专利名称：:抗静电光学膜的制作方法
技术领域：
：本实用新型涉及一种抗静电光学力莫；具体而言，本实用新型涉及一种用作显示器面板的基材的抗静电光学膜。
背景技术：
：近年来，随着半导体及光电组件制造技术的改良与提升，包含液晶显示器(LiquidCrystalDisplay,LCD)及等离子显示器(PlasmaDisplayPanel,PDP)在内的平面显示器已逐渐普及到现代人的家庭以及办/>室中。为了预防平面显示器的面纟反表面受到外力的刮伤或者因静电所致而与空气中的灰尘黏合，通常会在平面显示器前加上一层耐刮的抗静电薄膜。与抗静电薄膜相关的现有技术，包含日本专利申请案"一种含有磺酸单体和磷酸单体做为离子传导性组合物"(公开号47-34539)中所4皮露的技术内容；日本专利申请案"一种含有链状金属粉末的组合物"(公开号55-78070)中所披露的；日本专利申请案"一种含有三官能丙烯酸酯，具有单官能乙烯不饱和基团的化合物，光起始剂和传导性粉末的光盘材料"(公开号4-172634)中所披露的；日本专利申请案"一种含有氧化锡颗粒，多官能基丙烯酸酯及甲基丙烯酸甲酯共聚物和聚醚丙烯酸酯作为主成分的组合物，，(7>开号60-60166)中所4皮露的；以及，日本专利申i青案"一种含有藉甲硅烷偶合剂及四烷氧基甲硅烷所分散的掺杂锑的氧化锡颗粒的水解产物，光起始剂和有机溶剂的传导性涂料，，(公开号6-264009)中所4皮露的。在以上所列的现有纟支术中，/>开号47-34539的日本专利申"i青案中所揭示的含有离子传导性的物质的组合物不具有充分的抗静电性，且此组合物的抗,争电性又会在干燥期间^皮改变。/>开号55-78070的日本专利申请案中所揭示的组合物因为具有大颗粒直径的链状金属4分末而不具有充分的透明性。在^^开号4-172634的日本专利申请案中所揭示的材料含有高浓度的无机颗粒，导致其透明度差。在公开号60-60166的日本专利申请案中所揭示的组合物含有大量未固化的分散剂，造成经过固化的薄膜不具有充分的硬度。而公开号6-264009的日本专利申请案中所揭示的涂料则不具有长期储存的稳定性。前述现有:f支术的问题，仍有进一步的解决与改善的空间。
实用新型内容本实用新型的目的之一在于提供一种用作显示器面板的基材的抗静电光学膜，具有较好的抗静电效果。本实用新型的另一目的在于提供一种用作显示器面板的基材的抗静电光学膜，具有良好的穿透率。本实用新型的抗静电光学膜包含第一导电光学层以及第二导电光学层。第一导电光学层设置在显示器面板的基材上，由第一树脂形成，内含第一导电材料。第二导电光学层迭合在第一导电光学层上，由第二树脂形成，内含第二导电材料。第一导电光学层的折射率大于第二导电光学层的折射率，且抗静电光学膜的穿透率大于90%。其中，显示器面々反的基材为玻璃或高分子。第一导电光学层的折射率与第二导电光学层的折射率之差值大于O.l。第一导电光学层的厚度为3-20nm。第二导电光学层的厚度为50-200nm。其中，第一树脂为硅氧烷类树脂或有机高分子树脂。第二树脂为含氟硅氧烷类树脂或含氟有机高分子树脂。第一导电材料选自金属微粒、金属氧化物微粒、纳米碳管、导电性高分子或其混合物。第二导电材料选自金属微粒、金属氧化物微粒、纳米碳管、导电性高分子或其混合物。其中，第一导电材料的折射率大于第二导电材料的折射率。第一导电材料的折射率大于1.8,第二导电材料的折射率小于1.6。图1为本实用新型实施示意图；图2为本实用新型优选实施例示意图；图3为光线在本实用新型的行进路径示意图；主要組件符号说明100^t请争电光学月莫310第一树脂500第二导电光学层530第二导电材料810基材300第一导电光学层330第一导电材料510第二树脂800显示器Li入射光具体实施方式如图1所示，本实用新型提供一种抗静电光学膜100，用作显示器800的面板的基材810。其中，显示器800包含但不限于液晶显示器及等离子显示器。显示器面板的基材810可为玻璃或为聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate,PET)、三醋酸纤维(tri-acetylcellulose,TAC)、聚曱基丙烯酸甲酉旨(polymethylmethacrylate,PMMA)、聚苯乙烯(polystyrene,PS)、聚碳酉交酯(polycarbonate,PC)、聚,希烂共聚物(cycloolefinpolymer,COP)等高分子。如图2所示的优选实施例，抗静电光学膜100包含第一导电光学层300以及第二导电光学层500。第一导电光学层300设置在基材810上，厚度优选为3-20|am,由第一树脂310形成，且内含第一导电材冲+330。具体而言，在优选实施例中，第一导电光学层300可以是第一树脂310添加第一导电材并牛330所构成。其中，第一树脂310可选用高穿透率的热塑性树脂或热固性树脂，优选为硅氧烷类树脂或有机高分子树脂，且穿透率大于90%。