本申请涉及半导体制造,具体涉及一种光刻胶滴胶量的监控方法。
背景技术:
1、光刻图形形成主要是涂胶,曝光和显影,每一步都很重要,缺一不可。
2、光刻胶涂胶时,需要监控光刻胶的滴胶量,避免光刻胶喷涂过多,造成不必要的浪费,或者光刻胶喷涂过少,出现涂覆不良(poor coating)的现象,影响制品品质。
3、光刻胶胶量是靠光刻胶流量计来实时检测光刻胶管路内一次完整喷胶时间段内的流量,并最终选取稳定流量来实现检测监控的。
4、参考图1,图1是现有技术中的光刻胶流量计最终显示的稳定胶量/流量的示意图,高粘度的光刻胶在一次完整的喷胶期间,在重力作用下,很容易会出现轻微回流现象,a’表示在某段时间段内光刻胶回流产生的胶量,b’表示在某段时间段内光刻胶完整喷涂产生的胶量,其中,光刻胶流量计最终显示的稳定胶量等于b’-a’,这样会导致光刻胶流量计最终显示的稳定胶量小于每一次涂胶处理工艺提前预设的完整喷涂胶量b’,光刻胶流量计会将这个错误的稳定胶量反馈给机台,导致机台作出错误判定,认为实际喷涂胶量未达到提前预设的完整喷涂胶量,从而会继续加大光刻胶胶量,造成胶量的不必要浪费,故需改进高粘度光刻胶滴胶量的监控方法。
技术实现思路
1、本申请提供了一种光刻胶滴胶量的监控方法,可以解决目前的光刻胶滴胶量的监控方法,造成光刻胶的滴胶量的不必要浪费的问题。
2、本申请实施例提供了一种光刻胶滴胶量的监控方法,包括:
3、预设一胶量阈值,以及预设一完整喷涂胶量;
4、根据所述完整喷涂胶量,对晶圆进行一次光刻胶喷涂处理,其中,光刻胶存在一定流量的回流;
5、获取本次光刻胶喷涂处理过程中流经光刻胶管路的稳定流量;
6、将所述稳定流量的数值与所述胶量阈值进行比较;
7、若所述稳定流量的数值小于所述胶量阈值,则将干预输出胶量记为0;若所述稳定流量的数值大于所述胶量阈值,则将干预输出胶量记为所述完整喷涂胶量;以及
8、将所述干预输出胶量反馈给机台。
9、可选的,在所述光刻胶滴胶量的监控方法中,所述胶量阈值大于光刻胶回流胶量的绝对值并且小于所述完整喷涂胶量。
10、可选的,在所述光刻胶滴胶量的监控方法中,所述胶量阈值比所述光刻胶回流胶量的绝对值大1ml~1.5ml;所述胶量阈值比所述完整喷涂胶量的绝对值小7ml~10ml。
11、可选的,在所述光刻胶滴胶量的监控方法中,流经光刻胶管路的稳定流量等于所述完整喷涂胶量与光刻胶回流胶量的绝对值之差。
12、可选的,在所述光刻胶滴胶量的监控方法中,利用光刻胶流量计获取本次光刻胶喷涂处理过程中流经光刻胶管路的流量。
13、可选的,在所述光刻胶滴胶量的监控方法中,在将所述干预输出胶量反馈给机台之后,所述光刻胶滴胶量的监控方法包括:
14、根据所述干预输出胶量,调整下一次对晶圆进行光刻胶喷涂处理中的完整喷涂胶量。
15、本申请技术方案,至少包括如下优点:
16、本申请实施例提供了一种光刻胶滴胶量的监控方法,包括:预设一胶量阈值和完整喷涂胶量;对晶圆进行一次光刻胶喷涂处理,其中,光刻胶存在一定流量的回流;获取本次喷涂过程中流经光刻胶管路的稳定流量;将稳定流量的数值与胶量阈值进行比较;若稳定流量的数值小于胶量阈值,则将干预输出胶量记为0;若稳定流量的数值大于胶量阈值,则将干预输出胶量记为完整喷涂胶量;将干预输出胶量反馈给机台。本申请引入胶量阈值,对流量计检测的稳定流量进行干预,获取更准确的干预输出胶量,避免了由于光刻胶回流造成的检测存在偏差的情况,实现胶量的真实输出监控,避免了光刻胶浪费。
1.一种光刻胶滴胶量的监控方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的光刻胶滴胶量的监控方法,其特征在于,所述胶量阈值大于光刻胶回流胶量的绝对值并且小于所述完整喷涂胶量。
3.根据权利要求2所述的光刻胶滴胶量的监控方法,其特征在于,所述胶量阈值比所述光刻胶回流胶量的绝对值大1ml~1.5ml;所述胶量阈值比所述完整喷涂胶量的绝对值小7ml~10ml。
4.根据权利要求1所述的光刻胶滴胶量的监控方法,其特征在于,流经光刻胶管路的稳定流量等于所述完整喷涂胶量与光刻胶回流胶量的绝对值之差。
5.根据权利要求1所述的光刻胶滴胶量的监控方法,其特征在于,利用光刻胶流量计获取本次光刻胶喷涂处理过程中流经光刻胶管路的流量。
6.根据权利要求1所述的光刻胶滴胶量的监控方法,其特征在于,在将所述干预输出胶量反馈给机台之后,所述光刻胶滴胶量的监控方法包括: