成，所述第一光阻层、所述第二光阻层以及所述第三光阻层的颜色不同，且其中两个为正性光阻层，另外一个为负性光阻层。

3、在一实施例中，所述第一光阻块、所述第二光阻块和所述第三光阻块的厚度的取值范围为1.5-6微米，所述第一子遮光层、所述第二子遮光层和所述第三子遮光层的厚度的取值范围为0.5-4微米。

4、在一实施例中，所述第一光阻块、所述第二光阻块以及所述第三光阻块的厚度相同；所述第一子遮光层、所述第二子遮光层以及所述第三子遮光层的厚度相同；且所述遮光层的厚度大于所述第一光阻块、所述第二光阻块以及所述第三光阻块的厚度。

5、在一实施例中，所述第一光阻块与所述第一子遮光层的颜色相同，所述第二光阻块与所述第二子遮光层的颜色相同，所述第三光阻块与所述第三子遮光层的颜色相同，且所述第一光阻块、所述第二光阻块与所述第三光阻块分别包括红色、绿色和蓝色中的一种。

6、为解决上述技术问题，本申请提供的第二个技术方案为：提供一种显示面板，包括：阵列基板；彩膜基板，相对设置于所述阵列基板的一侧，且所述彩膜基板为上述任一项所述的彩膜基板。

7、为解决上述技术问题，本申请提供的第三个技术方案为：提供一种彩膜基板的制备方法，包括：提供基板，所述基板包括第一光阻块对应区、第二光阻块对应区、第三光阻块对应区、以及位于相邻光阻块对应区之间的遮光对应区；在基板上涂布第一光阻层并对其图案化处理；图案化的所述第一光阻层包括位于第一光阻块对应区上的第一光阻块和位于遮光对应区上的第一子遮光层；在所述第一光阻层背离所述基板的表面涂布第二光阻层并对其图案化处理；图案化的所述第二光阻层包括位于第二光阻块对应区上的第二光阻块和位于遮光对应区上的第二子遮光层；在所述第二光阻层背离所述基板的表面涂布第三光阻层并对其图案化处理；图案化的所述第三光阻层包括位于第三光阻块对应区上的第三光阻块和位于所述遮光对应区上的第三子遮光层；并使所述遮光对应区上的所述第一子遮光层、所述第二子遮光层以及所述第三子遮光层层叠形成遮光层；其中，所述第一光阻层、所述第二光阻层以及所述第三光阻层的颜色不同，且其中两个为正性光阻层，另外一个为负性光阻层；两个所述正性光阻层的图案化分别应用第一掩膜版和第二掩膜版完成，所述负性光阻层的图案化应用层叠设置的所述第一掩膜版和所述第二掩膜版完成。

8、在一实施例中，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版均包括光透过率为0％的第一透光区、光透过率为100％的第二透光区、以及光透过率范围为33-67％的第三透光区；两个所述正性光阻层形成的两个光阻块分别对应所述第一掩膜版和所述第二掩膜版的所述第一透光区设置，两个所述正性光阻层形成的两个子遮光层对应所述第一掩膜版和所述第二掩膜版的所述第三透光区设置；所述第一掩膜版和所述第二掩膜版层叠设置形成复合掩膜版，所述复合掩膜版包括光透过率为0％的第四透光区、光透过率为100％的第五透光区、以及光透过率范围为33-67％的第六透光区；所述负性光阻层形成的光阻块对应所述复合掩膜版的所述第五透光区设置，所述负性光阻层形成的子遮光层对应所述复合掩膜版的所述第六透光区设置。

9、在一实施例中，所述第三透光区的光透过率为50％，所述第六透光区由所述第一掩膜版的所述第三透光区和所述第二掩膜版的所述第三透光区层叠设置形成，且所述第六透光区的光透过率为50％。

10、在一实施例中，所述第一光阻层为负性光阻层；或，所述第二光阻层为负性光阻层；或，所述第三光阻层为负性光阻层。

11、在一实施例中，所述第一光阻层、所述第二光阻层和所述第三光阻层的颜色分别包括红色、绿色和蓝色中的一种。

12、区别于现有技术，本申请的有益效果在于，第一光阻块和第一子遮光层由第一光阻层图案化形成，第二光阻块和第二子遮光层由第二光阻层图案化形成，第三光阻块和第三子遮光层由第三光阻层图案化形成，且第一光阻层、第二光阻层以及第三光阻层的其中两个为正性光阻层，另外一个为负性光阻层，通过上述设计，使得在制备彩膜基板时，用于对两个正性光阻层进行图案化用的掩膜版，可以层叠设置以对负性光阻层进行图案化，因而彩膜基板可以只利用两张掩膜版形成，从而简化彩膜基板的制备工艺，且节省成本。

技术特征：

1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括多个光阻单元，每个光阻单元包括第一光阻块、第二光阻块、第三光阻块，且相邻两个光阻块之间设置有遮光层，所述遮光层包括层叠设置的第一子遮光层、第二子遮光层和第三子遮光层；

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一光阻块、所述第二光阻块和所述第三光阻块的厚度的取值范围为1.5-6微米，所述第一子遮光层、所述第二子遮光层和所述第三子遮光层的厚度的取值范围为0.5-4微米。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一光阻块、所述第二光阻块以及所述第三光阻块的厚度相同；

4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一光阻块与所述第一子遮光层的颜色相同，所述第二光阻块与所述第二子遮光层的颜色相同，所述第三光阻块与所述第三子遮光层的颜色相同，且所述第一光阻块、所述第二光阻块与所述第三光阻块分别包括红色、绿色和蓝色中的一种。

5.一种显示面板，其特征在于，包括：

6.一种彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版均包括光透过率为0％的第一透光区、光透过率为100％的第二透光区、以及光透过率范围为33-67％的第三透光区；两个所述正性光阻层形成的两个光阻块分别对应所述第一掩膜版和所述第二掩膜版的所述第一透光区设置，两个所述正性光阻层形成的两个子遮光层对应所述第一掩膜版和所述第二掩膜版的所述第三透光区设置；

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述第三透光区的光透过率为50％，所述第六透光区由所述第一掩膜版的所述第三透光区和所述第二掩膜版的所述第三透光区层叠设置形成，且所述第六透光区的光透过率为50％。

9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述第一光阻层为负性光阻层；或，

10.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述第一光阻层、所述第二光阻层和所述第三光阻层的颜色分别包括红色、绿色和蓝色中的一种。

技术总结
本申请提供一种显示面板、彩膜基板及彩膜基板的制备方法，彩膜基板包括多个光阻单元，每个光阻单元包括第一光阻块、第二光阻块、第三光阻块，且相邻两个光阻块之间设置有遮光层，遮光层包括层叠设置的第一子遮光层、第二子遮光层和第三子遮光层；其中，第一光阻块和第一子遮光层由第一光阻层图案化形成，第二光阻块和第二子遮光层由第二光阻层图案化形成，第三光阻块和第三子遮光层由第三光阻层图案化形成，第一光阻层、第二光阻层以及第三光阻层的颜色不同，且其中两个为正性光阻层，另外一个为负性光阻层。上述彩膜基板的结构设计，可以只利用两张掩膜版形成，从而简化彩膜基板的制备工艺，且节省成本。

技术研发人员：马玉洁,陈牡丹,董耀龙
受保护的技术使用者：昆山国显光电有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15