一种掩膜版支撑结构及掩膜版清洗支撑组件的制作方法

本技术属于掩膜版支撑领域，更具体的说涉及一种掩膜版支撑结构及掩膜版清洗支撑组件。

背景技术：

1、掩膜版又称光掩膜版、光罩(photomask)，由石英玻璃作为基板衬底，首先在石英玻璃基板上镀上一层金属铬层，然后在铬层上面涂覆光刻胶使其成为一种感光材料，把已设计好的电路图形通过电子激光设备使光刻胶感光，被曝光的区域通过显影、蚀刻在金属铬上形成电路图形，成为类似曝光后的底片的光掩模母版。近年来国内显示面板产量逐年增加，并且面板厂商开始量产8.5代线，对掩膜版的尺寸需求也是越来越大，相应的对工艺要求也越来越高。目前8.5代线掩膜版最大尺寸可以量产1400mm×1600mm×15mm,重量高达73.92kg,因此在清洗设备上运行时，对设备上支撑掩膜版重量的支撑件要求很高，不仅要求材质的硬度高，抗强酸碱，而且在清洗工序完成后掩膜版与支撑件接触的位置不可有水印残留，保证产品的外观质量标准。现有技术中，为确保支撑承载能力，支撑件对掩膜版进行支撑时，接触面积较大，清洗后会在支撑位置留有水印，影响掩膜版清洗质量。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种掩膜版支撑结构及掩膜版清洗支撑组件，实现对掩膜版进行良好的支撑，同时在清洗后，有效的避免了支撑面与掩膜版之间留有水印。

2、本实用新型技术方案一种掩膜版支撑结构，包括安装部和支撑部，所述支撑部与所述安装部固接且包括若干相离的支撑齿，所述支撑齿上向上的齿面为支撑面，所述支撑面呈倾斜状设置，被支撑的掩膜版边沿搭接在所述支撑面上，所述支撑面由掩膜版边沿向掩膜版中间位置向下倾斜。

3、优选地，所述支撑面倾斜角度为5°-10°。

4、优选地，所述支撑齿的支撑面上设置有避让槽，避让槽的轴线与支撑齿长度方向一致，所述避让槽的底面呈圆弧状，且呈倾斜状设置，所述避让槽的倾斜方向与所述支撑面倾斜方向一致。

5、优选地，所述安装部包括一具有两平行端面的柱体，柱体一端面上设置有连接孔，所述支撑部固接在所述柱体的另一端面上，且支撑齿在所述端面上均布设置。

6、优选地，所述柱体为圆柱体，支撑齿在圆柱体端面上以端面中心点呈中心对称状设置。

7、优选地，设置有所述支撑齿的柱体端面上一体固接有限位凸帽；所述限位凸帽呈圆柱状，且与设置支撑部的端面同轴设置，所述限位凸帽顶面边沿倒圆角。

8、优选地，所述支撑齿内端面与所述限位凸帽分离，形成空白区，所述空白区与相邻两支撑齿之间区域以及避让槽均连通。

9、一种掩膜版清洗支撑组件，包括固定底板和如前述的掩膜版支撑结构；所述掩膜版支撑结构与所述固定底板可拆卸安装。

10、优选地，所述固定底板的上表面上设置有若干组连接螺孔组，每组连接螺孔组均包括八个连接螺孔，所述连接螺孔内螺接有连接螺柱，所述连接螺柱延伸出所述固定底板的上表面端与所述安装部连接；所述支撑部由掩膜版各边沿且靠近两端位置对掩膜版进行支撑；所述空白区、相邻两支撑齿之间区域以及避让槽均为排液区。

11、本实用新型技术方案一种掩膜版支撑结构的有益效果是：结构简单，支撑能力好，支撑时，与掩膜版的接触为线接触，有效的降低了掩膜版的接触面积，尽量避免在对掩膜版支撑时造成掩膜版污染。同时，若在清洗设备中对掩膜版进行中支撑时，与掩膜版接触面积小，游侠的避免水印产生，同时也降低了掩膜版上清洗死角。

