基于确定性筛选实验的像差处理方法、电子设备及介质

本公开涉及高分辨成像领域，尤其涉及一种基于确定性筛选实验的像差处理方法、电子设备及介质。

背景技术：

1、光刻工艺是大规模集成电路制造中的关键工艺。

2、从光学设计角度，投影光刻系统零像差是一种理想的设计，但是在实际的光刻系统中，由于光刻系统的衍射限制以及加工制造中存在误差等因素，使得像面上理想波前的传播方向和相位发生改变，实际波前与理想波前存在像差。

3、在实现本公开发明构思的过程中，发明人发现，对像差进行建模与验证，存在耗时长的问题。

技术实现思路

1、鉴于上述问题，本公开提供了基于确定性筛选实验的像差处理方法、电子设备及介质。

2、根据本公开的第一个方面，提供了一种基于确定性筛选实验的像差处理方法，包括：将光刻系统的实验显影图案信息和与实验显影图案信息对应的实验像差信息输入关系模型，拟合得到关系模型的i个系数，其中，实验像差信息和实验显影图案信息均是通过对象使用光刻系统进行确定性筛选实验获得的，关系模型是根据像差信息与显影图案信息之间的关联关系构建的，像差信息包括与i个系数对应的i个几何像差项，系数用于表征与系数对应的几何像差项对显影图案信息的影响度，i为大于1的正整数；从关系模型的i个系数中确定目标系数；根据i个几何像差项中与目标系数对应的几何像差项，对像差信息进行优化，得到目标像差信息。

3、根据本公开的实施例，实验显影图案信息包括实验图案线宽信息和实验图案位置偏移信息，关系模型包括第一关系模型和第二关系模型，第一关系模型是根据像差信息与图案线宽信息之间的关联关系构建的，第二关系模型是根据像差信息与图案位置偏移信息之间的关联关系构建的；将光刻系统的实验显影图案信息和与实验显影图案信息对应的实验像差信息输入关系模型，拟合得到关系模型的i个系数，包括：将实验图案线宽信息和与实验图案线宽信息对应的实验像差信息输入第一关系模型，拟合得到第一关系模型的m个第一系数，其中，m为大于1的正整数；将实验图案位置偏移信息和与实验图案位置偏移信息对应的实验像差信息输入第二关系模型，拟合得到第二关系模型的n个第二系数，其中，n为大于1的正整数，m+n＝i。

4、根据本公开的实施例，将实验图案线宽信息和与实验图案线宽信息对应的实验像差信息输入第一关系模型，拟合得到第一关系模型的m个第一系数，包括：将实验图案线宽信息和与实验图案线宽信息对应的实验像差信息输入第一关系模型，拟合得到第一关系模型的m个第一初始系数；利用第一预定函数处理m个第一初始系数，计算得到与m个第一初始系数各自对应的二阶系数；将m个第一初始系数和与m个第一初始系数各自对应的二阶系数进行相加计算，得到m个第一系数。

5、根据本公开的实施例，从i个系数中确定目标系数，包括：从m个第一系数中确定第一目标系数；从n个第二系数中确定第二目标系数。

6、根据本公开的实施例，从m个第一系数中确定第一目标系数，包括：对m个第一系数进行排序，得到关于图案线宽信息的第一排序结果；根据第一排序结果和第一预定阈值，从m个第一系数中，确定第一目标系数。

7、根据本公开的实施例，根据第一排序结果和第一预定阈值，从m个第一系数中，确定第一目标系数，包括：根据m个第一系数，计算得到第一总系数和；按照第一排序结果，累加m个第一系数中的m个第一系数，得到第一系数和，其中，m为小于m且大于1的正整数；根据第一系数和占第一总系数和的比例，得到第一比值；在第一比值大于等于第一预定阈值的情况下，将m个第一系数确定为第一目标系数。

