本技术属于掩膜版,具体是一种掩膜版晾干装置。
背景技术:
1、光刻掩膜版(又称光罩,英文为photomask),简称掩膜版,是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构,再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
2、掩膜版的生产过程其中一个工序是干燥,通常采用风刀干燥法对掩膜版进行干燥,但需要买对应设备,成本比较高。对于低端掩膜版的制作,为了节约成本和缩短清洗时间,一般都会选择使用手工清洗,而手工清洗的版,在干燥这个环节,操作不好,会出现很多问题,由于自然晾干,完全是靠水份的自然蒸发,干燥的时间比较长,很容易出现灰尘掉到上面,灰尘掉到上面后,在灰尘周围就会出现白点,而且在整个版面的风的流速是不一样的,而且风速的方向也是多变的,且风向也不是垂直向下吹,又因为整个掩膜版表面表面张力也不是一样的,则亲水性也不一样,那么就很容易出现某些区域先干燥,而掩膜版的干燥必须是从上到下,均匀的向下干燥,直至整体完全干燥,某些区域先干燥,就会出现水印;出现上述问题,还需要重新清洗,且晾干效率差。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提供一种掩膜版晾干装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
3、一种掩膜版晾干装置,包括晾版架、pvc背板、pvc底板和层流罩,pvc背板、pvc底板和层流罩分别固定设置在晾版架上,pvc背板竖直布置,pvc底板水平布置,所述的pvc背板上等间距开设有若干排小孔,两排小孔间设置有pvc三角条;所述的pvc底板上等间距开设有若干排小孔,两排小孔间设置有pvc三角条;所述的层流罩位于pvc底板的正上方。
4、掩膜版清洗完成后,放置到此晾版架上,可以用手垂直让掩膜版适当停留15-20秒,再将掩模板背面靠设在pvc背板的pvc三角条上,底面设置在pvc底板的pvc三角条上,层流罩吹出来的风垂直向下,且风速是一致的、均匀的,可以保证出现的空气是绝对干净的,不会出现灰尘,加快掩膜版表面的干燥,在短时间内使掩膜版整个版面有序的从上到下干燥。解决了白点和水印的问题,同时结构简单、成本低。
5、本实用新型进一步改进,还包括接水槽,接水槽可拆卸式的设置在晾版架上,接水槽设置在pvc底板的正下方,以收集掩膜版晾干过程中的废水。
6、本实用新型进一步改进,pvc三角条上还间隔设置有若干隔断,以防止掩膜版滑动。
7、本实用新型所提出的一种掩膜版晾干装置,有效解决了掩膜版晾干过程中白点,水印的问题,同时结构简单,成本低,易于实现,利于推广使用。
1.一种掩膜版晾干装置,其特征在于:包括晾版架、pvc背板、pvc底板和层流罩,pvc背板、pvc底板和层流罩分别固定设置在晾版架上,pvc背板竖直布置,pvc底板水平布置,所述的pvc背板上等间距开设有若干排小孔,两排小孔间设置有pvc三角条;所述的pvc底板上等间距开设有若干排小孔,两排小孔间设置有pvc三角条;所述的层流罩位于pvc底板的正上方。
2.根据权利要求1所述的一种掩膜版晾干装置,其特征在于:还包括接水槽,接水槽可拆卸式的设置在晾版架上,接水槽设置在pvc底板的正下方。
3.根据权利要求1所述的一种掩膜版晾干装置,其特征在于:pvc三角条上还间隔设置有若干隔断。