一种剥离液及其制备方法与应用与流程

本发明涉及剥离液，具体涉及一种剥离液及其制备方法与应用。

背景技术：

1、传统的用于制造剥离组合物常混合有伯胺或仲胺等有机胺与极性溶剂或二醇；如单乙醇胺(mea)用作伯胺，2-甲氨基乙醇等用作仲胺，n-甲基吡咯烷酮(nmp)、环丁烯砜、二甲亚砜(dmso)等用作极性溶剂，二乙二醇单乙醚(edg)、二乙二醇单丁醚(bdg)、三乙二醇醚(teg)等用作二醇，而该剥离液的剥离性能差，以及在高温、酸腐条件下稳定性差，从而限制了剥离效率，基于此，本发明对其进一步的改进处理。

技术实现思路

1、针对现有技术的缺陷，本发明的目的是提供一种剥离液及其制备方法与应用，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、本发明解决技术问题采用如下技术方案：

3、本发明提供了一种剥离液，所述剥离液包括以下重量份原料：

4、n-甲基吡咯烷酮20-30份、乙二胺10-20份、甲氨基环戊醇5-10份、氮基三乙酸1-4份。

5、优选地，所述剥离液包括以下重量份原料：

6、n-甲基吡咯烷酮25份、乙二胺15份、甲氨基环戊醇7.5份、氮基三乙酸2.5份。

7、优选地，所述剥离液还包括片状石墨烯调节效进剂5-10份、3-6份纳米晶须改性剂；

8、所述片状石墨烯调节效进剂的制备方法为：

9、s01：将片状石墨烯先于足量的高锰酸钾溶液中超声分散均匀，然后水洗、干燥，再于热改进调节处理，处理结束，得到热调节的石墨烯剂；

10、s02：将质量分数5％-10％的十二烷基苯磺酸钠溶液中加入十二烷基苯磺酸钠溶液总量2％-5％的质量分数5％的氯化镧溶液、十二烷基苯磺酸钠溶液总量1％-3％的柠檬酸，搅拌充分，得到预调液；

11、s03：将热调节的石墨烯剂于热调节的石墨烯剂总量5-10倍的预调液中搅拌预调处理，搅拌结束，水洗、干燥，得到预调的石墨烯；

12、s04：将预调的石墨烯、效进液按照重量比5:2球磨改进处理，球磨转速为1000-1500r/min，球磨时间为1-2h，球磨结束，水洗、干燥，得到状石墨烯调节效进剂。

13、优选地，所述高锰酸钾溶液的质量分数为10％-15％；所述超声分散的功率为300-350w，超声时间为1-2h。

14、优选地，所述热改进调节处理的具体操作步骤为：

15、先以210-230℃的温度热处理5-10min，然后以2-3℃/min的速率冷却至150-160℃，保温2-5min，最后再以1-2℃/min的速率冷却至室温即可。

16、优选地，所述搅拌预调处理的搅拌转速为750-850r/min，搅拌时间为1-2h。

17、优选地，所述效进液包括以下重量份原料：

18、纳米硅溶胶2-5份、ph值为5.0的磷酸缓冲溶液1-3份、4-7份尿素和8-12份质量分数10％的柠檬酸钠溶液以及1-2份纳米氧化锌。

19、优选地，所述纳米晶须改性剂的制备方法为：

20、s101：将硅灰石先于55-60℃下预热10-15min，然后于3倍-5倍的质量分数5％的硝酸钇溶液中浸入处理，浸入压力为10-15mpa，浸入时间为1-2h，浸入结束，得到硅灰石剂；

21、s102：将纳米硫酸钙晶须先于纳米硫酸钙晶须总量3倍-5倍的质量分数5％的壳聚糖溶液中搅拌均匀，然后加入纳米硫酸钙晶须总量2％-5％的硅灰石剂、纳米硫酸钙晶须2％-5％的木质素磺酸钠，搅拌充分，最后水洗、干燥，得到纳米晶须改性剂。

22、本发明还提供了一种剥离液的制备方法，包括以下步骤：

23、步骤一：称取原料：

24、步骤二：将n-甲基吡咯烷酮、乙二胺、甲氨基环戊醇、氮基三乙酸和片状石墨烯调节效进剂、纳米晶须改性剂倒入搅拌机中搅拌处理，搅拌充分，得到剥离液。

25、本发明还提供了一种如剥离液在芯片光刻胶剥离中的应用。

26、与现有技术相比，本发明具有如下的有益效果：

27、本发明剥离液采用n-甲基吡咯烷酮、乙二胺、甲氨基环戊醇、氮基三乙酸作为基体剂，形成剥离效果，通过片状石墨烯调节效进剂、纳米晶须改性剂相互调配，共同组效形成的产品能够增强剥离性能效果，同时优化产品的耐高温、耐酸腐稳定性；片状石墨烯调节效进剂采用状石墨烯先于足量的高锰酸钾溶液中超声分散均匀，然后水洗、干燥，再于热改进调节处理，通过该步骤优化，优化石墨烯的活性效能和分散度，再配合预调液预调改进，从而能够更好的配合效进液球磨改进，以效进液的原料之间相互调和共同组效，从而得到的片状石墨烯调节效进剂在体系中分布更稳定，得到的产品性能效果更强，而纳米晶须改性剂以纳米硫酸钙晶须经过壳聚糖液、硅灰石剂和木质素磺酸钠配合，从而得到的纳米晶须改性剂更好的与片状石墨烯调节效进剂协效，从而产品的性能稳定性更为显著，产品的剥离性能更为明显。

技术特征：

1.一种剥离液，其特征在于，所述剥离液包括以下重量份原料：

2.根据权利要求1所述的一种剥离液，其特征在于，所述剥离液包括以下重量份原料：

3.根据权利要求1所述的一种剥离液，其特征在于，所述剥离液还包括片状石墨烯调节效进剂5-10份、3-6份纳米晶须改性剂；

4.根据权利要求3所述的一种剥离液，其特征在于，所述高锰酸钾溶液的质量分数为10％-15％；所述超声分散的功率为300-350w，超声时间为1-2h。

5.根据权利要求3所述的一种剥离液，其特征在于，所述热改进调节处理的具体操作步骤为：

6.根据权利要求3所述的一种剥离液，其特征在于，所述搅拌预调处理的搅拌转速为750-850r/min，搅拌时间为1-2h。

7.根据权利要求3所述的一种剥离液，其特征在于，所述效进液包括以下重量份原料：

8.根据权利要求3所述的一种剥离液，其特征在于，所述纳米晶须改性剂的制备方法为：

9.一种如权利要求1-8任一项所述剥离液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

10.一种如权利要求1-8任一项所述剥离液在芯片光刻胶剥离中的应用。

技术总结
本发明涉及剥离液技术领域，具体公开了一种剥离液，所述剥离液包括以下重量份原料：N‑甲基吡咯烷酮20‑30份、乙二胺10‑20份、甲氨基环戊醇5‑10份、氮基三乙酸1‑4份。本发明剥离液采用N‑甲基吡咯烷酮、乙二胺、甲氨基环戊醇、氮基三乙酸作为基体剂，形成剥离效果，通过片状石墨烯调节效进剂、纳米晶须改性剂相互调配，共同组效形成的产品能够增强剥离性能效果，同时优化产品的耐高温、耐酸腐稳定性。

技术研发人员：何福才,杨豪
受保护的技术使用者：四川熔增环保科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/27