8、根据本公开的实施例，根据i个几何像差项中与目标系数对应的几何像差项，对像差信息进行优化，得到目标像差信息，包括：根据i个几何像差项和m个第一目标系数，构建包括m个第一目标几何像差项的第一几何像差集，其中，m个第一目标几何像差项与m个第一目标系数对应；根据i个几何像差项和n个第二目标系数，构建包括n个第二目标几何像差项的第二几何像差集，其中，n个第二目标几何像差项与n个第二目标系数对应；根据第一几何像差集和第二几何像差集，对像差信息进行优化，得到目标像差信息。

9、根据本公开的实施例，根据第一几何像差集和第二几何像差集，对像差信息进行优化，得到目标像差信息，包括：将第一目标几何像差集和第二目标几何像差集的并集，确定为目标几何像差集；根据目标几何像差集中的几何像差项，对像差信息进行优化，得到目标像差信息。

10、本公开的第二方面提供了一种电子设备，包括：一个或多个处理器；存储器，用于存储一个或多个程序，其中，当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行时，使得一个或多个处理器执行上述方法。

11、本公开的第三方面还提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有可执行指令，该指令被处理器执行时使处理器执行上述方法。

12、根据本公开提供的基于确定性筛选实验的像差处理方法、电子设备及介质，通过使用光刻系统进行确定性筛选实验，得到全面的实验显影图案信息和实验像差信息并拟合得到准确的关系模型的系数，由于系数与几何像差项对显影图案信息的影响度相关，因此，通过选取目标系数，可以确定与目标系数对应的几何像差项为影响能力强的目标几何像差项。进而，根据目标几何像差项，对像差信息进行优化，减少像差信息中对显影图案信息影响能力弱的几何像差项，仅针对对显影图案信息影响能力强的几何像差项进行计算，充分利用了计算机的算力，提高计算机的计算像差信息的效率，从而实现在不牺牲像差精度的情况下减少了像差信息的信息量，可以根据不同的精度和计算时长的需求合理选择所需几何像差的数量，具有较大的灵活性，也可以为其他参数影响度分析领域提供合理的指导方向。

技术特征：

1.一种基于确定性筛选实验的像差处理方法，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述实验显影图案信息包括实验图案线宽信息和实验图案位置偏移信息，所述关系模型包括第一关系模型和第二关系模型，所述第一关系模型是根据所述像差信息与图案线宽信息之间的关联关系构建的，所述第二关系模型是根据所述像差信息与图案位置偏移信息之间的关联关系构建的；

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述将所述实验图案线宽信息和与所述实验图案线宽信息对应的实验像差信息输入第一关系模型，拟合得到所述第一关系模型的m个第一系数，包括：

4.根据权利要求2所述的方法，其中，所述从所述i个系数中确定目标系数，包括：

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述从所述m个第一系数中确定第一目标系数，包括：

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述根据所述第一排序结果和第一预定阈值，从所述m个第一系数中，确定所述第一目标系数，包括：

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述根据所述i个几何像差项中与所述目标系数对应的几何像差项，对所述像差信息进行优化，得到目标像差信息，包括：

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述根据所述第一几何像差集和所述第二几何像差集，对所述像差信息进行优化，得到目标像差信息，包括：

9.一种电子设备，包括：

10.一种计算机可读存储介质，其上存储有可执行指令，该指令被处理器执行时使处理器执行根据权利要求1～8中任一项所述的方法。

技术总结
本公开提供了一种基于确定性筛选实验的像差处理方法、电子设备及介质，可以应用于高分辨成像技术领域。该方法包括：将光刻系统的实验显影图案信息和与实验显影图案信息对应的实验像差信息输入关系模型，拟合得到关系模型的I个系数，其中，实验像差信息和实验显影图案信息均是通过对象使用光刻系统进行确定性筛选实验获得的，关系模型是根据像差信息与显影图案信息之间的关联关系构建的，系数用于表征与系数对应的几何像差项对显影图案信息的影响度，I为大于1的正整数；从关系模型的I个系数中确定目标系数；根据I个几何像差项中与目标系数对应的几何像差项，对像差信息进行优化，得到目标像差信息。

技术研发人员：韦亚一,王嘉硕,苏晓菁
受保护的技术使用者：中国科学院微电子研究所
技术研发日：
技术公布日：2024/5/6