本发明属于光刻胶剥除领域，具体涉及高效型剥除液在光刻胶剥除中的应用。
背景技术：
1、光刻胶剥离是通过剥离液和光刻胶的化学反应，使光刻胶膨胀、软化并溶解。一般的剥离液是无色透明，有刺激性气味的液体。有机溶剂在反应中起到反应溶剂、反应试剂的双重作用，使某些不能实现的反应在有机溶剂中能顺利进行，对某些化学反应具有加速、催化作用，提高收率，改革产品性能，在这里的作用是使光刻胶膨润。mea的作用是浸透光刻胶/膜的界面，使光刻胶脱离并溶解。安集科技生产线使用的剥离液都有自己的配方，配方组成的原则主要根据采用的光刻胶的性质来决定，要求与图形膜不能发生化学反应，剥离时间要尽可能的短，剥离不能有残留，价格要低。包装一般采用大型不锈钢容器(罐)。
2、光刻胶剥离波是制作微电子器件中必不可少的材料。它可以移除光刻胶，使得器件的制造更加精确和可控。本文将详细介绍光刻胶剥离液的原理、成分、性能及其应用。
3、光刻胶是一种类似于油墨的物质，主要由具有光敏性质的高分子材料制成。当光照射到光刻胶表面时，光刻胶会在被照射的区域发生化学变化，形成固体图案。而没有被照射的部分则仍然是波态的光刻胶。制造微电子器件时，需要在电路板上使用光刻胶形成电路图案。光刻胶在电路板完成后需要被移除。这时，光刻胶剥离液便派上用场。
4、光刻胶剥离液的原理是利用化学反应将光刻胶溶解、去除。光刻胶剥离液分了具有一定的活性，能够与光刻胶中的化学键结合，并破坏其内部结构。这些破坏导致光刻胶成分断裂，溶丁剥离液中。光刻胶剥离液的延展性很好，可以覆盖大面积的电路板。这种性质使得光刻胶剥离液很容易应用于生产过程中。光刻胶剥离液的反应速度很快，可以在较短的时间内将光刻胶溶解除去。光刻胶剥离波分子本身是具有一定活性，可以快速地与光刻胶发生反应。这种活性可以促进光刻胶的分解，从而加速去除遗留在电路板上的光刻胶。
5、光刻胶剥离液是一种必不可少的材料，其主要日的是为了去除光刻胶。光刻胶剥离液广泛应用于半导体工业、电子制造、光电子制造和微机电系统等领域。在电路板制造过程中，光刻胶剥离液通常被用于去除光刻胶。经过此步骤，电路板的主要元器件图案就基本完成了。随后，需要进行电锁和装配等工艺，才能最终制成一颗电子器件。
6、光刻胶剥离液是制造微电子器件不可或缺的重要材料。它具有良好的化学反应性、安全性和成本效益，适用于各种不同的制造过程。除了在电路板制造过程中，光刻胶剥离液还广泛应用于晶体管和金属氧化物场效应管制造中。
7、在品体管制造中，光刻胶通常被用于形成源极、漏极和栅极等结构。在这一步骤完成后，光刻胶剥离液便会被用于去除光刻胺，从而形成具有几何形状的源、漏和栅电极。
8、光刻胶剥离波在微机电系统制造中也得到广泛应用。微机电系统是一种高度朱成的微型机械装置和电子元器件，被广泛应用于生物医学、雾霾监测、生产制造等领域。
技术实现思路
1、现有技术中存在的技术问题是常规光刻胶剥除液对于光刻胶的去除能力有限，因为产品中含水率高，会导致产品内的溶剂被稀释，影响剥除效能，且含水率增加对于金属(铜、钛、铝)的攻击是同比增加的，所以针对此问题，特别开发出低含水率之高效型光刻胶剥除液。
2、为了解决上述存在的技术问题，本申请提供如下技术方案：
3、本发明提供高效型剥除液在光刻胶剥除中的应用，所述高效型剥除液，按重量分数计，包括如下组分：70-84％物料a，15-25％物料b和0.1-1％的核心添加剂；
4、所述物料a选自二甲基亚砜；
5、所述物料b选自丙酮、正戊醇、正丁醇、丁脂、氯苯、氯仿、环己烷、二丙二醇甲醚、二氯甲烷、乙醚、1,2二氯乙烯、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、二甲基乙酰胺、乙醇、二丙二醇丁醚、乙酸乙脂、已烷、甲醇、二乙二醇丁醚、n-甲基吡咯烷酮、异丙醇、1,1,2,2-四氯乙烷、1,1,1-三氯乙烷、正丙醇、四甲基氢氧化铵、四氢呋喃、四氯化碳、甲苯、α-吡咯烷酮、三氯乙烯、四氯乙烯、苯酚或二甲苯；
6、所述核心添加剂选自四甲基氢氧化铵。
7、优选的，所述高效型剥除液，按重量分数计，包括如下组分：75％物料a，24％物料b和1％的核心添加剂。
8、优选的，所述高效型剥除液的制备方法，包括如下步骤：
9、s1：将物料b和物料a混合后静置冷却，得到一次混合料；
10、s2：向所述一次混合料中加入核心添加剂，混合后过滤，得到所述高效型剥除液。
11、进一步地，所述步骤s1中，混合的方法为搅拌。
12、具体的，所述搅拌的时间为10-60min。
13、进一步地，所述步骤s1中，静置冷却至40℃以下。
14、进一步地，所述步骤s2中，过滤采用过滤机。
15、进一步地，所述步骤s2中，过滤的时间为10-60min。
16、进一步地，所述步骤s2中，混合的时间为10-60min。
17、进一步地，所述步骤s2中，采用搅拌机进行混合。
18、本发明的技术方案相比现有技术具有以下优点：
19、本发明是为解决正型光刻胶去除之效率不佳和金属攻击而进行开发的产品。有益效果为：
20、1.能够提光高刻胶剥除效率和能力；2.减少金属，如铜、钛、铝的攻击。
21、本发明的高效型光刻胶剥除液，是针对正型光刻胶去除效率和金属攻击进行优化改善所发明的产品，不含有目前化学品限制规范的物质并且符合相关环保部门的意见及规范。
1.高效型剥除液在光刻胶剥除中的应用，其特征在于，所述高效型剥除液，按重量分数计，包括如下组分：70-84％物料a，15-25％物料b和0.1-1％的核心添加剂；
2.如权利要求1所述的应用，其特征在于，所述高效型剥除液，按重量分数计，包括如下组分：75％物料a，24％物料b和1％的核心添加剂。
3.如权利要求1所述的应用，其特征在于，所述高效型剥除液的制备方法，包括如下步骤：
4.如权利要求3所述的应用，其特征在于，所述步骤s1中，混合的方法为搅拌。
5.如权利要求4所述的应用，其特征在于，所述搅拌的时间为10-60min。
6.如权利要求3所述的应用，其特征在于，所述步骤s1中，静置冷却至40℃以下。
7.如权利要求3所述的应用，其特征在于，所述步骤s2中，过滤采用过滤机。
8.如权利要求3所述的应用，其特征在于，所述步骤s2中，过滤的时间为10-60min。
9.如权利要求3所述的应用，其特征在于，所述步骤s2中，混合的时间为10-60min。
10.如权利要求3所述的应用，其特征在于，所述步骤s2中，采用搅拌机进行混合。