一种超窄线宽的CF制作方法及液晶显示装置与流程

本发明涉及显示面板制作，特别涉及一种超窄线宽的cf制作方法及液晶显示装置。

背景技术：

1、随着显示技术的发展，液晶显示器(liquid crystal display，lcd)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。

2、目前对液晶显示器的质量要求也越来越高，如要求高分辨率、高对比度、超宽视角等，同时行业发展也不断扩大，也不仅仅涉及手机、电视显示领域，还包括很多可穿戴设备显示器，比如ar显示器等。

3、伴随着对液晶显示器质量要求逐渐苛刻，对生产设备和产品材料的精度要求也就随之升高，那么液晶显示器产品的投入制作成本就不断变高，但是现有的设备或者工艺现状已经满足不了市场对产品的要求，主要表现在对负性光刻胶的固化工艺上，现有工艺在主固化后，负性光刻胶呈正梯形形状，其线宽两边的坡度角较小，在玻璃基板表面形成一层bm光刻胶残留，会影响该区域透过率。如果不对设备和工艺进行优化，那么将优先失去高精产品的市场机会。

技术实现思路

1、现有的液晶显示屏工艺在进行光刻胶固化时，存在bm光刻胶残留，导致液晶显示器的透过率降低。

2、针对上述问题，提出一种超窄线宽的cf制作方法及液晶显示装置，通过在对cf基板的负性光刻胶在uv光照射后曝光显影之后，再次发生表面固化反应，从而使线宽图形维持曝光显影后原状，从而再进行主固化、将负性光刻胶材料在高温设备中烘烤时，不再容易产生形变或者坍塌，从而让线宽底部无bm胶残留，坡度角变大，从而实现在原有工艺设备基础上，线宽变窄的产品要求。

3、第一方面，一种超窄线宽的cf制作方法，包括：

4、步骤100、对白色玻璃基板进行清洗后涂胶，得到第一cf基板，对所述第一cf基板进行预固化处理，得到第二cf基板；

5、步骤200、对所述第二cf基板依次进行曝光处理、显影处理，得到第三cf基板；

6、步骤300、将uv光均匀照射在所述第三cf基板上，进行uv固化，得到第四cf基板；

7、步骤400、对所述第四cf基板进行流平处理，然后将所述第四cf基板放入预热好的烘箱中，进行主固化，得到最终cf基板。

8、结合本发明第一方面所述的超窄线宽的cf制作方法，第一种可能的实施方式中，所述步骤100包括：

9、步骤110、对所述白色玻璃基板进行uv清洗；

10、步骤120、对uv清洗后的白色玻璃基板进行di水洗，然后涂上光刻胶。

11、结合本发明第一方面第一种可能的实施方式，第二种可能的实施方式中，所述步骤110包括：

12、步骤111、将所述白色玻璃基板放置在uv清洗设备的传输台上；

13、步骤112、利用所述uv清洗设备的uv光源发出的紫外线照射到所述白色玻璃基板表面对有机物进行分解，进行uv清洗。

14、结合本发明第一方面第二种可能的实施方式，第三种可能的实施方式中，所述步骤200包括：

15、步骤210、制作掩膜版，并将所述掩膜板及所述第二cf基板一起放入曝光机进行曝光；

16、步骤220、对曝光后的第二cf基板放入显影液进行显影处理。

17、结合本发明第一方面第三种可能的实施方式，第四种可能的实施方式中，所述步骤210包括：

18、步骤211、根据cf基板图案制作掩膜板，在所述掩膜板上设计图案对应的透光区域及遮光区域；

19、步骤212、将所述掩膜板与所述第二cf基板进行精确对位，然后放入曝光机进行曝光。

20、结合本发明第一方面第四种可能的实施方式，第五种可能的实施方式中，所述步骤300包括：

21、步骤310、对所述第三cf基板的图案进行uv胶涂覆；

22、步骤320、将uv胶涂覆后的第三cf基板放入uv固化设备中，进行uv固化。

23、结合本发明第一方面第五种可能的实施方式，第六种可能的实施方式中，所述步骤310包括：

24、步骤311、将uv胶均匀涂覆在第三cf基板的图案上；

25、步骤312、对涂覆uv胶后的第三cf基板进行流平处理。

26、结合本发明第一方面第六种可能的实施方式，第七种可能的实施方式中，所述步骤320包括：

27、步骤321、对放入uv固化设备后的第三cf基板进行定位；

28、步骤322、将uv光源均匀照射在uv胶图案上，进行uv固化。

29、结合本发明第一方面第七种可能的实施方式，第八种可能的实施方式中，所述步骤400包括：

30、步骤410、调整所述第四cf基板在所述烘箱中的位置及间距，以使得所述第四cf基板的图案被充分固化；

31、步骤420、固化后的第四cf基板取出冷却，获取所述最终cf基板。

32、第二方面，提供一种液晶显示装置，包括采用第一方面所述的超窄线宽的cf制作方法制作的cf基板。

33、实施本发明所述的一种超窄线宽的cf制作方法及液晶显示装置，通过在对cf基板的负性光刻胶在uv光照射后曝光显影之后，再次发生表面固化反应，从而使线宽图形维持曝光显影后原状，从而再进行主固化、将负性光刻胶材料在高温设备中烘烤时，不再容易产生形变或者坍塌，从而让线宽底部无bm胶残留，坡度角变大，从而实现在原有工艺设备基础上，线宽变窄的产品要求。

技术特征：

1.一种超窄线宽的cf制作方法，特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的超窄线宽的cf制作方法，其特征在于，所述步骤100包括：

3.根据权利要求2所述的超窄线宽的cf制作方法，其特征在于，所述步骤110包括：

4.根据权利要求3所述的超窄线宽的cf制作方法，其特征在于，所述步骤200包括：

5.根据权利要求4所述的超窄线宽的cf制作方法，其特征在于，所述步骤210包括：

6.根据权利要求5所述的超窄线宽的cf制作方法，其特征在于，所述步骤300包括：

7.根据权利要求6所述的超窄线宽的cf制作方法，其特征在于，所述步骤310包括：

8.根据权利要求7所述的超窄线宽的cf制作方法，其特征在于，所述步骤320包括：

9.根据权利要求8所述的超窄线宽的cf制作方法，其特征在于，所述步骤400包括：

10.一种液晶显示装置，其特征在于，包括采用权利要求1-9任一项所述的超窄线宽的cf制作方法制作的cf基板。

技术总结
本发明公开了一种超窄线宽的CF制作方法及液晶显示装置，工艺包括：对白色玻璃基板进行清洗后涂胶，得到第一CF基板，对第一CF基板进行预固化处理，得到第二CF基板；对第二CF基板依次进行曝光处理、显影处理，得到第三CF基板；将UV光均匀照射在第三CF基板上，进行UV固化，得到第四CF基板；对第四CF基板进行流平处理，然后将第四CF基板放入预热好的烘箱中，进行主固化，得到最终CF基板。通过在对CF基板的负性光刻胶在UV光照射后曝光显影之后，再次发生表面固化反应，从而使线宽图形维持曝光显影后原状，从而再进行主固化、将负性光刻胶材料在高温设备中烘烤时，不再容易产生形变或者坍塌，从而解决了线宽底部出现的BM胶残留问题。

技术研发人员：宁国森,吴杰明
受保护的技术使用者：信利（仁寿）高端显示科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/11/11