用于掩模版的上板盒的制作方法

本技术涉及半导体生产设备，特别涉及一种用于掩模版的上板盒。

背景技术：

1、光刻掩膜版(又称光罩，英文为maskreticle)，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如ic(integratedcircuit，集成电路)、fpd(flatpaneldisplay，平板显示器)、pcb(printedcircuitboards，印刷电路板)、mems(microelectromechanical systems，微机电系统)等。

2、现有的自动上版光刻机，需要先将掩膜版放在附带的上板盒里，再由机械手完成取、放版动作。如图1所示，现有上板盒10包括底板11、顶板12以及设置在底板11、顶板12相对两侧的侧板13，两个侧板13相对的内侧壁上均匀对称设置有支撑条14，另外在两个侧板13的垂直后部设置有后靠板15，在两个侧板13和后靠板15之间形成掩模版20放置工位，掩模版20放置在每一层的支撑条14上并后部抵接到后靠板15；掩模版20与后靠板15之间形成第一接触面a，掩模版20两侧与支撑条14之间也形成第二接触面b，第一接触面a、第二接触面是面接触，在操作工程中，上板盒10与掩模版20的接触位置容易造成顶伤或划伤，另外，由于后靠板存在加工误差或应力变形，导致放版角度难以确定，容易造成上版角度超标。

技术实现思路

1、本实用新型要解决的技术问题是提供一种用于掩模版的上板盒，旨在解决背景技术中指出的现有上板盒缺陷。

2、为了解决上述技术问题，本实用新型的技术方案如下：

3、本实用新型第一个方面提供了一种用于掩模版的上板盒，包括底板、顶板以及设置在所述底板、所述顶板相对两侧的侧板，两个所述侧板相对的内侧壁上均匀对称设置有支撑条，另外在两个所述侧板的垂直后部设置有若干后支杆，在两个所述侧板和若干所述后支杆之间形成掩模版放置工位，所述掩模版放置在每一层的所述支撑条上并后部抵接到所述后支杆；所述掩模版与所述后支杆之间、所述掩模版两侧与所述支撑条之间也形成线接触或者小面积接触。

4、进一步的，所述支撑条上表面形成一倾斜支撑面，所述倾斜支撑面与所述掩模版两侧之间也形成线接触或者小面积接触。

5、具体的，所述倾斜支撑面沿着所述掩模版插入方向延伸，所述倾斜支撑面向所述上板盒的中心倾斜，所述倾斜支撑面与水平面之间形成倾角θ。

6、进一步的，所述支撑条上表面形成一突弧形结构面，所述突弧形结构面沿着所述掩模版插入方向延伸，所述突弧形结构面与所述掩模版两侧之间形成线接触。

7、进一步的，所述后支杆面向所述掩模版插入方向呈现弧形结构，所述后支杆与所述掩模版之间形成线接触。

8、具体的，所述弧形结构沿着竖直方向延伸，每一所述掩模版后部与所述弧形结构之间形成线接触。

9、进一步的，所述后支杆面向所述掩模版插入方向呈现平面结构，所述平面结构与所述掩模版插入方向之间相互垂直，所述后支杆与所述掩模版之间形成小面积接触。

10、进一步的，两个所述侧板的垂直后部还设置有后靠板，所述后支杆设置在所述后靠板两侧，所述掩模版放置在每一层的所述支撑条上并后部抵接到所述后支杆。

11、可选的，两个所述侧板的垂直后部还设置有后靠板，所述后支杆与所述后靠板一体成型，面向所述掩模版插入方向呈现弧形结构或者呈现平面结构。

12、采用上述技术方案，本实用新型实施例的用于掩模版的上板盒，通过优化支撑条结构，以及改进后靠板为后支杆，掩模版与后支杆之间、掩模版两侧与支撑条之间也形成线接触或者小面积接触。在基本保持掩膜板中心高度稳定的前提下，解决了顶伤划伤带来的报废问题，以及解决了靠版不稳的问题，减小了上版角度差，使上版更方便，也减少了角度超标报错的问题。

技术特征：

1.一种用于掩模版的上板盒，其特征在于，包括底板、顶板以及设置在所述底板、所述顶板相对两侧的侧板，两个所述侧板相对的内侧壁上均匀对称设置有支撑条，另外在两个所述侧板的垂直后部设置有若干后支杆，在两个所述侧板和若干所述后支杆之间形成掩模版放置工位，所述掩模版放置在每一层的所述支撑条上并后部抵接到所述后支杆；所述掩模版与所述后支杆之间、所述掩模版两侧与所述支撑条之间也形成线接触或者小面积接触。

2.根据权利要求1所述的用于掩模版的上板盒，其特征在于，所述支撑条上表面形成一倾斜支撑面，所述倾斜支撑面与所述掩模版两侧之间也形成线接触或者小面积接触。

3.根据权利要求2所述的用于掩模版的上板盒，其特征在于，所述倾斜支撑面沿着所述掩模版插入方向延伸，所述倾斜支撑面向所述上板盒的中心倾斜，所述倾斜支撑面与水平面之间形成倾角θ。

4.根据权利要求1所述的用于掩模版的上板盒，其特征在于，所述支撑条上表面形成一突弧形结构面，所述突弧形结构面沿着所述掩模版插入方向延伸，所述突弧形结构面与所述掩模版两侧之间形成线接触。

5.根据权利要求1所述的用于掩模版的上板盒，其特征在于，所述后支杆面向所述掩模版插入方向呈现弧形结构，所述后支杆与所述掩模版之间形成线接触。

6.根据权利要求5所述的用于掩模版的上板盒，其特征在于，所述弧形结构沿着竖直方向延伸，每一所述掩模版后部与所述弧形结构之间形成线接触。

7.根据权利要求1所述的用于掩模版的上板盒，其特征在于，所述后支杆面向所述掩模版插入方向呈现平面结构，所述平面结构与所述掩模版插入方向之间相互垂直，所述后支杆与所述掩模版之间形成小面积接触。

8.根据权利要求1所述的用于掩模版的上板盒，其特征在于，两个所述侧板的垂直后部还设置有后靠板，所述后支杆设置在所述后靠板两侧，所述掩模版放置在每一层的所述支撑条上并后部抵接到所述后支杆。

9.根据权利要求1所述的用于掩模版的上板盒，其特征在于，两个所述侧板的垂直后部还设置有后靠板，所述后支杆与所述后靠板一体成型，面向所述掩模版插入方向呈现弧形结构或者呈现平面结构。

技术总结
本技术公开了一种用于掩模版的上板盒，包括底板、顶板以及设置在所述底板、所述顶板相对两侧的侧板，两个所述侧板相对的内侧壁上均匀对称设置有支撑条，另外在两个所述侧板的垂直后部设置有若干后支杆，在两个所述侧板和若干所述后支杆之间形成掩模版放置工位，所述掩模版放置在每一层的所述支撑条上并后部抵接到所述后支杆；所述掩模版与所述后支杆之间、所述掩模版两侧与所述支撑条之间也形成线接触或者小面积接触。在基本保持掩膜板中心高度稳定的前提下，解决了顶伤划伤带来的报废问题，以及解决了靠版不稳的问题，减小了上版角度差，使上版更方便，也减少了角度超标报错的问题。

技术研发人员：朱春辉,郝明毅
受保护的技术使用者：深圳清溢微电子有限公司
技术研发日：20230621
技术公布日：2024/1/15