光阻去除装置的制作方法

本技术涉及基板的加工，尤其涉及一种光阻去除装置。

背景技术：

1、基板在加工过程中，基板上会涂覆一层光阻，曝光机对基板的主体部分进行曝光，基板上设置有多个用于自动对位的识别标记，曝光机通过读取识别标记对基板的主体进行曝光。由于识别标记的表面也会被光阻覆盖，识别标记表面的光阻厚度差异会导致识别标记在镜头下显得模糊，由此导致曝光机读取识别标记失败。

2、现有技术中通过不停调整识别标记的位置或者光源等参数来降低读取识别标记失败的概率。但是基板上通常设置有多个识别标记，通过这种调整方式对多个识别标记进行一一调整，大大降低了生产效率，而且无法彻底解决曝光机读取识别标记失败的问题。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提出一种光阻去除装置，能够解决曝光机读取识别标记失败的问题，提高了生产效率。

2、为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

3、光阻去除装置，用于去除基板上的识别标记，所述基板上设置有多个所述识别标记，其中，所述光阻去除装置包括：

4、至少一个光阻去除机构，所述光阻去除机构包括激光头，所述激光头与所述识别标记对准，能对所述识别标记上的光阻进行曝光，以去除所述识别标记的光阻；

5、移动机构，所述移动机构包括垂直设置的第一导轨和第二导轨，所述第二导轨滑设于所述第一导轨，所述光阻去除机构滑设于所述第二导轨。

6、优选地，所述激光头包括镭射激光头，所述镭射激光头对所述识别标记发射镭射光线，所述镭射光线对所述识别标记上的光阻进行曝光。

7、优选地，所述镭射光线的波长为193nm～248nm；或，所述镭射光线的波长为550nm。

8、优选地，所述激光头为uv激光头，所述uv激光头对所述识别标记发射uv光线，所述uv光线对所述识别标记上的光阻进行曝光；所述光阻去除机构还包括显影液滴头，所述显影液滴头对曝光过的所述识别标记进行滴液蚀刻。

9、优选地，所述uv光线的波长为365nm。

10、优选地，所述光阻去除机构还包括显影液容器和显影液供液管，所述显影液供液管的一端与所述显影液容器连接，另一端与所述显影液滴头连接，所述显影液容器通过所述显影液供液管为所述显影液滴头提供显影液。

11、优选地，所述光阻去除机构还包括吹气组件，所述吹气组件用于对蚀刻后的所述识别标记进行吹气。

12、优选地，所述吹气组件包括气源和供气管，所述供气管的一端与所述气源连接，另一端与所述显影液滴头连接，所述气源提供的气体通过所述供气管和所述显影液滴头对蚀刻后的所述识别标记进行吹气。

13、优选地，所述光阻去除机构还包括连接管，所述连接管的一端与所述显影液滴头连接，另一端能选择性地与所述显影液供液管或所述供气管连通。

14、优选地，所述光阻去除机构还包括控制阀，所述控制阀包括第一进口、第二进口和出口，所述第一进口与所述显影液供液管连接，所述第二进口与所述供气管连接，所述出口与所述连接管连接，所述出口能选择性与所述第一进口或所述第二进口连通。

15、本实用新型的有益效果：

16、本实用新型提供的光阻去除装置，通过设置移动机构和至少一个光阻去除机构，移动机构带动光阻去除机构移动，以使光阻去除机构的激光头对准识别标记，对识别标记上的光阻进行曝光，以去除识别标记的光阻，这样能够提高识别标记在曝光机中镜头下的清晰度，降低曝光机读取识别标记失败的概率。移动机构包括垂直设置的第一导轨和第二导轨，第二导轨滑设于第一导轨，光阻去除机构滑设于第二导轨，实现了光阻去除机构沿第一导轨和第二导轨两个方向的移动，从而能够对基板上的多个识别标记依次进行光阻去除，提高了生产效率。

技术特征：

1.光阻去除装置，用于去除基板(100)上的识别标记(101)，所述基板(100)上设置有多个所述识别标记(101)，其特征在于，所述光阻去除装置包括：

2.根据权利要求1所述的光阻去除装置，其特征在于，所述激光头包括镭射激光头(11)，所述镭射激光头(11)对所述识别标记(101)发射镭射光线，所述镭射光线对所述识别标记(101)上的光阻进行曝光。

3.根据权利要求2所述的光阻去除装置，其特征在于，所述镭射光线的波长为193nm～248nm；或，所述镭射光线的波长为550nm。

4.根据权利要求1所述的光阻去除装置，其特征在于，所述激光头为uv激光头(12)，所述uv激光头(12)对所述识别标记(101)发射uv光线，所述uv光线对所述识别标记(101)上的光阻进行曝光；

5.根据权利要求4所述的光阻去除装置，其特征在于，所述uv光线的波长为365nm。

6.根据权利要求4所述的光阻去除装置，其特征在于，所述光阻去除机构(1)还包括显影液容器和显影液供液管(14)，所述显影液供液管(14)的一端与所述显影液容器连接，另一端与所述显影液滴头(13)连接，所述显影液容器通过所述显影液供液管(14)为所述显影液滴头(13)提供显影液。

7.根据权利要求6所述的光阻去除装置，其特征在于，所述光阻去除机构(1)还包括吹气组件，所述吹气组件用于对蚀刻后的所述识别标记(101)进行吹气。

8.根据权利要求7所述的光阻去除装置，其特征在于，所述吹气组件包括气源和供气管(15)，所述供气管(15)的一端与所述气源连接，另一端与所述显影液滴头(13)连接，所述气源提供的气体通过所述供气管(15)和所述显影液滴头(13)对蚀刻后的所述识别标记(101)进行吹气。

9.根据权利要求8所述的光阻去除装置，其特征在于，所述光阻去除机构(1)还包括连接管(16)，所述连接管(16)的一端与所述显影液滴头(13)连接，另一端能选择性地与所述显影液供液管(14)或所述供气管(15)连通。

10.根据权利要求9所述的光阻去除装置，其特征在于，所述光阻去除机构(1)还包括控制阀(17)，所述控制阀(17)包括第一进口、第二进口和出口，所述第一进口与所述显影液供液管(14)连接，所述第二进口与所述供气管(15)连接，所述出口与所述连接管(16)连接，所述出口能选择性与所述第一进口或所述第二进口连通。

技术总结
本技术公开了一种光阻去除装置，涉及基板的加工技术领域。光阻去除装置包括移动机构和至少一个光阻去除机构，移动机构包括垂直设置的第一导轨和第二导轨，第二导轨滑设于第一导轨，光阻去除机构滑设于第二导轨，实现了光阻去除机构沿第一导轨和第二导轨两个方向的移动，从而能够对基板上的多个识别标记进行光阻去除，提高了生产效率。光阻去除机构包括激光头，激光头与识别标记对准，用于对识别标记上的光阻进行曝光，以去除识别标记的光阻。通过激光头发射的激光能够对识别标记上的光阻进行去除，这样能够提高识别标记在曝光机中镜头下的清晰度，降低曝光机读取识别标记失败的概率。

技术研发人员：顾天筑,汪杰
受保护的技术使用者：昆山龙腾光电股份有限公司
技术研发日：20231024
技术公布日：2024/6/2