曝光系统的制作方法

本技术涉及曝光机，尤其是涉及一种曝光系统。

背景技术：

1、相关技术中的曝光系统，在曝光电路板料带的曝光一次只能曝光一面，曝光效率不高，并且将电路板料带翻转曝光后，曝光位置容易发生错位的问题，导致上下两面的图形对准误差偏差较大。此外，对于双面卷对卷曝光机，曝光系统往往只有简单的电路板料带支撑结构，或将电路板料带直接悬空，带来电路板料带震动、抖动以及悬垂等问题，影响曝光位置的准确性。

技术实现思路

1、本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种曝光系统，该曝光系统具有曝光稳定性高、精度性高、效率高等优点。

2、为实现上述目的，根据本实用新型实施例的曝光系统包括：曝光装置，所述曝光装置包括：工作台；曝光支架，所述曝光支架可移动地安装于所述工作台，所述曝光支架构造有上支臂和下支臂；上曝光头组件和下曝光头组件，所述上曝光头组件安装于所述上支臂，所述下曝光头组件安装于所述下支臂；吸盘组件，所述吸盘组件安装于所述工作台且位于所述上曝光头组件和所述下曝光头组件之间，所述吸盘组件适于放置并吸附待加工电路板料带，所述上曝光头组件对所述电路板料带的正面曝光，所述下曝光头组件穿过所述吸盘组件对所述电路板料带的背面曝光；卷绕机构，所述卷绕机构安装于所述吸盘组件和所述曝光支架的两侧。

3、根据本实用新型实施例的曝光系统，曝光稳定性高、精度性高、效率高等优点。

4、根据本实用新型实施例的一些具体实施例，所述吸盘组件包括：吸盘框架，所述吸盘框架安装于所述工作台；多个吸盘杆，多个所述吸盘杆的两端分别安装于所述吸盘框架的相对两侧，相邻的所述吸盘杆之间镂空。

5、进一步地，所述吸盘框架包括：固定架，所述固定架安装于所述工作台；移动架，所述移动架可移动地安装于所述固定架，多个所述吸盘杆均安装于所述移动架的相对两侧；吸盘驱动装置，所述吸盘驱动装置安装于所述固定架且与所述移动架连接，所述吸盘驱动装置驱动所述移动架沿垂直于所述吸盘杆的方向移动。

6、进一步地，每个所述吸盘杆设于多个吸盘孔，所述吸盘孔沿所述吸盘杆的长度方向间隔设置。

7、根据本实用新型的一些具体实施例，每个所述吸盘杆的同一端均连接有气管，每个所述气管均与负压装置相连。

8、根据本实用新型的一些具体实施例，所述曝光系统还包括：多个标定相机，多个所述标定相机安装于所述移动架的同一侧，所述标定相机用于对准所述上曝光头组件的位置以及所述下曝光头组件的位置。

9、根据本实用新型的一些具体实施例，所述标定相机包括：多个上标定相机，多个所述上标定相机安装于所述移动架的一侧；多个下标定相机，多个所述下标定相机安装于所述移动架的所述一侧，所述下标定相机与所述下标定相机交替排列。

10、根据本实用新型的一些具体实施例，所述工作台包括：底座，所述底座固定于地面；

11、支撑台，所述支撑台可移动地安装于所述底座的上方，所述支撑台构造有步进轴，所述曝光支架沿所述步进轴移动，所述曝光支架的移动方向垂直于所述支撑台的移动方向。

12、进一步地，所述底座包括：第一扫描平台和第二扫描平台，所述第一扫描平台构造有第一扫描轴，所述第二扫描平台构造有第二扫描轴，所述第一扫描轴和所述第二扫描轴平行设置，所述支撑台的底部分别安装于所述第一扫描轴和所述第二扫描轴，所述支撑台沿所述第一扫描轴和所述第二扫描轴的延伸方向移动。

13、根据本实用新型的一些具体实施例，所述卷绕机构包括：放卷机构，所述放卷机构位于所述曝光支架的一侧，所述放卷机构用于向所述曝光支架提供电路板料带；收卷机构，所述收卷机构位于所述曝光支架的另一侧，所述收卷机构用于将曝光后的电路板料带收卷。

14、本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

技术特征：

1.一种曝光系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述吸盘组件包括：

3.根据权利要求2所述的曝光系统，其特征在于，所述吸盘框架包括：

4.根据权利要求3所述的曝光系统，其特征在于，每个所述吸盘杆设于多个吸盘孔，所述吸盘孔沿所述吸盘杆的长度方向间隔设置。

5.根据权利要求4所述的曝光系统，其特征在于，每个所述吸盘杆的同一端均连接有气管，每个所述气管均与负压装置相连。

6.根据权利要求3所述的曝光系统，其特征在于，还包括：

7.根据权利要求6所述的曝光系统，其特征在于，所述标定相机包括：

8.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述工作台包括：

9.根据权利要求8所述的曝光系统，其特征在于，所述底座包括：

10.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述卷绕机构包括：

技术总结
本技术公开了一种曝光系统，所述曝光系统包括：曝光装置，所述曝光装置包括：工作台；曝光支架，所述曝光支架可移动地安装于所述工作台，所述曝光支架构造有上支臂和下支臂；上曝光头组件和下曝光头组件，所述上曝光头组件安装于所述上支臂，所述下曝光头组件安装于所述下支臂；吸盘组件，所述吸盘组件安装于所述工作台且位于所述上曝光头组件和所述下曝光头组件之间，所述吸盘组件适于放置并吸附待加工电路板料带；卷绕机构，所述卷绕机构安装于所述吸盘组件和所述曝光支架的两侧。根据本技术实施例的曝光系统，曝光稳定性高、精度性高、效率高等优点。

技术研发人员：项宗齐
受保护的技术使用者：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
技术研发日：20230505
技术公布日：2024/1/14