第一导电材料330选自金属微粒、金属氧化物微粒、纳米碳管、导电性高分子或其混合物，优选为铟锡氧化物(indiumtinoxide，ITO)、铝掺杂氧化锌(aluminum-dopedzincoxide,AZO)、梯捧杂二氧化锡(antimony-dopedtindioxide,ATO)等4斤射率高于1.8的金属氧化物耀:粒o第二导电光学层500厚度优选为50-200nm,迭合于第一导电光学层300上，由第二树脂510形成，内含第二导电材料530。具体而言，在优选实施例中，第二导电光学层500可以是第二树脂510添加第二导电材津+530所构成。其中，第二杉t脂510可选用^[氐穿透率的热塑性树脂或热固性树脂，优选为含氟硅氧烷类树脂或含氟有才几高分子树脂，且穿透率为89%90%。第二导电材冲牛530选自金属微粒、金属氧化物微粒、纳米碳管、导电性高分子或其混合物，优选为聚p塞p分(poly(3，4-ethylenedioxythiophene),PEDOT)等4斤射率小于1.6的导电高分子。其中，第一导电光学层300的第一树脂310与第二导电光学层500的第二树脂510不限于使用相异的材料。如图3所示的优选实施例。由于光线进入到折射率不同的界面时，会产生部分光线反射且部分光线折射的结果，而本实用新型的第一导电光学层300的折射率大于第二导电光学层500的折射率。因此，当入射光Lj进入本实用新型的抗静电光学膜IOO后，会如图3所示在抗静电光学膜100内产生多次反射或折射，进而达到提高穿透率的效果。进一步而言，在优选实施例中，第一导电光学层300的折射率大于第二导电光学层500的折射率，且二者的差值优选大于0.1，本实用新型的抗静电光学膜100的穿透率则大于90%。另一方面，本实用新型的抗静电光学膜100的第一导电光学层300及第二导电光学层500分别具有第一导电材料330及第二导电材料530。换言之，构成本实用新型的抗静电光学膜100的第一导电光学层300及第二导电光学层500均具有可导电性。因此，可提高本实用新型的抗静电光学膜100的抗静电效果。进一步i兌明本实用新型的抗静电光学力莫的穿透率及表面阻抗测试结果，以下第一组至第三组为本实用新型的抗^争电光学〗莫100的不同实施例，第四组至第六《且为已知光学力莫的不同比專交实施例。其中第一组将100重量^f分的紫外光石更化树脂KZ-6249(日商JSR4朱式会社(JapanSyntheticRubberCorp.)制造)加入1重量4分锑4参杂二氧化4易粉末(盘拓公司代理)混合均匀即可得到第一导电光学层涂布液。将第一导电光学层涂布液涂布在厚度80mm的三醋酸纤维素透明基材(FUJIFilm公司制造)上，并置于8(TC循环烘箱中干燥1分钟，再经由能量约为540mJ/cm2的紫外光照射后，即完成第一导电光学层。取赛吩(Thiophene)、苯磺酸铁(Iron(III)画p-tol職esulfonate，Fe(OTs)3)、口米唑(Imidazole)以1:1.75:1的摩尔比混合加入20克反应溶剂丁醇(n-Butanol)于反应弁瓦中，在60。C下力口热回流60分钟，即可得聚p塞吩溶液。将100重量份的热硬化树脂204-33A(NissanChemical制造)加入1重量份上述聚瘗吩溶液混合均匀即可得到第二导电光学层涂布液。将第二导电光学层涂布液涂布在前述第一导电光学层上，并置于80。C循环烘箱中干燥1分钟，再经由能量约为540mJ/cm2的紫外光照射后，即完成层状结构由下而上依序为三醋酸纤维素透明基材、第一导电光学层及第二导电光学层的第一组。第二组将100重量4分的紫外光石更化树脂KZ-6249加入5重量《分锑掺杂二氧化锡粉末混合均匀即可得到第一导电光学层涂布液。将第一导电光学层涂布液涂布在厚度80jum的三醋酸纤维素透明基材上，并置于80。C循环烘箱中干燥1分钟，再经由能量约为540mJ/cm2的紫外光照射后，即完成第一导电光学层。将前述第二导电光学层涂布液涂布在此第一导电光学层上，并置于80。C循环烘箱中干燥1分钟，再经由能量约为540mJ/cm2的紫外光照射后，即完成层状结构由下而上依序为三醋酸纤维素透明基材、第一导电光学层及第二导电光学层的第二组。第三组将100重量份的紫外光硬化树脂KZ-6249加入10重量份锑掺杂二氧化锡#分末混合均匀即可得到第一导电光学层涂布液。将第一导电光学层涂布液涂布在厚度80jum的三醋酸纤维素透明基材上，并置于80。C循环烘箱中干燥1分钟，再经由能量约为540mJ/cm2的紫外光照射后，即完成第一导电光学层。将前述第二导电光学层涂布液涂布在此第一导电光学层上，并置于80。C循环烘箱中干燥1分钟，再经由能量约为540mJ/cm2的紫外光照射后，即完成层状结构由下而上依序为三醋酸纤维素透明基^t、第一导电光学层及第二导电光学层的第三組。第四纟且将100重量份的紫外光硬化树脂KZ-6249加入1重量份锑掺杂二氧化锡粉末混合均匀即可得到第一导电光学层涂布液。