本发明涉及光学超材料,特别涉及一种截止吸收器。
背景技术:
1、超材料是由一系列精心布置的亚波长工程结构构成的,表现出许多天然材料所没有的独特电磁现象和物理特性,并在天线设计,隐身技术,太阳能电池,传感器等领域有着广泛应用。近年来,随着光学技术的飞速发展,对光的精准调控成为研究热点。传统的吸收材料往往存在吸收效率低、带宽窄、体积大等问题。超材料作为一种,通过精确调控光与物质的相互作用,展现出了卓越的光学性能调控能力。然而,现有的超表面吸收器在特定应用场景下,如需要实现光的完美截止与吸收时,仍面临诸多挑战。
2、在许多应用中,需要在吸收带和非吸收带之间有明显的吸收截止。截止吸收效率可表示为消光比er = 10*log (aa/an) db,其中aa为吸收带内的最小吸收,an为非吸收带内的最大吸收;消光差ed = aa-an;截止斜率cs = (aa-an)/(λa-λn),其中λa为吸收带内的最大波长/最小波长,λn为非吸收带内的最小波长/最大波长。理想情况下,er、ed和cs应尽可能大;这些工作在宽带吸收体领域取得了巨大进展,但没有考虑截止效率,而截止效率在应用中很重要。
技术实现思路
1、针对现有技术中存在的不足,本发明提供了一种基于纳米十字型结构的超表面截止吸收器,为滤过940nm以下波长的光以获得ipl提供了一种有效的方法。
2、本发明的目的是这样实现的:一种基于纳米十字型结构的超表面截止吸收器,包括生长在二氧化硅衬底上的薄膜,所述薄膜上设有纳米十字和纳米圆环组成的装配体阵列,单个纳米十字和单个纳米圆环组成单个装配体,多个装配体形成阵列;所述纳米十字包括形成于薄膜上的si纳米十字和形成于si纳米十字上的gaas纳米十字,所述纳米圆环为gaas纳米圆环,gaas纳米圆环包围gaas纳米十字设置。
3、进一步的,所述衬底为正方形,所述薄膜均匀生长在衬底上,其边长与阵列周期p保持一致。
4、进一步的,所述薄膜为正方形铝膜,铝膜的边长与阵列周期保持一致。
5、进一步的,所述si纳米十字的高度为h1=50-60nm,长度为11=200-220nm,宽度为w1=20-25nm。
6、进一步的,所述gaas纳米十字的高度为h2=100-110nm,长度为l2=245-250nm,宽度w2=30-35nm。
7、进一步的,所述gaas纳米圆环的高度h3=75-80nm,外环半径为r1=142-146nm,内环半径为r2=126-136nm。
8、与现有技术相比,本发明的有益效果在于:本发明在200-690nm之间的波长带(吸收带)中平均吸收为0.967,吸收从690nm波长处的0.941急剧下降到940nm波长处的0.095,在非吸收带940-20000nm波段内平均吸收率仅为0.012;其中消光比er为9.725db,消光差ed为0.793,截止斜率cs为0.233 nm-1;结构中,二氧化硅作为基底支撑结构,铝作为反射层阻止光投射;硅和砷化镓都作为吸收材料,通过改变其结构和尺寸,实现在制定波段的共振从而产生高吸收;而在其他波段,由于其参数不满足共振条件因而无法实现强共振,也就无法实现高吸收。
1.一种基于纳米十字型结构的超表面截止吸收器,其特征在于,包括生长在二氧化硅衬底上的薄膜,所述薄膜上设有纳米十字和纳米圆环组成的装配体阵列,单个纳米十字和单个纳米圆环组成单个装配体,多个装配体形成阵列;所述纳米十字包括形成于薄膜上的si纳米十字和形成于si纳米十字上的gaas纳米十字,所述纳米圆环为gaas纳米圆环,gaas纳米圆环包围gaas纳米十字设置。
2.根据权利要求1所述的一种基于纳米十字型结构的超表面截止吸收器,其特征在于,所述衬底为正方形,所述薄膜均匀生长在衬底上,其边长与阵列周期p保持一致。
3.根据权利要求1或2所述的一种基于纳米十字型结构的超表面截止吸收器,其特征在于,所述薄膜为正方形铝膜,铝膜的边长与阵列周期保持一致。
4.根据权利要求1或2所述的一种基于纳米十字型结构的超表面截止吸收器,其特征在于,所述si纳米十字的高度为h1=50-60nm,长度为11=200-220nm,宽度为w1=20-25nm。
5.根据权利要求1或2所述的一种基于纳米十字型结构的超表面截止吸收器,其特征在于,所述gaas纳米十字的高度为h2=100-110nm,长度为l2=245-250nm,宽度w2=30-35nm。
6.根据权利要求1或2所述的一种基于纳米十字型结构的超表面截止吸收器,其特征在于,所述gaas纳米圆环的高度h3=75-80nm,外环半径为r1=142-146nm,内环半径为r2=126-136nm。