一种匀胶前的恒温设备的制作方法

本技术涉及光掩膜基板，尤其涉及一种匀胶前的恒温设备。

背景技术：

1、光掩膜基板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，光掩膜基板会表面进行涂胶处理。

2、现有技术中，如中国专利cn204925613u公开了光掩膜版用涂胶卡盘，包括卡盘本体，卡盘本体上设有用于卡持待涂胶的光掩膜版的第一凹槽，第一凹槽呈与光掩膜版相适应的环形，第一凹槽的底部设有用于与装设于第一凹槽内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件。采用本实用新型的光掩膜版用涂胶卡盘时，由于第一凹槽的底部设有用于与装设于第一凹槽内的光掩膜版的底部抵触以提供静摩擦力的摩擦件，故当光掩膜版装设于第一凹槽内时，由于摩擦件与光掩膜版底部的静摩擦力，从而使当卡盘具有较高的速度和加速度时，光掩膜版与卡盘之间不会出现沿轴线方向的相对移动，从而提高环形光掩膜版涂覆光刻胶的均匀性。

3、但是，在对光掩膜基板进行均胶前，需要控制温度，因为光刻胶的温度对光刻胶涂布的厚度均匀性存在影响，所以需要将光刻胶进行回温处理，使其温度基本与净化房的室温保持一致，基本控制在23℃左右，在进行涂胶前，冷板的温度也会影响到涂胶厚度，当冷板的温度与光刻胶不同时，也会导致边缘和中心的胶厚不同。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是为了解决现有的技术中存在对光掩膜基板进行均胶前，需要控制温度，因为光刻胶的温度对光刻胶涂布的厚度均匀性存在影响，所以需要将光刻胶进行回温处理，使其温度基本与净化房的室温保持一致，基本控制在23℃左右，在进行涂胶前，冷板的温度也会影响到涂胶厚度，当冷板的温度与光刻胶不同时，也会导致边缘和中心的胶厚不同的问题，而提出的一种匀胶前的恒温设备。

2、为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种匀胶前的恒温设备，包括驱动台，所述驱动台顶部一侧设置有转动台，所述驱动台顶部另一侧固定安装有支架，所述支架内侧设置有驱动机构；

3、所述驱动机构包括转动盘和摆动块，所述转动盘转动设置在支架内侧，所述转动盘表面固定安装有限位杆，所述支架内侧转动安装有中心杆，所述中心杆表面固定连接有摆动块，所述摆动块一端套接在限位杆表面，所述摆动块一侧设置有往复杆，所述往复杆一侧固定设置有齿条，所述往复杆一侧固定连接有加热箱，所述往复杆两端表面滑动套接有限位架，所述限位架一侧固定连接支架内壁。

4、优选的，所述摆动块一端表面设置有轮齿，所述齿条与轮齿啮合。

5、优选的，所述驱动台内侧设置有联轴杆，所述联轴杆一端表面固定套接有第一主动斜齿轮，所述联轴杆另一端表面固定套接有第二主动斜齿轮，所述第一主动斜齿轮一侧设置有相啮合的第一从动斜齿轮。

6、优选的，所述第一从动斜齿轮顶部固定连接第一转动杆，所述第二主动斜齿轮一侧设置有相啮合的第二从动斜齿轮，所述第二从动斜齿轮顶部固定连接第二转动杆。

7、优选的，所述第一转动杆一端贯穿驱动台，所述第一转动杆一端固定连接盘底部中央，所述第二转动杆一端贯穿驱动台，所述第二转动杆一端固定连接转动台底部。

8、优选的，所述联轴杆一端固定连接有驱动电机，所述联轴杆另一端转动连接驱动台内壁。

9、与现有技术相比，本实用新型的优点和积极效果在于：

10、1、本实用新型中，通过转动盘、限位杆、摆动块、限位块、往复杆、齿条和中心杆控制加热箱往复运动，当加热箱运动时，通过第一转动杆和第二转动杆可以保证加热箱在往复运动的同时也会带动转动台一起转动，可以在匀胶前保持光掩膜基板表面恒温。

11、2、本实用新型中，通过驱动电机运行时可以通过联轴杆带动第一主动斜齿轮和第二主动斜齿轮转动，然后第一从动斜齿轮和第二从动斜齿轮一起转动，可以保证光掩膜基板表面温度保持23度左右。

技术特征：

1.一种匀胶前的恒温设备，包括驱动台(1)，所述驱动台(1)顶部一侧设置有转动台(4)，所述驱动台(1)顶部另一侧固定安装有支架(2)，其特征在于：所述支架(2)内侧设置有驱动机构(3)；

2.根据权利要求1所述的一种匀胶前的恒温设备，其特征在于：所述摆动块(33)一端表面设置有轮齿，所述齿条(36)与轮齿啮合。

3.根据权利要求1所述的一种匀胶前的恒温设备，其特征在于：所述驱动台(1)内侧设置有联轴杆(12)，所述联轴杆(12)一端表面固定套接有第一主动斜齿轮(13)，所述联轴杆(12)另一端表面固定套接有第二主动斜齿轮(16)，所述第一主动斜齿轮(13)一侧设置有相啮合的第一从动斜齿轮(15)。

4.根据权利要求3所述的一种匀胶前的恒温设备，其特征在于：所述第一从动斜齿轮(15)顶部固定连接第一转动杆(14)，所述第二主动斜齿轮(16)一侧设置有相啮合的第二从动斜齿轮(17)，所述第二从动斜齿轮(17)顶部固定连接第二转动杆(18)。

5.根据权利要求4所述的一种匀胶前的恒温设备，其特征在于：所述第一转动杆(14)一端贯穿驱动台(1)，所述第一转动杆(14)一端固定连接盘底部中央，所述第二转动杆(18)一端贯穿驱动台(1)，所述第二转动杆(18)一端固定连接转动台(4)底部。

6.根据权利要求3所述的一种匀胶前的恒温设备，其特征在于：所述联轴杆(12)一端固定连接有驱动电机(11)，所述联轴杆(12)另一端转动连接驱动台(1)内壁。

技术总结
本技术提供一种匀胶前的恒温设备，涉及光掩膜基板技术领域，包括驱动台，所述驱动台顶部一侧设置有转动台，所述驱动台顶部另一侧固定安装有支架，所述支架内侧设置有驱动机构；所述驱动机构包括转动盘和摆动块，所述转动盘转动设置在支架内侧，所述转动盘表面固定安装有限位杆，所述支架内侧转动安装有中心杆，所述中心杆表面固定连接有摆动块，所述摆动块一端套接在限位杆表面。本技术通过转动盘、限位杆、摆动块、限位块、往复杆、齿条和中心杆控制加热箱往复运动，当加热箱运动时，通过第一转动杆和第二转动杆可以保证加热箱在往复运动的同时也会带动转动台一起转动，可以在匀胶前保持光掩膜基板表面恒温。

技术研发人员：蔡海,李周坤
受保护的技术使用者：安徽精石技术有限公司
技术研发日：20230518
技术公布日：2024/1/15