将第一导电光学层涂布液涂布在厚度80jam的三醋酸纤维素透明基材上，并置于8(TC循环烘箱中干燥1分钟，再经由能量约为540mJ/cm2的紫外光照射后，即完成三醋酸纤维素透明基材上覆盖有第一导电光学层的第四组。第五组将100重量份的紫外光硬化树脂KZ-6249加入5重量份锑掺杂二氧化锡粉末混合均匀即可得到第一导电光学层涂布液。将第一导电光学层涂布液涂布在厚度80ym之三醋酸纤维素透明基材上，并置于8(TC循环烘箱中干燥1分钟，再经由能量约为540naJ/cm2的紫外光照射后，即完成三醋酸纤维素透明基材上覆盖有第一导电光学层的第五组。第六組将100重量份的紫外光石更化树脂KZ-6249加入10重量4分4弟掺杂二氧化锡粉末混合均匀即可得到第一导电光学层涂布液。将第一导电光学层涂布液涂布在厚度80jum的三醋酸纤维素透明基材上，并置于80。C循环烘箱中干燥1分钟，再经由能量约为540mJ/cm2的紫外光照射后，即完成三醋酸纤维素透明基材上覆盖有第一导电光学层的第六组。以上各组的穿透率及表面阻抗测试结果如下表1所示,<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>进一步而言，第一组及第四组、第二组及第五纟且、第三组及第六组分别具有相同组成的第一导电光学层，4旦第一组至第三组分别在其第一导电光学层上还具有不同组成的第二导电光学层。由以上表1可知，分别与第四组、第五组及第六组比專交，第一组、第二组及第三组具有较高的穿透率及较低的表面阻抗。换言之，本实用新型的抗"^电光学力莫具有高穿透率及导电性良好的性质。虽然前述的描述及图式已揭示本实用新型的优选实施例，必须了解到各种增添、许多修改和取代可能使用在本实用新型的优选实施例中，而不会脱离权利要求所限定的本实用新型原理的精神及范围。熟悉本实用新型所属
技术领域：
：的普通技术人员将可体会，本实用新型可4吏用于许多形式、结构、布置、比例、材料、组件和组件的修改。因此，本文在此所揭示的实施例应被视为用以说明本实用新型，而非用以限制本实用新型。本实用新型的范围应由权利要求的范围所界定，并涵盖其合法等同替换物，并不限于前面的描述。权利要求1.一种抗静电光学膜，用作显示器面板的基材，抗静电光学膜包含第一导电光学层，设置在该基材上，由第一树脂形成，内含第一导电材料；以及第二导电光学层，迭合于该第一导电光学层上，由第二树脂形成，内含第二导电材料；其中，该第一导电光学层的折射率大于该第二导电光学层的折射率，且该抗静电光学膜的穿透率大于90％。2.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其中该第一导电光学层的折射率与该第二导电光学层的折射率的差值大于0.1。3.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其中该第一导电光学层的厚度为3-20jum。4.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其中该第二导电光学层的厚度为50-200nm。5.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其中该第一树脂为硅氧烷类树脂或有机高分子树脂。6.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其中该第二树脂为含氟硅氧烷类树脂或含氟有机高分子树脂。7.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其中该第一导电材料选自金属微粒、金属氧化物微粒、纳米碳管、导电性高分子或其混合物。8.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其中该第二导电材料选自金属微粒、金属氧化物微粒、纳米碳管、导电性高分子或其混合物。9.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其中该第一导电材料的折射率大于该第二导电材料的折射率。10.根据权利要求1所述的抗静电光学膜，其中该第一导电材料的折射率大于1.8,该第二导电材料的折射率小于1.6。专利摘要一种抗静电光学膜，用作显示器面板的基材。抗静电光学膜包含第一导电光学层以及第二导电光学层。第一导电光学层设置在基材上，由第一树脂形成，内含第一导电材料。第二导电光学层迭合于第一导电光学层上，由第二树脂形成，内含第二导电材料。第一导电光学层的折射率大于第二导电光学层的折射率，且抗静电光学膜的穿透率大于90％。文档编号G02B1/10GKCN201331591SQ200820182765公开日2009年10月21日申请日期2008年12月22日发明者杨昆炫,林士斌,翁畅健,陈庆松,陈铭慧申请人:达信科技股份有限公司导出引文BiBTeX,EndNote,RefMan