12、本实用新型技术方案一种掩膜版清洗支撑组件的有益效果是：支撑面与掩膜版接触面积小，甚至是线接触，同时通过倾斜的避让槽和空白区以及相邻两支撑齿之间区域进行大面积的排液，排液快速效果好，避免了掩膜版上水印的产生。

技术特征：

1.一种掩膜版支撑结构，其特征在于，包括安装部和支撑部，所述支撑部与所述安装部固接且包括若干相离的支撑齿，所述支撑齿上向上的齿面为支撑面，所述支撑面呈倾斜状设置，被支撑的掩膜版边沿搭接在所述支撑面上，所述支撑面由掩膜版边沿向掩膜版中间位置向下倾斜。

2.根据权利要求1所述的掩膜版支撑结构，其特征在于，所述支撑面倾斜角度为5°-10°。

3.根据权利要求1所述的掩膜版支撑结构，其特征在于，所述支撑齿的支撑面上设置有避让槽，避让槽的轴线与支撑齿长度方向一致，所述避让槽的底面呈圆弧状，且呈倾斜状设置，所述避让槽的倾斜方向与所述支撑面倾斜方向一致。

4.根据权利要求1所述的掩膜版支撑结构，其特征在于，所述安装部包括一具有两平行端面的柱体，柱体一端面上设置有连接孔，所述支撑部固接在所述柱体的另一端面上，且支撑齿在所述端面上均布设置。

5.根据权利要求4所述的掩膜版支撑结构，其特征在于，所述柱体为圆柱体，支撑齿在圆柱体端面上以端面中心点呈中心对称状设置。

6.根据权利要求4所述的掩膜版支撑结构，其特征在于，设置有所述支撑齿的柱体端面上一体固接有限位凸帽；所述限位凸帽呈圆柱状，且与设置支撑部的端面同轴设置，所述限位凸帽顶面边沿倒圆角。

7.根据权利要求6所述的掩膜版支撑结构，其特征在于，所述支撑齿内端面与所述限位凸帽分离，形成空白区，所述空白区与相邻两支撑齿之间区域以及避让槽均连通。

8.一种掩膜版清洗支撑组件，其特征在于，包括固定底板和如权利要求7所述的掩膜版支撑结构；所述掩膜版支撑结构与所述固定底板可拆卸安装。

9.根据权利要求8所述的掩膜版清洗支撑组件，其特征在于，所述固定底板的上表面上设置有若干组连接螺孔组，每组连接螺孔组均包括八个连接螺孔，所述连接螺孔内螺接有连接螺柱，所述连接螺柱延伸出所述固定底板的上表面端与所述安装部连接；所述支撑部由掩膜版各边沿且靠近两端位置对掩膜版进行支撑；所述空白区、相邻两支撑齿之间区域以及避让槽均为排液区。

技术总结
本技术公开了掩膜版支撑结构及掩膜版清洗支撑组件，掩膜版支撑结构包括安装部和支撑部，支撑部与安装部固接且包括若干相离的支撑齿，支撑齿上向上的齿面为支撑面，支撑面呈倾斜状设置，被支撑的掩膜版边沿搭接在支撑面上，支撑面由掩膜版边沿向掩膜版中间位置向下倾斜；掩膜版支撑结构结构简单，支撑能力好，支撑时，与掩膜版的接触为线接触，有效的降低了掩膜版的接触面积，尽量避免在对掩膜版支撑时造成掩膜版污染；同时，若在清洗设备中对掩膜版进行中支撑时，与掩膜版接触面积小，游侠的避免水印产生，同时也降低了掩膜版上清洗死角。

技术研发人员：叶小稳
受保护的技术使用者：合肥清溢光电有限公司
技术研发日：20230524
技术公布日：2024/1/13